超亲水模板印章的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种制备方法，尤其是一种超亲水模板印章的制备方法。按照本发明专利技术提供的技术方案，一种超亲水模板印章的制备方法，所述印章的制备方法包括如下步骤：提供印章衬底，并在所述印章衬底的一表面制备纳米森林；对印章衬底上的纳米森林进行亲水处理；对上述亲水处理后的纳米森林以及印章衬底处理，以形成所需的印章图形，其中，所述印章图形包括若干基于亲水处理纳米森林形成的超亲水印章部以及若干对印章衬底刻蚀形成的疏水隔离槽。本发明专利技术能有效实现光刻模板的转移，与现有工艺兼容，降低工艺的复杂度，提高制备的效率与可靠性。提高制备的效率与可靠性。提高制备的效率与可靠性。

【技术实现步骤摘要】
超亲水模板印章的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种制备方法，尤其是一种超亲水模板印章的制备方法。

技术介绍

[0002]转印是指借助图章将制作在施主基片上的图形转移到受主基片上的技术，因其具有兼容性强、常温操作等优点，被广泛应用微机电系统(MEMS)和微纳米加工技术等领域。
[0003]目前，常用的转印工艺包括印章转印法、热释放胶带转印法等，其中，热释放胶带转印法对转印温度和时间的精确把握要求较高；水溶性胶带遇水会分解，但会有少量残留物残留在结构表面，导致结构表面污染。PDMS是柔性转印工艺中最广泛应用的印章材料，工艺可行性最高，但由于PDMS柔性衬底自身较差的尺寸稳定性，在复制过程中会不可避免的造成收缩或膨胀。
[0004]虽然微观结构的变化量通常不大，但是变化积累到宏观上就会体现在微结构位置精度的下降，特别是当柔性衬底应用在衍射成像元件上时，微结构位置精度的下降将成为致命的缺陷。此外，绝大多数转印方法方法工艺复杂、通用性较差。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超亲水模板印章的制备方法，其特征是，所述印章的制备方法包括如下步骤：提供印章衬底，并在所述印章衬底的一表面制备纳米森林；对印章衬底上的纳米森林进行亲水处理；对上述亲水处理后的纳米森林以及印章衬底处理，以形成所需的印章图形，其中，所述印章图形包括若干基于亲水处理纳米森林形成的超亲水印章部以及若干对印章衬底刻蚀形成的疏水隔离槽。2.根据权利要求1所述超亲水模板印章的制备方法，其特征是，印章衬底包括硅衬底、玻璃衬底、石英衬底、蓝宝石衬底或有外延层的光滑衬底。3.根据权利要求1所述超亲水模板印章的制备方法，其特征是，印章衬底为非亲水衬底时，对印章衬底上的纳米森林进行亲水处理时，包括在纳米森林上镀亲水膜或将印章衬底上的纳米森林浸泡在亲水溶液中。4.根据权利要求1所述超亲水模板印章的制备方法，其特征是，对亲水后处理后的纳米森林以及印章处理处理时，包括：制备覆盖在纳米森林上的纳米森林掩膜层；对纳米森林掩膜层进行图形化，以得到若干贯通纳米森林掩膜层的纳米森林掩膜层窗口；利用纳米森林掩膜层窗口对印章衬底进行深槽刻蚀，以制备内凹于印章衬底内的隔离槽；对隔离槽的内壁进行疏水处理，以得到疏水隔离槽。5.根据权利要求4所述超亲水模板印章的制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员：王云翔，张瑞瑞，李瑾，
申请(专利权)人：苏州研材微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：