一种治具校准装置及校准方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种治具校准装置及校准方法，包括半透半反射模组、激光发射模组、反射模组、光斑分析模组和治具基准模组，激光发射模组发射的激光经半透半反射模组和发射模组反射后分别经过一个治具，通过在治具上设置治具基准模组作为参照来调整治具的位置和姿态，使光束能够穿过治具上的治具基准模组射向对应的光斑分析仪，同时确保在治具基准模组处反射回去的部分光线能够沿原光路返回，治具校准完成。本发明专利技术的治具校准装置及校准方法通过光学原理对治具进行校准，具有很高的定位精确性，能够保证不同工位的治具之间的相对位置和治具姿态保持一致，不受产品的外形和光学参数的限制，具有较高的通用性，且安装及调试简便，提高了生产的效率。了生产的效率。了生产的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种治具校准装置及校准方法


[0001]本专利技术涉及校准设备
，尤其是指一种治具校准装置及校准方法。

技术介绍

[0002]在机械生产中常常需要对多个不同工位的治具进行位置的调整，以保证不同工位的治具之间的相对位置，便于治具与生产线上的其它装置之间的精确配合，同时也需要保证各个治具姿态的一致性，进一步保证产品最终的质量。
[0003]但是，现有的校准设备在对不同工位的治具进行位置校准时，校准过程繁琐，校准时间长，且校准的精确度较低，无法很好的确保不同工位的治具之间的相对位置和治具姿态的一致性，影响生产的进行和产品最终的质量。

技术实现思路

[0004]为此，本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中现有的校准设备在对不同工位的治具进行位置校准时，校准过程繁琐，校准时间长，且校准的精确度较低，无法很好的确保不同工位的治具之间的相对位置和治具姿态的一致性，影响生产的进行和产品最终的质量的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种治具校准装置，包括，
[0006]激光发射模组，所述激光发射模组包括激光发射器；
[0007]反射模组，所述反射模组包括反射镜，所述反射镜设置于所述激光发射器的一侧；
[0008]半透半反射模组，所述半透半反射模组包括第一半透半反射镜，所述第一半透半反射镜设置于所述激光发射器和所述反射镜之间,且由所述激光发射器发射的光束穿过所述第一半透半反射镜射向所述反射镜；
[0009]光斑分析模组，所述光斑分析模组包括第一光斑分析仪和第二光斑分析仪，所述第一光斑分析仪用于接收所述第一半透半反射镜反射的光束，所述第二光斑分析仪用于接收所述反射镜反射的光束；
[0010]治具基准模组，所述治具基准模组设置有两组，所述治具基准模组均包括基准主体，所述基准主体用于设置在待测试的治具上，所述基准主体上开设有过光通孔，所述基准主体上设置有与所述过光通孔同轴的第二半透半反射镜，且其中的一个所述基准主体设置于所述第一半透半反射镜和所述第一光斑分析仪之间，另一个所述基准主体设置于所述反射镜和所述第二光斑分析仪之间。
[0011]在本专利技术的一个实施例中，所述激光发射模组还包括第一调节组件，所述第一调节组件包括第一XY移动平台、第一Z轴移动平台和立柱，所述第一Z轴移动平台设置于所述立柱上，所述第一Z轴移动平台上设置有安装板，所述第一XY移动平台连接在所述安装板上，且所述第一XY移动平台上连接有第一测角位移台，所述第一测角位移台连接有第一旋转滑台，所述第一旋转滑台上设置有安装座，所述激光发射器设置于所述安装座上。
[0012]在本专利技术的一个实施例中，所述安装座呈凹字形，其包括两个相互平行的立板以
及垂直连接在两立板之间的横板，任一所述立板上开设有与所述横板平行的第一安装孔，另一所述立板上开设有与所述第一安装孔同轴的第二安装孔，所述激光发射器同轴连接在所述第一安装孔中，且所述激光发射器的输出端靠近所述第二安装孔。
[0013]在本专利技术的一个实施例中，所述基准主体包括主体部分和打光支架，所述主体部分上开设有在其长度方向上延伸的第一通孔，所述打光支架设置有两个，两所述打光支架分别同轴设置于所述主体部分的两端，且两所述打光支架上分别设置有与所述第一通孔同轴的第二通孔和第三通孔，所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔组成所述过光通孔。
[0014]在本专利技术的一个实施例中，还包括透镜模组，所述透镜模组设置于所述光斑分析模组和所述治具基准模组之间，所述透镜模组包括第二调节组件和透镜，所述第二调节组件包括支撑柱和第二Z轴移动平台，所述第二Z轴移动平台设置于所述支撑柱上，所述第二Z轴移动平台上设置有第二XY移动平台，所述第二XY移动平台上设置有第二测角位移平台，所述第二测角位移平台上设置有第二旋转滑台，所述第二旋转滑台上连接有透镜安装板，所述透镜安装在所述透镜安装板上。
[0015]在本专利技术的一个实施例中，所述第一光斑分析仪和所述第二光斑分析仪均连接有第三调节组件，所述第三调节组件包括第三Z轴移动平台，所述第三Z轴移动平台上设置有第三XY移动平台，所述第三XY移动平台上设置有第三测角位移台，所述第三测角位移台上设置有第三旋转滑台，所述第一光斑分析仪/所述第二光斑分析仪设置于所述第三旋转滑台上。
[0016]在本专利技术的一个实施例中，所述半透半反射模组还包括第一角度调节模块和第四XY移动平台，所述第一角度调节模块设置于所述第四XY移动平台上，所述第一半透半反射镜设置于所述第一角度调节模块上。
[0017]在本专利技术的一个实施例中，所述反射模组还包括第五XY移动平台，所述第五XY移动平台上设置有第二角度调节模块，所述反射镜设置于所述第二角度调节模块上。
[0018]在本专利技术的一个实施例中，所述第一半透半反射镜和所述反射镜与所述激光发射器发射的光束之间的夹角为45
°
。
[0019]一种治具校准方法，应用如上述任意一项所述的治具校准装置对不同工位的治具进行校准，包括，
[0020]步骤S1：通过所述激光发射器向所述第一半透半反射镜发射一道光束，使得光束经所述第一半透半反射镜向所述第一光斑分析仪的位置反射，同时有一部分光束透过所述第一半透半反射镜被所述反射镜反射向第二光斑分析仪；
[0021]步骤S2：对所述第一光斑分析仪和所述第二光斑分析仪进行位置调整，使得所述第一光斑分析仪和所述第二光斑分析仪上的光斑均位于其中心；
[0022]步骤S3：将两个所述基准主体分别夹持在两个治具的夹持位置，调整两个治具的位置，使得经所述第一半透半反射镜反射的光束穿过与其对应的基准主体上的过光通孔而射向第一光斑分析仪的中心，同时经所述反射镜反射的光束穿过与其对应的基准主体上的过光通孔而射向第二光斑分析仪的中心；
[0023]步骤S4：光束在穿过两个基准主体时，两基准主体上的第二半透半反射镜会将一部分光束反射回去，判断两第二半透半反射镜反射的光束是否原路返回并与激光发射器发
射的光束重合，若重合则证明治具校准完成，若不重合则对治具进行调整直至重合。
[0024]本专利技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
[0025]本专利技术所述的一种治具校准装置及校准方法，其中，治具校准装置包括半透半反射模组、激光发射模组、反射模组、光斑分析模组和治具基准模组，激光发射模组、半透半反射模组和反射模组沿一条直线间隔排布，激光发射模组发射的激光经半透半反射模组和反射模组反射后分别经过一个治具，通过在治具上设置治具基准模组并将治具基准模组作为参照来调整治具的位置和姿态，使得被半透半反射模组和反射模组反射的光束能够穿过治具上的治具基准模组射向对应的光斑分析仪，同时确保在治具基准模组处反射回去的光线能够沿原光路反射向半透半反射模组，则治具校准完成；本专利技术的治具校准装置及校准方法，通过光学原理对治具进行校准，具有很高的定位精确性，能够保证不同工位的治具之间的相对位置和治具姿态保持一致，能够提高产品的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种治具校准装置，其特征在于，包括，激光发射模组，所述激光发射模组包括激光发射器；反射模组，所述反射模组包括反射镜，所述反射镜设置于所述激光发射器的一侧；半透半反射模组，所述半透半反射模组包括第一半透半反射镜，所述第一半透半反射镜设置于所述激光发射器和所述反射镜之间,且由所述激光发射器发射的光束穿过所述第一半透半反射镜射向所述反射镜；光斑分析模组，所述光斑分析模组包括第一光斑分析仪和第二光斑分析仪，所述第一光斑分析仪用于接收所述第一半透半反射镜反射的光束，所述第二光斑分析仪用于接收所述反射镜反射的光束；治具基准模组，所述治具基准模组设置有两组，所述治具基准模组均包括基准主体，所述基准主体用于设置在待测试的治具上，所述基准主体上开设有过光通孔，所述基准主体上设置有与所述过光通孔同轴的第二半透半反射镜，且其中的一个所述基准主体设置于所述第一半透半反射镜和所述第一光斑分析仪之间，另一个所述基准主体设置于所述反射镜和所述第二光斑分析仪之间。2.根据权利要求1所述的治具校准装置，其特征在于：所述激光发射模组还包括第一调节组件，所述第一调节组件包括第一XY移动平台、第一Z轴移动平台和立柱，所述第一Z轴移动平台设置于所述立柱上，所述第一Z轴移动平台上设置有安装板，所述第一XY移动平台连接在所述安装板上，且所述第一XY移动平台上连接有第一测角位移台，所述第一测角位移台连接有第一旋转滑台，所述第一旋转滑台上设置有安装座，所述激光发射器设置于所述安装座上。3.根据权利要求2所述的治具校准装置，其特征在于：所述安装座呈凹字形，其包括两个相互平行的立板以及垂直连接在两立板之间的横板，任一所述立板上开设有与所述横板平行的第一安装孔，另一所述立板上开设有与所述第一安装孔同轴的第二安装孔，所述激光发射器同轴连接在所述第一安装孔中，且所述激光发射器的输出端靠近所述第二安装孔。4.根据权利要求1所述的治具校准装置，其特征在于：所述基准主体包括主体部分和打光支架，所述主体部分上开设有在其长度方向上延伸的第一通孔，所述打光支架设置有两个，两所述打光支架分别同轴设置于所述主体部分的两端，且两所述打光支架上分别设置有与所述第一通孔同轴的第二通孔和第三通孔，所述第一通孔、所述第二通孔和所述第三通孔组成所述过光通孔。5.根据权利要求1所述的治具校准装置，其特征在于：还包括透镜模组，所述透镜模组设置于所述光斑分析模组和所述治具基准模组之间，所述透镜模组包括第二调节组件和透镜，所述第二调节组件包括支撑柱和第二Z轴移动平台，...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛聪，王奕杰，徐王磊，何洪鑫，赵芳，
申请(专利权)人：苏州艾微视图像科技有限公司，
类型：发明
国别省市：