【技术实现步骤摘要】
一氟甲烷的制备方法和制备装置系统
[0001]本专利技术属于制备特种气体的
,涉及一种含氟特种气体的制备方法及制备装置系统,尤其涉及一种一氟甲烷的制备方法和制备装置系统。
技术介绍
[0002]一氟甲烷(CH3F),代号为HFC
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41或R41,沸点为
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78.2℃,标况下是无色、无味、无毒的易燃气体,具有较低的全球表暖潜值和零臭氧损耗潜值。在集成电路制造过程中,高纯CH3F(纯度≥99.999vol%)作为Si3N4的各向异性刻蚀气体,对SiO2及Si具有较高的选择性,在先进制程中微细结构的蚀刻方面受到关注,常用于3D NAND、DRAM以及FinFET半导体器件的制造。
[0003]现有技术中的一氟甲烷的合成方法主要包括以下几种:
[0004]方法一:
[0005]以CH3Cl为原料,在固体酸催化下与HF进行氟氯交换制备CH3F。该方法需多次将产物中未反应的CH3Cl及HF循环至装填催化剂的反应器中继续反应,流程复杂,增加了生产难度。
[0006] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种一氟甲烷的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:混合冠醚、碳酸二甲酯与碱金属氟化物,加热反应,得到一氟甲烷气体;冠醚中存在直径≥碱金属氟化物中碱金属离子的直径的孔穴,并不要求冠醚中所有孔穴的直径均≥碱金属氟化物中碱金属离子的直径。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述冠醚包括12
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冠醚
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4、15
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冠醚
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5或18
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冠醚
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6中的任意一种或至少两种的组合;所述冠醚为碱金属氟化物摩尔量的0.5%至10%。3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述碱金属氟化物包括氟化锂、氟化钠或氟化钾中的任意一种或至少两种的组合;所述碱金属氟化物与碳酸二甲酯的摩尔比为1:3至1:10。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述加热反应的温度为40℃至100℃。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:(1)混合冠醚、碳酸二甲酯与碱金属氟化物,加热反应,得到一氟甲烷气体与反应后料液;(2)分离回收步骤(1)所得反应后料液中的冠醚,得到分离料液;然后混合分离料液与过量的一氯甲烷,反应得到碳酸二甲酯。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述一氯甲烷与步骤(1)所述碱金属氟化物的摩尔比为1.5:1至4:1;步骤(2)所述反应的温度为80℃至170℃,时间为1h至4h。7.一种用于权利要求1
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6任一项所述制备方法的制备装置系统,其特征在于,所述制备装置系统包括气体发生单元、精馏单元与氮气清洁单元;所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:董玉成,陈建永,张东阳,
申请(专利权)人:天津绿菱气体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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