扫描线序号的标注方法和掩膜板技术

本发明专利技术实施例公开了一种扫描线序号的标注方法和掩膜板，涉及液晶显示器技术领域，解决了当液晶面板的尺寸较大时，无法通过数据扫描线的序号准确定位像素点的问题。在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域；在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金属；剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。本发明专利技术实施例主要用在液晶面板的生产中，特别是用在大尺寸的液晶面板生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器技术，尤其涉及扫描线序号的标注方法和掩膜板。
技术介绍
薄膜晶体管(TFT)阵列基板上的数据扫描线和栅极扫描线一般需要编上序号，以 便生产过程中对数据扫描线和栅极扫描线进行辨识、以及在后续检修过程中准确定位各个 像素点。目前对于数据扫描线的序号进行标注的方法为在进行栅极扫描线的掩膜构图工 艺所采用的掩膜板上设有数字图形，这些数字图形需要预先设计在后续形成的数据扫描线 旁边，并且数字部分不透光，这样就可以在栅极扫描线所在的层上形成金属的数字图案。由 于形成的数字图案对应设在数据扫描线的旁边，在数据扫描线形成之后，除了数据扫描线 金属层和栅金属层外，其他的材料都是透明的，这样就可以看到数据扫描线的旁边的数字， 从而实现了对数据扫描线序号的标注。如果需要对栅极扫描线序号进行标注，则可以在形成栅极扫描线的同时，在栅极 扫描线旁边形成数字图案。TFT-IXD (TFT液晶显示器)技术的迅猛发展，液晶面板的尺寸也在不断增大，各 TFT-LCD的厂家纷纷建设新的生产线，以生产出更大尺寸的液晶面板，然而，要新建一条新 的生产线，投资相当巨大。为了节约新建生产线的成本，在目前的生产线上来生产较大尺寸的液晶面板成了 一个行之有效的解决办法，下面举例说明在目前的生产线上来生产较大尺寸的液晶面板的 办法。图1所示的为一个制作栅极扫描线的掩膜板，图中的虚线界定出的局部曝光区域 1、局部曝光区域2和局部曝光区域3，上述3个局部曝光区域内实线所表示的区域均为该掩 膜板具有制作栅极扫描线所需图形的区域，该三个局部曝光区域之间的黑条用来遮光，以 防止在采用其中一个局部曝光区域进行曝光时，遮光板不能准确地遮住其他两个局部曝光 区域。其中，局部曝光区域1的左边和局部曝光区域3的右边的阴影部分是将栅极扫描线 从像素区域中引出并集中的区域；局部曝光区域1右边的灰色部分、局部曝光区域2两侧灰 色部分和局部曝光区域3左边的灰色部分为曝光可重叠的区域。图2所示的为一个制作数据扫描线的掩膜板，和图1有如下不同制作数据扫描线 的掩膜板每个区域上方的阴影部分是将数据扫描线从像素区域中引出并集中的区域，但是 没有了局部曝光区域1的左边和局部曝光区域3的右边的阴影部分。假设以图1中的掩膜板制作栅极扫描线，其具体过程为如图3所示，首先采用该掩膜板的局部曝光区域1对沉积有栅金属的基板进行曝 光，其曝光的区域见图中虚线界定的A部分；然后利用该掩膜板的局部曝光区域2对沉积有 栅金属的基板进行曝光，其曝光的区域见图中虚线界定的B部分，并且曝光先后顺序为从 左至右；最后利用该掩膜板的局部曝光区域3对沉积有栅金属的基板进行曝光，其曝光的区域见图中虚线界定的C部分。在目前的生产线生产大尺寸的液晶面板过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在 如下问题由于掩膜板的某一局部曝光区域需要利用多次，以便完成整块基板的曝光处理， 如果这个时候在掩膜板直接设有数字图形，这将导致利用掩膜板同一局部曝光区域进行曝 光的地方形成相同的序号，进而导致数据扫描线的序号是循环重复的，不能在不同区域形 成具有区别的数据扫描线的序号，当液晶面板的尺寸较大时，就没有办法通过数据扫描线 的序号准确定位像素点。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种扫描线序号的标注方法和掩膜板，使得在不同区域形成 具有区别的扫描线序号，以便于准确定位像素点。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案一种扫描线序号的标注方法，包括(1)在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留 图案、以及光刻胶保留区域；(2)在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；(3)对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金 属；(4)剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。一种掩膜板，包括透光基板，所述透光基板上设有形成扫描线的图形区域，所述图 形区域包括在扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案的图形、以及在扫描线对 应位置旁边形成光刻胶保留区域的图形。如果在进行刻蚀的时候采用了正性光刻胶，本专利技术实施例提供的扫描线序号的标 注方法和掩膜板，由于通过掩膜板进行曝光的过程中将一块区域的光线通过挡光块挡住， 以便形成光刻胶保留区域，然后通过打码的方式在光刻胶上所述挡光块对应的光刻胶保留 区域形成区域编号；在曝光的同时在扫描线对应位置旁边形成了线编号的光刻胶保留图 案。这种形成区域编号的方式可以改变打码过程中所用打码机的镜头就可以改变所形成的 区域编号，如此一来，即使采用掩膜板的某一局部曝光区域多次对光刻胶进行曝光，以便生 产尺寸较大的液晶面板，也可以在光刻胶保留区域打码出不同的区域编号，这样就可以通 过这些不同的区域编号和线编号就可以区分出各个曝光区域之间的扫描线了，以便准确定 位像素点。如果在进行刻蚀的时候采用了负性光刻胶，则需要将上述的挡光块改为透光区 域，以便光线照射到光刻胶上形成光刻胶保留区域；而后续的打码过程则需要将区域编号 的图案部分作为透光部分，以便形成区域编号，本专利技术实施例的方案可以运用到数据扫描线和/或栅极扫描线的掩膜板构图工艺中，可以在不同区域形成具有区别的数据扫描线序号和/或栅极扫描线序号。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以 根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中制作栅极扫描线的掩膜板；图2为现有技术中制作数据扫描线的掩膜板；图3为现有技术中制作栅极扫描线的过程示意图；图4为本专利技术实施例中沉积有栅金属层和光刻胶的基板截面示意图；图5为本专利技术实施例中制作栅极扫描线的掩膜板；图6为本专利技术实施例中制作栅极扫描线的过程示意图；图7为本专利技术实施例中打码出区域编号的基板示意图；图8为本专利技术实施例中曝光后光刻胶的表面放大图；图9为本专利技术实施例中打码后光刻胶的表面放大图；图10为本专利技术实施例中剥离光刻胶后的表面放大图。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于 本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例1 本专利技术实施例提供的扫描线序号标注方法既可以用于栅极扫描线序号的标注，也 可用于数据扫描线序号的标注。下面结合附图，详细介绍在制作栅极扫描线的同时对数据 扫描线序号进行标注的方法，并且本实施例中所采用的光刻胶为正性光刻胶。首先，如图4所示，在较大尺寸的玻璃基板10上沉积栅金属层11，然后在所述栅金 属层11上涂敷光刻胶12。由于玻璃基板10尺寸较大，需要对上述光刻胶12进行分区域的曝光，其采用的掩 膜板如图5所示，该掩膜板包括局部曝光区域4、局部曝光区域5和局部曝光区域6，该三个 局部曝光区域内实线部分为具有制作栅极扫描线图形的区域。为了能够对数据扫描线序号 进行标注，本实施例中掩膜板上对应于每个数据扫描线旁边的位置设置有数字图案(即线 编号的图形)，这些本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种扫描线序号的标注方法，其特征在于，包括：（１）在对光刻胶进行曝光时，在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域；（２）在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案；（３）对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理，并刻蚀掉显影处理后露出的金属；（４）剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕敬，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]