【技术实现步骤摘要】
一种金属掩模板制备用光罩
[0001]本技术涉及掩模板制备
，具体涉及一种金属掩模板制备用光罩。
技术介绍
[0002]OLED为有机发光二极管，相对于液晶显示器具有重量轻、视角广、响应时间快、耐低温和发光效率高等优点，被视为下一代新型显示技术。一般采用真空热蒸镀技术制备有机电致发光薄膜，即在真空环境中加热有机半导体材料，材料受热升华，通过具有特殊子画素图案的金属掩模板在基板表面形成具有所设计形状的有机薄膜器件叠构，经历多种材料的连续沉积成膜，加上在叠构的两端各镀上阳极及阴极，即可形成具有多层薄膜的OLED发光器件结构。在蒸镀过程中，需要使用金属掩模板来沉积OLED器件的发光层。
[0003]目前掩模板的制作方法有蚀刻法、电铸法等。其中，蚀刻法制作精密金属掩模板应用最为广泛。用此方法制作金属掩模板时，要通过蚀刻工艺将光罩上的图案形成到金属箔材上，因此光罩对于蚀刻法制作掩模板的工艺来说是一种重要的工具。
[0004]光罩上的有效区域内设置有要生成到金属箔材上的图案，该图案由若干透光的贯通孔排列形成。将图案...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金属掩模板制备用光罩，包括本体，其特征在于，所述本体上包括有效区和设置在所述有效区外侧的过渡区；所述过渡区的内侧形成有连接所述有效区和所述过渡区的内蚀刻线，所述过渡区的外侧形成有外蚀刻线；其中，所述内蚀刻线的宽度大于所述外蚀刻线的宽度。2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述内蚀刻线的宽度为80～150μm,所述外蚀刻线的宽度为10～50μm。3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述过渡区还形成有分隔蚀刻线，所述分隔蚀刻线的两端分别与所述外蚀刻线和所述内蚀刻线连接。4.根据权利要求1
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3任一项所述的光罩，其特征在于，所述过渡区构造为跑...
【专利技术属性】
技术研发人员：史小龙，
申请(专利权)人：寰采星科技宁波有限公司，
类型：新型
国别省市：
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