一种引线框架水平式双面曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种引线框架水平式双面曝光机，涉及引线框架技术领域，包括两组相对布设输送架，位于两侧所述输送架之间固定布设有限位框体，所述限位框体上下两侧相对布设有曝光机本体；两侧所述曝光机本体之间布设有定位框架，所述定位框架与驱动其沿着输送架方向往复输送的驱动机构连接，定位框架底部相对可滑动布设有两组支撑板；其中，位于所述定位框架内还相对布设有定位板，定位板与支撑板相垂直布设，支撑板与定位板围合形成用于承载引线框架的定位槽；还包括调节机构，本发明专利技术通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。自动化程度更高。自动化程度更高。

【技术实现步骤摘要】
一种引线框架水平式双面曝光机


[0001]本专利技术涉及引线框架
，具体涉及一种引线框架水平式双面曝光机。

技术介绍

[0002]引线框架是半导体封装的基础材料，是集成线路芯片的载体，生产引线框架的主要材料是铜合金，主要通过冲压的方式生产，冲压完成后需要对引线框架进行蚀刻，以实现高密度和多脚数引线框架的生产。
[0003]在现有技术中，如公告号为CN111640726A的专利文件公开了一种引线框架激光的曝光工艺，同步公开了包括压膜辊、干膜辊以及预热装置，预热装置和压膜辊沿引线框架的输送方向依次设置，压膜辊沿引线框架的输送方向并排设置有若干对，且压膜辊为加热辊，干膜辊与压膜辊设置预热装置的同一侧，干膜辊有设置在引线框架两侧的两个；
[0004]但是在实际应用过程中，引线框架在两侧输送架之间输送的过程中存在如下弊端：
[0005]1)由于其自身重力的影响，使得其在输送的过程中表面无法保持绝对水平，进而影响曝光机对其表面的曝光效果和曝光精度；
[0006]2)现有技术通常对其采用单面曝光处理，使得在一面曝光完成后，需要进行翻转后对另一面进行曝光处理，过程较为繁琐；
[0007]在现有技术中，通常需要在其底部设置支撑装置进行支撑，以避免其重力的影响，但是当需要对其进行双面同步曝光时，由于其底部支撑装置的设置，从而对其底部进行遮挡，位于底部的曝光机无法对其下表面进行有效曝光处理，造成双面曝光难以实施。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的在于提供一种引线框架水平式双面曝光机，解决以下技术问题：
[0009]在现有技术中，通常需要在其底部设置支撑装置进行支撑，以避免其重力的影响，但是当需要对其进行双面同步曝光时，由于其底部支撑装置的设置，从而对其底部进行遮挡，位于底部的曝光机无法对其下表面进行有效曝光处理，造成双面曝光难以实施。
[0010]本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
[0011]一种引线框架水平式双面曝光机，包括两组相对布设输送架，位于两侧所述输送架之间固定布设有限位框体，所述限位框体上下两侧相对布设有曝光机本体；
[0012]两侧所述曝光机本体之间布设有定位框架，所述定位框架与驱动其沿着输送架方向往复输送的驱动机构连接，定位框架底部相对可滑动布设有两组支撑板；
[0013]其中，位于所述定位框架内还相对布设有定位板，定位板与支撑板相垂直布设，支撑板与定位板围合形成用于承载引线框架的定位槽；
[0014]还包括调节机构，所述调节机构用于带动支撑板于定位框架中往复滑动。
[0015]优选的，所述驱动机构包括布设于输送架上的齿条板，定位框架两侧相对可转动布设有与齿条板啮合的齿轮。
[0016]优选的，所述定位框架上相对布设限位架，两侧限位架之间可转动布设转轴，转轴两端分别通过皮带轮机构与齿轮传动连接，限位架一侧还固定布设有与转轴固定连接的驱动电机。
[0017]优选的，所述调节机构包括与齿轮固定连接的转盘，转盘表面边缘一侧布设销轴；
[0018]其中，所述转盘一侧可滑动布设推板，销轴可滑动嵌设于推板开设的通槽中，定位框架两侧相应开设滑槽，推板两侧分别通过L型支架贯穿滑槽与支撑板固定连接。
[0019]优选的，所述定位板可滑动布设于定位框架中，定位框架一侧可转动布设螺杆，螺杆上对称布设有螺旋向相反的螺纹；
[0020]其中，所述定位框架一侧开设条槽，螺杆上相对螺旋套设有与定位板固定连接的螺母。
[0021]优选的，所述输送架一侧布设有上料端，另一侧布设有放料端，上料端与放料端分别布设有上料组件以及下料组件；
[0022]优选的，所述上料组件与下料组件分别布设于限位框体上的同步带机构，同步带机构底部设有气缸，气缸底部设有吸附板，吸附板底部均匀布设若干组吸盘。
[0023]本专利技术的有益效果：
[0024](1)本专利技术通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。
[0025](2)本专利技术中，将待曝光的工件置于定位槽中，一方面通过支撑板对工件底部进行支撑，另一方面通过定位板对工件侧面进行限位，使得在曝光的过程中，工件于定位槽中不会出现偏移的现象，曝光稳定性更好；
[0026](3)本专利技术通过驱动机构带动定位框架移送至输送架的上料端，将待曝光的工件置于定位槽中，通过驱动机构带动定位框架朝向曝光机本体方向移送，在移送的过程中，调节机构带动支撑板于定位框架底部往复滑动，使得位于输送架底部的曝光机本体在对引线框架进行曝光时，不会因为支撑板的设置对工件的部分位置进行遮挡，工件底面能够得到充分的曝光处理，曝光效率更高。
附图说明
[0027]下面结合附图对本专利技术作进一步的说明。
[0028]图1是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图一；
[0029]图2是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图二；
[0030]图3是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图三；
[0031]图4是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图四；
[0032]图5是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图五；
[0033]图6是本专利技术一种引线框架水平式双面曝光机的结构示意图六。
[0034]图中：1、输送架；2、限位框体；3、定位框架；4、曝光机本体；5、手柄；6、限位架；101、隔离箱体；102、齿条板；201、同步带机构；202、气缸；203、吸附板；204、吸盘；301、滑槽；302、支撑板；303、定位板；304、定位槽；305、齿轮；401、推板；402、通槽；403、销轴；404、转盘；405、L型支架；501、条槽；502、螺母；503、螺杆；601、驱动电机；602、皮带轮机构；603、转轴。
具体实施方式
[0035]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0036]实施例1
[0037]请参阅图1
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图2所示，本专利技术为一种引线框架水平式双面曝光机，包括两组相对布设输送架1，位于两侧输送架1之间固定布设有限位框体2，限位框体2上下两侧相对布设有曝光机本体4；
[0038]其中，两侧曝光机本体4之间布设有定位框架3，定位框架3与驱动其沿着输送架1方向往复输送的驱动机构连接，定位框架3底部相对可滑动布设有两组支撑板302，位于定位框架3内还相对布设有定位板303，定位板303与支撑板302相垂直布设，支撑板302与定位板303围合形成用于承载引线框架的定位槽304；具体的，将待曝光的工件置于定位槽304中，通过支撑板302对工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种引线框架水平式双面曝光机，包括两组相对布设输送架(1)，位于两侧所述输送架(1)之间固定布设有限位框体(2)，所述限位框体(2)上下两侧相对布设有曝光机本体(4)；其特征在于，两侧所述曝光机本体(4)之间布设有定位框架(3)，所述定位框架(3)与驱动其沿着输送架(1)方向往复输送的驱动机构连接，定位框架(3)底部相对可滑动布设有两组支撑板(302)；其中，位于所述定位框架(3)内还相对布设有定位板(303)，定位板(303)与支撑板(302)相垂直布设，支撑板(302)与定位板(303)围合形成用于承载引线框架的定位槽(304)；还包括调节机构，所述调节机构用于带动支撑板(302)于定位框架(3)中往复滑动。2.根据权利要求1所述的一种引线框架水平式双面曝光机,其特征在于，所述驱动机构包括布设于输送架(1)上的齿条板(102)，定位框架(3)两侧相对可转动布设有与齿条板(102)啮合的齿轮(305)。3.根据权利要求2所述的一种引线框架水平式双面曝光机,其特征在于，所述定位框架(3)上相对布设限位架(6)，两侧限位架(6)之间可转动布设转轴(603)，转轴(603)两端分别通过皮带轮机构(602)与齿轮(305)传动连接，限位架(6)一侧还固定布设有与转轴(603)固定连接的驱动电机(601)。4.根据权利要求3所述的一种引线框...

【专利技术属性】
技术研发人员：高小平，
申请(专利权)人：安徽立德半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：