一种晶圆研磨抛光设备制造技术

本公开提供了一种晶圆研磨抛光设备，包括：研磨室、研磨盘、研磨液添加机构与研磨液清洗机构；研磨盘设置在所述研磨室内，用于研磨晶圆；研磨液添加机构用于给所述研磨盘添加研磨液；研磨液清洗机构设置在所述研磨室的内壁上，用于清洁甩溅到所述研磨室内壁上的研磨液。本公开的晶圆研磨抛光设备，在靠近研磨室内壁处设置研磨液清洗机构，以用于对被研磨盘甩至研磨室四周墙壁上的研磨液进行冲刷清洁，防止研磨液结晶，从而避免了在研磨盘运行过程中产生的机械振动，使研磨液结晶被震落，防止了因研磨液结晶掉落在研磨盘上，对正在进行或即将研磨的晶圆造成的机械划伤。即将研磨的晶圆造成的机械划伤。即将研磨的晶圆造成的机械划伤。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆研磨抛光设备


[0001]本公开涉及晶圆研磨抛光领域，尤其涉及一种晶圆研磨抛光设备。

技术介绍

[0002]研磨抛光机是一种集研磨和抛光为一体的设备，安装研磨盘可进行研磨作业，安装抛光盘可进行抛光作业。在晶圆的研磨抛光制程中，其工作原理是研磨抛光机上的电动机带动研磨(或抛光)盘高速旋转，由于海绵(或羊毛)和研磨液的共同作用，在晶圆表面产生摩擦，从而达到清除晶圆表面污染、浅划痕和氧化层的目的，并提高光亮度。
[0003]但是，由于离心力原因，研磨液容易被甩至研磨室四周的墙壁上，研磨液易结晶，结晶聚集后，设备在进行机械运动时，由于震动，研磨液结晶容易被震落，如掉落在研磨(或抛光)盘上，会对正在进行或即将研磨的晶圆造成机械划伤。

技术实现思路

[0004]本公开的主要目的在于提供一种晶圆研磨抛光设备，以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。
[0005]为了实现上述目的，本公开提供了一种晶圆研磨抛光设备，包括：研磨室、研磨盘、研磨液添加机构与研磨液清洗机构；研磨盘设置在所述研磨室内，用于研磨晶圆；研磨液添加机构用于给所述研磨盘添加研磨液；研磨液清洗机构设置在所述研磨室的内壁上，用于清洁甩溅到所述研磨室内壁上的研磨液。
[0006]在一可实施方式中，所述研磨液清洗机构包括喷头、供水管路与气控管路，所述供水管路与所述喷头连接，所述气控管路连接在所述供水管路上。
[0007]在一可实施方式中，所述研磨液添加机构包括研磨液储存罐、气压控制阀与研磨液添加管路，所述研磨液添加管路与所述研磨液储存罐连接，所述气压控制阀设置在所述研磨液添加管路上，所述气控管路连接至所述气压控制阀。
[0008]在一可实施方式中，所述研磨液清洗机构包括用于固定所述喷头的支撑架，所述支撑架靠近所述研磨室的内壁设置。
[0009]在一可实施方式中，所述支撑架上设置有喷头调节机构，所述喷头调节机构包括调节电机、调节丝杆与丝杆滑板，所述调节丝杆与调节电机的输出轴相连，所述丝杆滑板螺旋设置在所述调节丝杆上，所述丝杆滑板与所述喷头固定连接。
[0010]在一可实施方式中，所述喷头调节机构还包括支撑滑柱，所述支撑滑柱从所述丝杆滑板远离所述调节丝杆的一端穿过，所述支撑滑柱平行于所述调节丝杆设置。
[0011]在一可实施方式中，所述调节丝杆延竖直方向设置，所述丝杆滑板在所述调节丝杆上可上下移动。
[0012]在一可实施方式中，在所述丝杆滑板上设置多个所述喷头。
[0013]在一可实施方式中，所述喷头的喷嘴朝向研磨室的内壁设置，且所述喷嘴的轴线与所述研磨室的内壁形成0
‑
90
°
的夹角。
[0014]在一可实施方式中，在所述研磨室内壁的底部设置污水槽，所述污水槽用于收集被冲刷下的研磨液与水。
[0015]本公开的晶圆研磨抛光设备，在靠近研磨室内壁处设置研磨液清洗机构，以用于对被研磨盘甩至研磨室四周墙壁上的研磨液进行冲刷清洁，防止研磨液结晶，从而避免了在研磨盘运行过程中产生的机械振动，使研磨液结晶被震落，防止了因研磨液结晶掉落在研磨盘上，对正在进行或即将研磨的晶圆造成的机械划伤。
[0016]应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0017]通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：
[0018]在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
[0019]图1是本公开一个实施例的晶圆研磨抛光设备的结构示意图；
[0020]图2是本公开一个实施例的支撑架的结构示意图。
[0021]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0022]1、研磨室；2、研磨盘；3、研磨液添加机构；31、研磨液储存罐；32、储气罐；33、气压控制阀；34、研磨液添加管路；4、研磨液清洗机构；41、喷头；42、供水管路；43、气控管路；44、储水罐；5、支撑架；51、喷头调节机构；511、调节电机；512、调节丝杆；513、丝杆滑板；514、支撑滑柱。
具体实施方式
[0023]为使本公开的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而非全部实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0024]参照图1，本公开的实施例提供一种晶圆研磨抛光设备，包括：研磨室1、研磨盘2、研磨液添加机构3与研磨液清洗机构4。研磨盘2设置在研磨室1内，用于研磨晶圆；研磨液添加机构3用于给研磨盘2添加研磨液。
[0025]参照图1，具体的，研磨液添加机构3包括研磨液储存罐31、气压控制阀33、储气罐32与研磨液添加管路34，研磨液添加管路34与研磨液储存罐31连接，气压控制阀33设置在研磨液添加管路34上，气控管路43用于连接储气罐32与气压控制阀33，从而可以通过气压控制阀33对研磨液添加管路34进行气控，若研磨盘2正在研磨晶圆，则打开气压控制阀33，向研磨盘2上添加研磨液；若研磨盘2未在研磨晶圆，则关闭气压控制阀33，不向研磨盘2上添加研磨液。
[0026]在本公开的实施例中，研磨液清洗机构4设置在研磨室1内，并可向研磨室1的内壁喷水，以达到清洁甩溅到研磨室1内壁上的研磨液的目的。
[0027]参照图1，具体的，研磨液清洗机构4包括喷头41、供水管路42、储水罐44与气控管
路43，喷头41通过供水管路42与储水罐44连接，气控管路43的一端连接在供水管路42上，另一端连接在储气罐32上，以利用研磨液添加机构3原有的动力源，即储气罐32，简化机构。
[0028]参照图1和图2，研磨液清洗机构4还包括用于固定喷头41的支撑架5，支撑架5靠近研磨室1的内壁设置。支撑架5上设置有喷头调节机构51，喷头调节机构51包括调节电机511、调节丝杆512与丝杆滑板513，调节丝杆512与调节电机511的输出轴相连，丝杆滑板513螺旋设置在调节丝杆512上，喷头41固定设置在丝杆滑板513上。调节丝杆512沿竖直方向设置，可以通过调节电机511带动调节丝杆512的转动，再通过调节丝杆512的转动使得丝杆滑板513上下运动，从而达到调整喷头41高度的目的。在使用过程中，根据研磨室1内壁上研磨液的主要聚集处，调整喷头41的高度，使得喷头41可以向研磨液集聚处喷水，提高对研磨室1内壁上研磨液的清洁效果。
[0029]在本公开的实施例中，喷头调节机构51还包括支撑滑柱514，支撑滑柱514从丝杆滑板513远离调节丝杆512的一端穿过，支撑滑柱514平行于调节本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆研磨抛光设备，其特征在于，包括：研磨室(1)；研磨盘(2)，用于研磨晶圆，设置在所述研磨室(1)内；研磨液添加机构(3)，用于给所述研磨盘(2)添加研磨液；研磨液清洗机构(4)，用于清洁甩溅到所述研磨室(1)内壁上的研磨液，设置在所述研磨室(1)的内壁上。2.根据权利要求1所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液清洗机构(4)包括喷头(41)、供水管路(42)与气控管路(43)，所述供水管路(42)与所述喷头(41)连接，所述气控管路(43)连接在所述供水管路(42)上。3.根据权利要求2所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液添加机构(3)包括研磨液储存罐(31)、气压控制阀(33)与研磨液添加管路(34)，所述研磨液添加管路(34)与所述研磨液储存罐(31)连接，所述气压控制阀(33)设置在所述研磨液添加管路(34)上，所述气控管路(43)连接至所述气压控制阀(33)。4.根据权利要求2所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液清洗机构(4)包括用于固定所述喷头(41)的支撑架(5)，所述支撑架(5)靠近所述研磨室(1)的内壁设置。5.根据权利要求4所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述支撑架(5)上设置有喷头调节机构(51)，所述喷头调节机构(51)...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐广安，解攀柱，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：