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本实用新型公开了一种金属掩模板制备用光罩，涉及掩模板制备领域，包括本体，所述本体上包括有效区和设置在所述有效区外侧的过渡区；所述过渡区的内侧形成有连接所述有效区和所述过渡区的内蚀刻线，所述过渡区的外侧形成有外蚀刻线；其中，所述内蚀刻线的宽度...
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