一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用技术

技术编号:38569217 阅读:15 留言:0更新日期:2023-08-22 21:05
本发明专利技术公开一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用,涉及IC载板线路制作技术领域。该铜面粗化液由以下质量浓度组分组成:硫酸30

【技术实现步骤摘要】
一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及IC载板线路制作
,尤其涉及一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]随着电子产品的小型化、数字化、多功能化,电子元件也逐渐趋向于高精度发展。IC载板作为一种用以封装IC裸芯片的基板,是一种关键专用基础材料,该类型板件线路密度非常高,以至于它所要求的线宽及间距也越来越小。微蚀是IC载板精密线路制作中的一道重要工序,而性能良好的微蚀粗化液,是保证微蚀质量的关键。目前,以硫酸/双氧水体系为主的微蚀体系在行业里得到了广泛的应用。普通的硫酸/双氧水体系微蚀后,铜面粗糙度变化不大,但相对较低的粗糙度会导致铜面与干膜等的结合力下降。且硫酸/双氧水体系的微蚀粗化液中的双氧水在蚀刻过程中易分解,因此,双氧水的稳定性是影响蚀刻效果的关键。另外,现有的微蚀液粗化处理会导致在铜面上很难形成粗化或者形成均一的粗化形貌。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题,本专利技术提供一种IC载板的铜面微蚀粗化液及其制备方法与应用。具体包括以下技术方案:第一方面,提供一种IC载板的铜面微蚀粗化液,由以下质量浓度组分组成:硫酸 30

150g/L,双氧水20

60g/L,双氧水稳定剂2

15g/L,有机醇1

20 g/L,光亮剂1

10g/L,表面活性剂1

10g/L,余量为去离子水;所述的双氧水稳定剂与有机醇的质量比为1:(0.5

3);所述的光亮剂与表面活性剂的质量比为1:(0.5

2.5);所述的双氧水稳定剂为乙二胺、单乙醇胺、三乙醇胺、正丁胺的一种或多种;所述的有机醇为乙二醇、聚乙二醇、正丙醇、丙二醇、1.4

丁二醇、正丁醇中的一种或多种;所述的光亮剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、十六烷基三甲基甜菜碱、十二醇硫酸醋钠中的一种或多种;所述的表面活性剂为丁醇磷酸酯、鲸蜡醇磷酸酯、异辛醇磷酸酯中的一种或多种。
[0004]进一步的,所述的IC载板的铜面微蚀粗化液由以下质量浓度组分组成:硫酸50

120g/L,双氧水25

55g/L,双氧水稳定剂3

10g/L,有机醇5

15 g/L,光亮剂2

6g/L,表面活性剂2

8g/L,余量为去离子水。
[0005]进一步的,所述的IC载板的铜面微蚀粗化液由以下质量浓度组分组成:硫酸 80

100g/L,双氧水30

50g/L,双氧水稳定剂4

8g/L,有机醇8

12 g/L,光亮剂2

4g/L,表面活性剂3

6g/L,余量为去离子水。
[0006]进一步的,所述的双氧水稳定剂与有机醇的质量比为1:(1

2)。
[0007]进一步的,所述的光亮剂与表面活性剂的质量比为1:(1

2)。
[0008]进一步的,所述的IC载板的铜面微蚀粗化液由以下质量浓度组分组成:硫酸 100g/L,双氧水30g/L,乙二胺5g/L,正丙醇10g/L,十二烷基二苯醚二磺酸钠3g/L,丁醇磷酸酯6g/L,余量为去离子水。
[0009]第二方面,提供如第一方面所述的IC载板的铜面微蚀粗化液的制备方法,包括以下步骤:S1.将硫酸加入适量去离子水中搅拌溶解,混合均匀;S2.往步骤S1制得的溶液中加入双氧水稳定剂、有机醇,混合均匀;S3.往步骤S2制得的溶液中加入双氧水,混合均匀;S4.往步骤S3制得的溶液中加入光亮剂与表面活性剂,混合均匀,得到IC载板的铜面微蚀粗化液。
[0010]第三方面,提供一种铜面粗化方法,将第一方面所述的IC载板的铜面微蚀粗化液喷淋到IC载板的铜面上,喷淋方式为水平喷淋,水平喷淋的压力为0.5

1.5kg/cm2。
[0011]进一步的,所述的水平喷淋的时间为30

90s。
[0012]进一步的,所述的IC载板的铜面微蚀粗化液的使用温度为15

30℃。
[0013]本专利技术提供的微蚀粗化液蚀刻速率稳定、粗化程度均匀,能够满足IC载板细线宽电路图形的加工需求。其中,微蚀粗化液中的双氧水稳定剂为有机胺,有机胺可以与铜离子形成稳定的络合物,有机醇可作为粗糙度调节剂使铜面形成均一的粗化形貌,本专利技术通过将双氧水稳定剂与有机醇进行复配从而达到稳定的蚀刻速率和均匀的粗化程度。微蚀粗化液中的光亮剂选用有明显表面活性的光亮剂,既有良好的光亮作用也有一定的清洗效果。另外,选用的表面活性剂为磷酸酯型表面活性剂,磷酸酯可在铜面发生螯合与沉淀两种效应,可以有效阻止铜面因清洗产生的腐蚀。本专利技术将光亮剂与表面活性剂进行复配,从而提高铜面与干膜的结合能力、保证铜面光亮洁净。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本专利技术实施例技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本专利技术试验例1的SEM图;图2为本专利技术试验例2的SEM图;图3为本专利技术试验例3的SEM图;图4为本专利技术试验例4的SEM图;图5为本专利技术对比例4的SEM图;图6为本专利技术对比例9的SEM图;图7为本专利技术对比例10的SEM图;图8为本专利技术对比例16的SEM图;图9为本专利技术对比例18的SEM图;图10为本专利技术对比例20的SEM图。
具体实施方式
[0016]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0017]应当理解,当在本说明书和所附权利要求书中使用时,术语“包括”和
ꢀ“
包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
[0018]还应当理解,在此本专利技术说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本专利技术。如在本专利技术说明书和所附权利要求书中所使用的那样,除非上下文清楚地指明其它情况,否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
[0019]还应当进一步理解,在本专利技术说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/ 或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合,并且包括这些组合。
[0020]为了更充分理解本专利技术的技术本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种IC载板的铜面微蚀粗化液,其特征在于,由以下质量浓度组分组成:硫酸 30

150g/L,双氧水20

60g/L,双氧水稳定剂2

15g/L,有机醇1

20 g/L,光亮剂1

10g/L,表面活性剂1

10g/L,余量为去离子水;所述的双氧水稳定剂与有机醇的质量比为1:(0.5

3);所述的光亮剂与表面活性剂的质量比为1:(0.5

2.5);所述的双氧水稳定剂为乙二胺、单乙醇胺、三乙醇胺、正丁胺的一种或多种;所述的有机醇为乙二醇、聚乙二醇、正丙醇、丙二醇、1.4

丁二醇、正丁醇中的一种或多种;所述的光亮剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、十六烷基三甲基甜菜碱、十二醇硫酸醋钠中的一种或多种;所述的表面活性剂为丁醇磷酸酯、鲸蜡醇磷酸酯、异辛醇磷酸酯中的一种或多种。2.如权利要求1所述的IC载板的铜面微蚀粗化液,其特征在于,由以下质量浓度组分组成:硫酸50

120g/L,双氧水25

55g/L,双氧水稳定剂3

10g/L,有机醇5

15 g/L,光亮剂2

6g/L,表面活性剂2

8g/L,余量为去离子水。3.如权利要求2所述的IC载板的铜面微蚀粗化液,其特征在于,由以下质量浓度组分组成:硫酸 80

100g/L,双氧水30

50g/L,双氧水稳定剂4
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【专利技术属性】
技术研发人员:郝意李晨庆王扩军
申请(专利权)人:深圳市板明科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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