用于处理基板的设备和用于处理基板的方法技术

本发明专利技术提供了一种用于处理基板的方法。所述用于处理基板的方法包括：监测步骤，其计算液体的流量，将计算出的液体的测量流量与正常状态下液体的设定流量进行比较，并确定所述测量流量是否发生错误；以及当在监测步骤中确定所述测量流量发生错误时进行的反馈步骤，所述反馈步骤对排放到基板的液体的排放流量进行反馈控制，其中所述反馈步骤确定所述错误的类型，并且根据错误的所确定的类型来不同地执行所述反馈控制。所述反馈控制。所述反馈控制。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法


[0001]本专利技术涉及一种用于处理基板的设备和一种用于处理基板的方法，并且更具体地，涉及一种向基板供应液体并处理基板的用于处理基板的设备和一种用于处理基板的方法。

技术介绍

[0002]通常，执行诸如光学工艺、蚀刻工艺、离子注入工艺和沉积工艺的各种工艺以制造半导体器件。在每个工艺中，向基板供应液体以执行预定处理。
[0003]在用于向基板供应液体的液体供应装置中，设置实时监测液体的流量的测量单元以稳定地向基板供应液体。基于测量单元监测到的液体的流量来确定当前供应到基板的液体的流量。另外，基于测量单元监测到的液体的流量，当调节安装在液体流动通过的管道中的阀的开闭比率时，根据方案调节供应到基板的液体的流量。
[0004]如上所述，由于阀的开闭比率是基于测量单元测量的液体的流量来调节的，因此如果测量单元未能准确地测量流动通过管道的液体的流量(如果发生错误)，则不能向基板供应具有适合所述方案的流量的液体。另外，当由于各种原因无法测量管道中流动的液体的流量时，会出现流量波动现象。例如，当所测得的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理基板的方法，包括：监测步骤，其计算液体的流量，将计算出的所述液体的测量流量与正常状态下所述液体的设定流量进行比较，并且确定所述测量流量是否发生错误；以及当在所述监测步骤中确定所述测量流量发生错误时进行的反馈步骤，所述反馈步骤对排放到所述基板的所述液体的排放流量执行反馈控制，其中，所述反馈步骤确定所述错误的类型，并且根据所述错误的所确定的类型来不同地执行所述反馈控制。2.根据权利要求1所述的用于处理基板的方法，其中，所述错误的所述类型包括：第一错误状态，在所述第一错误状态下，所述测量流量偏离所述设定流量的范围，但计算所述测量流量；和第二错误状态，在所述第二错误状态下，不计算所述测量流量。3.根据权利要求2所述的用于处理基板的方法，其中，所述反馈步骤包括在所述第一错误状态下执行的第一反馈模式，其中，所述第一反馈模式改变反馈控制的周期、所述设定流量的范围、以及配置为控制所述排放流量的阀的开闭比率中的至少一者。4.根据权利要求3所述的用于处理基板的方法，其中，在所述第一反馈模式中，所述反馈控制的周期被调整为比所述正常状态的反馈控制的周期更短。5.根据权利要求3所述的用于处理基板的方法，其中，在所述第一反馈模式中，降低所述设定流量范围的上限并且提高所述设定流量范围的下限。6.根据权利要求3所述的用于处理基板的方法，其中，在所述第一反馈模式中，所述阀的开闭比率被调整为比所述正常状态的所述阀的开闭比率更小。7.根据权利要求3至6中任一项所述的用于处理基板的方法，其中，所述反馈步骤还包括在所述第二错误状态下执行的第二反馈模式，并且所述第二种反馈模式基于所述设定流量来计算所述液体的当前预测流量数据，并且基于所述预测流量数据执行对所述排放流量的反馈控制。8.根据权利要求7所述的用于处理基板的方法，其中，在所述监测步骤中，所述测量流量在所述液体流动通过的管道的一个点处振荡超声波，在所述管道的另一点处接收所述超声波，并且测量和计算所述超声波从所述一个点到所述另一点的到达时间。9.根据权利要求8所述的用于处理基板的方法，其中，当所述液体中存在气泡时发生所述错误。10.根据权利要求9所述的用于处理基板的方法，其中，所述第一错误状态包括振荡到所述管道中的所述超声波被所述气泡折射并被接收，并且所述超声波的信号被延迟的状态。11.根据权利要求9所述的用于处理基板的方法，其中，所述第二错误状态包括振荡到所述管道中的超声波被所述气泡折射，但未接收到所述超声波的信号的状态。12.根据权利要求1所述的用于处理基板的方法，其中，所述液体包括清洁所述基板的清洁液。13.一种用于控制流量的方法，所述方法包括：监测步骤，其在液体流动通过的管道中的一个点处振荡...

【专利技术属性】
技术研发人员：金宰弘，赵亨濬，孙相睍，河相民，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：