一种圆片翻转异常侦测方法及系统技术方案

本申请公开了一种圆片翻转异常侦测方法及系统，属于测量仪器技术领域。该圆片翻转异常侦测系统中，针对圆片翻转异常时无警报问题进行了结构改进，增加了传感器，在翻转异常时及时发出警报，降低异常带来的对晶圆的影响。降低异常带来的对晶圆的影响。降低异常带来的对晶圆的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种圆片翻转异常侦测方法及系统


[0001]本申请涉及测量仪器
，特别涉及一种圆片翻转异常侦测方法及系统。

技术介绍

[0002]BSM背面溅射是针对圆片背面进行工艺，圆片在Foup(前开式晶圆传送盒，这是半导体制程中被使用来保护、运送、并储存晶圆的一种容器)内是正面朝上，进机台作业前和作业完成后需要对圆片进行180度翻转。
[0003]翻转异常出现圆片作业前未翻转，机台偶发无感知报警，圆片正面发生金属溅射造成报废。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供了一种圆片翻转异常侦测方法及系统。所述技术方案如下：
[0005]根据本申请的一个方面，提供了一种圆片翻转异常侦测系统，所述系统包括：背面溅射设备、翻转机构、侦测传感器和声光报警装置；
[0006]所述背面溅射设备用于对晶圆圆片的背面进行工艺；
[0007]所述翻转机构位于所述背面溅射设备工作范围内，所述翻转机构用于固定所述圆片并进行翻转操作；
[0008]所述侦测传感器设置于所述背面溅射设备处，所述侦测传感器的侦测空间包括所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种圆片翻转异常侦测系统，其特征在于，所述系统包括：背面溅射设备、翻转机构、侦测传感器和声光报警装置；所述背面溅射设备用于对晶圆圆片的背面进行工艺；所述翻转机构位于所述背面溅射设备工作范围内，所述翻转机构用于固定所述圆片并进行翻转操作；所述侦测传感器设置于所述背面溅射设备处，所述侦测传感器的侦测空间包括所述翻转机构的动作空间；所述声光报警装置与所述侦测传感器电性进行信息交互，所述声光报警装置用于所述侦测传感器侦测异常时发出报警。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述侦测传感器包括发射传感器和接受传感器，所述发射传感器和所述接受传感器间隔设置；所述发射传感器用于向所述接受传感器发射探测光，所述接受传感器用于接收所述探测光。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁爱祥，谭秀文，吕剑，
申请(专利权)人：华虹半导体无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：