半导体机台组的投片量控制方法和装置制造方法及图纸

本申请实施例公开了一种半导体机台组的投片量控制方法和装置。该方案可以根据历史生产信息计算机台组的历史每日过片量，获取生产计划信息中的计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过机台组的次数，根据计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过机台组的次数计算机台组的平均每日过片量，将历史每日过片量与平均每日过片量进行对比，以根据对比结果调整生产计划信息中机台组的工艺路线。本申请通过未来的产能计划自动计算半导体机台组的平均每日过片量，从而对现有每一条工艺路线中的机台组的过片量进行调整，可以实现降低生产周期的目的。可以实现降低生产周期的目的。可以实现降低生产周期的目的。

【技术实现步骤摘要】
半导体机台组的投片量控制方法和装置


[0001]本申请涉及半导体
，具体涉及一种半导体机台组的投片量控制方法和装置。

技术介绍

[0002]在半导体器件生产的过程中，目前工厂的投片计划是依据计划部门公布的工厂全年主生产计划，按照不同的生产周期计算出每个月需要投片的数量，参考每月需要投片的数量平均分配至每一天。根据销售提供的订单先后顺序及客户需求进行投片。主生产计划是依据销售提供的预测，计划部门复核工厂机台的静态产能是否满足。
[0003]现有技术中，目前主要通过人工线性投片，而由于生产周期在半导体或是任何制造业都是非常关键的竞争力指标，因此通过人为预测及线上生产的晶圆堆积在瓶颈机台反馈至计划端调整投片，这样的反馈存在滞后性，将会导致部分机台产能的浪费和超载，进一步影响产品的生产周期。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种半导体机台组的投片量控制方法和装置，可以根据未来的产能计划自动计算半导体机台组的平均每日过片量，从而对现有每一条工艺路线中的机台组的过片量进行调整，可以实现降低生产周期的目的。
[0005]本申请实施例提供一种半导体机台组的投片量控制方法，包括：根据历史生产信息计算机台组的历史每日过片量；获取生产计划信息中的计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数；根据所述计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量；将所述历史每日过片量与所述平均每日过片量进行对比，以根据所述对比结果调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线。r/>[0006]在一实施例中，根据所述计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量，包括：根据所述计划时间段和晶圆数量计算所述晶圆的平均每日投片量；根据所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量。
[0007]在一实施例中，根据所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量，包括：获取所述晶圆经过所述机台组所需消耗的时长；根据所述消耗的时长、所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量。
[0008]在一实施例中，所述方法还包括：
根据所述晶圆经过所述机台组所需消耗的时长计算所述机台组的最大每日过片量。
[0009]在一实施例中，根据所述对比结果调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线，包括：当所述历史每日过片量大于所述平均每日过片量时，则将当前机台组的超额过片量划分至所述生产计划信息中其他工艺路线中的机台组当中；当所述历史每日过片量不大于所述平均每日过片量时，则从所述生产计划信息中其他工艺路线中的机台组当中划分差额过片量至当前机台组，且划分后的当前机台组的过片量不超过所述最大每日过片量。
[0010]在一实施例中，所述生产计划信息中的晶圆数量的获取方式包括：获取所述生产计划信息中的晶圆批次数量以及每批次中的晶圆片数；根据所述晶圆批次数量以及每批次中的晶圆片数计算所述生产计划信息中的晶圆数量。
[0011]在一实施例中，所述方法还包括：当检测到机台组当中存在故障时，计算存在故障机台组的剩余过片量；根据所述剩余过片量调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线。
[0012]本申请实施例还提供一种半导体机台组的投片量控制装置，包括：第一计算模块，用于根据历史生产信息计算机台组的历史每日过片量；获取模块，用于获取生产计划信息中的计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数；第二计算模块，用于根据所述计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量；调整模块，用于将所述历史每日过片量与所述平均每日过片量进行对比，以根据所述对比结果调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线。
[0013]本申请实施例还提供一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器通过调用所述存储器中存储的所述计算机程序，执行本申请实施例提供的任一项所述半导体机台组的投片量控制方法中的步骤。
[0014]本申请实施例还提供一种存储介质，其特征在于，所述存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序适于处理器进行加载，以执行本申请实施例提供的任一项所述半导体机台组的投片量控制方法中的步骤。
[0015]本申请实施例提供的半导体机台组的投片量控制方法，可以根据历史生产信息计算机台组的历史每日过片量，获取生产计划信息中的计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过机台组的次数，根据计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过机台组的次数计算机台组的平均每日过片量，将历史每日过片量与平均每日过片量进行对比，以根据对比结果调整生产计划信息中机台组的工艺路线。本申请通过未来的产能计划自动计算半导体机台组的平均每日过片量，从而对现有每一条工艺路线中的机台组的过片量进行调整，可以实现降低生产周期的目的。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本申请实施例提供的半导体机台组的投片量控制系统的一种结构示意图；图2是本申请实施例提供的半导体机台组的投片量控制方法的一种流程示意图；图3是本申请实施例提供的半导体机台组的投片量控制方法的另一种流程示意图；图4是本申请实施例提供的半导体机台组的投片量控制装置的一种结构示意图。
具体实施方式
[0018]这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。
[0019]需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素，此外，本申请不同实施例中具有同样命名的部件、特征、要素可能具有相同含义，也可能具有不同含义，其具体含义需以其在该具体实施例中的解释或者进一步结合该具体实施例中上下文进行确定。
[0020]应该理解的是，虽然本申请实施例中的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体机台组的投片量控制方法，其特征在于，包括：根据历史生产信息计算机台组的历史每日过片量；获取生产计划信息中的计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数；根据所述计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量；将所述历史每日过片量与所述平均每日过片量进行对比，以根据所述对比结果调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线。2.如权利要求1所述的半导体机台组的投片量控制方法，其特征在于，根据所述计划时间段、晶圆数量以及晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量，包括：根据所述计划时间段和晶圆数量计算所述晶圆的平均每日投片量；根据所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量。3.如权利要求2所述的半导体机台组的投片量控制方法，其特征在于，根据所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量，包括：获取所述晶圆经过所述机台组所需消耗的时长；根据所述消耗的时长、所述平均每日投片量和晶圆经过所述机台组的次数计算所述机台组的平均每日过片量。4.如权利要求3所述的半导体机台组的投片量控制方法，其特征在于，所述方法还包括：根据所述晶圆经过所述机台组所需消耗的时长计算所述机台组的最大每日过片量。5.如权利要求4所述的半导体机台组的投片量控制方法，其特征在于，根据所述对比结果调整所述生产计划信息中机台组的工艺路线，包括：当所述历史每日过片量大于所述平均每日过片量时，则将当前机台组的超额过片量划分至所述生产计划信息中其他工艺路线中的机台组当中；当所述历史每日过片量不大于所述平均每日过片量时，则从所述生产计划信息中其他工艺路线...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁庆忠，郑文杰，吴天生，
申请(专利权)人：粤芯半导体技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：