一种气帘支架及刻蚀设备制造技术

本发明专利技术提供了一种气帘支架及刻蚀设备，刻蚀设备的刻蚀室的出口处设有气帘，所述气帘位于所述气帘支架上，所述气帘支架包括：用以与所述气帘的安装面固定连接的支撑杆，所述支撑杆上与所述安装面相贴合的部分为平面；用以调节所述支撑杆高度及角度的调节机构，所述调节机构位于所述刻蚀室内壁上。本发明专利技术提供的气帘支架及刻蚀设备，在相关技术气帘支架上增设了支撑杆，该支撑杆与气帘的安装面固定连接，即将相关技术中气帘支架对气帘点对点的固定连接方式变为了面对面的连接方式，最大程度的增加了固定接触面积，以解决相关技术中因点对点的连接方式造成的气帘形变的问题。的连接方式造成的气帘形变的问题。的连接方式造成的气帘形变的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种气帘支架及刻蚀设备


[0001]本专利技术涉及刻蚀设备
，尤其涉及一种气帘支架及刻蚀设备。

技术介绍

[0002]半导体尤其是薄膜晶体管液晶显示器的阵列制造工艺中均需要通过对若干层金属层进行镀膜、光刻、刻蚀、去胶工艺后形成规则的电路图案，从而驱动各个元器件动作。
[0003]其中，刻蚀工艺中用到的刻蚀设备具有一个供基板进出的刻蚀室，基板在刻蚀室内完成刻蚀，刻蚀室的出口处设有气帘，其主要作用是清除基板上的杂质或多余的刻蚀液。现有的气帘由气帘支架承载固定，在使用过程中容易发生形变，影响刻蚀效果。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术的目的在于提出一种气帘支架及刻蚀设备，以解决现有技术中的气帘容易发生形变的问题。
[0005]基于上述目的，本专利技术提供了一种气帘支架，用于刻蚀设备的刻蚀室，所述刻蚀室的出口处设有气帘，所述气帘位于所述气帘支架上，所述气帘支架包括：
[0006]用以与所述气帘的安装面固定连接的支撑杆，所述支撑杆上与所述安装面相贴合的部分为平面；
[0007]用以调节所述支撑杆高度及角度的调节机构，所述调节机构位于所述刻蚀室内壁上。
[0008]进一步，所述支撑杆的两端各设有一所述调节机构，所述调节机构包括相连接的升降座和至少两组升降件，所述升降座在所述至少两组升降件上升降，所述支撑杆的端部位于所述升降座内或贯穿所述升降座设置，并能相对所述升降座转动。
[0009]进一步，所述调节机构还包括底座，所述至少两组升降件位于所述底座上，所述底座位于所述刻蚀室内壁上，所述升降件包括螺杆、第一升降螺母和第二升降螺母，所述螺杆的底部与所述底座固定连接，其顶部贯穿所述升降座设置，所述升降座能相对于所述螺杆上下移动，所述第一升降螺母与所述第二升降螺母均螺纹连接于所述螺杆上，且分别位于所述升降座的两侧，以对位于所述螺杆上的升降座进行定位。
[0010]进一步，所述升降座上设有与所述支撑杆的端部抵接的顶紧螺母。
[0011]进一步，还包括位于所述支撑杆两端之间的至少一辅助吊架，所述辅助吊架的一端与所述刻蚀室内顶面固定连接，其另一端与所述支撑杆活动连接，且该另一端能相对所述刻蚀室的顶面上下移动。
[0012]进一步，所述支撑杆上设有与所述辅助吊架远离所述刻蚀室顶面的一端活动配合的第一卡箍。
[0013]进一步，所述第一卡箍的外表面设有弧形滑槽，所述辅助吊架远离所述刻蚀室顶面的一端活动连接有滑头，所述滑头位于所述滑槽内，且与所述滑槽滑动配合。
[0014]进一步，所述第一卡箍的两端用以与所述气帘的安装面固定连接。
[0015]基于同一专利技术构思，本申请还提供了一种刻蚀设备，包括，
[0016]刻蚀室；
[0017]气帘，设置在所述刻蚀室的出口处；以及
[0018]上述任一所述的气帘支架，用于固定所述气帘。
[0019]进一步，所述气帘支架的支撑杆上设有与所述气帘的安装面固定连接的第二卡箍。
[0020]从上面所述可以看出，本专利技术提供的气帘支架及刻蚀设备，在气帘支架上增设了支撑杆，该支撑杆与气帘的安装面固定连接，即将相关技术中气帘支架对气帘点对点的固定连接方式变为了面对面的连接方式，最大程度的增加了固定接触面积，以解决相关技术中因点对点的连接方式造成的气帘形变的问题；
[0021]另外，相关技术中的气帘支架直接作用于气帘，以调节气帘的高度或角度，而本申请中的调节机构为直接作用于支撑杆即可完成对气帘高度或角度的调节，该支撑杆对于气帘既可以起到支撑作用，也可以起到一定的保护作用，可以降低气帘在调整过程中损坏的可能性，延长气帘的使用寿命。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为相关技术中刻蚀设备中气帘支架的结构示意图；
[0024]图2为本专利技术实施例中刻蚀设备中气帘支架的平面结构示意图一；
[0025]图3为本专利技术实施例中刻蚀设备中气帘支架的平面结构示意图二；
[0026]图4为图2的立体结构示意图；
[0027]图5为图2的截面结构示意图；
[0028]图6为图5中支撑杆及气帘角度调节后的示意图；
[0029]图7为图5的局部放大示意图；
[0030]图8为本专利技术实施例中滑头的结构示意图。
[0031]附图标记说明：
[0032]100、气帘；110、安装面；120、气帘出口；200、吊杆；210、高度调节杆；220、连接杆；230、角度调节杆；300、支撑杆；400、调节机构；410、底座；420、升降座；430、升降件；431、螺杆；432、第一升降螺母；433、第二升降螺母；440、顶紧螺母；500、辅助吊架；510、滑头；600、第一卡箍；610、滑槽；700、第二卡箍；800、刻蚀室。
具体实施方式
[0033]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。
[0034]需要说明的是，除非另外定义，本专利技术实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第
二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0035]相关技术中，如图1所示，气帘100由气帘支架承载固定，气帘100为长条形，气帘支架由固定于刻蚀室800顶壁上的三根吊杆200组成，该三根吊杆200分别与气帘100的间隔的三个固定位点连接，以将气帘100稳定吊起，但是气帘100的材质为PVC材质，容易发生形变，其发生形变的位置主要为除固定位点以外的位置，由此，气帘出口120的高度均一性较差，无法保障对刻蚀后基板上的杂质或多余的刻蚀液的清除效果。
[0036]基于上述技术问题，在研究过程中发现，如果将气帘100的固定点位增多，即可从一定程度上缓解其发生形变的问题。
[0037]本专利技术提供一种气帘支架，用于刻蚀设备的刻蚀室800，所述刻蚀室800的出口处设有气帘100，所述气帘100位于所述气帘支架上，如图2、图5所示，所述气帘支架包括：
[0038]用以与所述气帘100的安装面110固定连接的支撑杆300，所述支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气帘支架，其特征在于，用于刻蚀设备的刻蚀室，所述刻蚀室的出口处设有气帘，所述气帘位于所述气帘支架上，所述气帘支架包括：用以与所述气帘的安装面固定连接的支撑杆，所述支撑杆上与所述安装面相贴合的部分为平面；用以调节所述支撑杆高度及角度的调节机构，所述调节机构位于所述刻蚀室内壁上。2.根据权利要求1所述的气帘支架，其特征在于，所述支撑杆的两端各设有一所述调节机构，所述调节机构包括相连接的升降座和至少两组升降件，所述升降座在所述至少两组升降件上升降，所述支撑杆的端部位于所述升降座内或贯穿所述升降座设置，并能相对所述升降座转动。3.根据权利要求2所述的气帘支架，其特征在于，所述调节机构还包括底座，所述至少两组升降件位于所述底座上，所述底座位于所述刻蚀室内壁上，所述升降件包括螺杆、第一升降螺母和第二升降螺母，所述螺杆的底部与所述底座固定连接，其顶部贯穿所述升降座设置，所述升降座能相对于所述螺杆上下移动，所述第一升降螺母与所述第二升降螺母均螺纹连接于所述螺杆上，且分别位于所述升降座的两侧，以对位于所述螺杆上的升降座进行定位。4.根据权利要求2或3所述的气...

【专利技术属性】
技术研发人员：辜义贤，邱双，余鹏，
申请(专利权)人：成都京东方显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：