表面处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种表面处理装置，其小型且高效。排列表面处理装置(P1～Pn)，通过电动致动器(18)使工件(4)进行出入。在表面处理室中结束了处理的工件(4)通过使电动致动器(18)整体移动来移送到下一个表面处理室。这样，在多个表面处理室中对工件(4)进行处理。表面处理室中对工件(4)进行处理。表面处理室中对工件(4)进行处理。

【技术实现步骤摘要】
表面处理装置


[0001]本专利技术涉及进行镀敷、预处理、后处理、清洗、水洗、酸洗、蚀刻、去污、干燥等表面处理的表面处理装置。

技术介绍

[0002]在对基板等处理对象进行镀敷等表面处理时，使用使基板浸渍于填充有处理液的处理槽的装置(浸渍方式)。当在处理槽中将基板浸渍于处理液而结束一个处理时，吊起基板，使该基板移动到用于下一个处理的处理槽而浸渍。通过重复该操作，能够对基板进行必要的表面处理。
[0003]另外，在日本专利第6403739号公报中，公开了对保持了上部的基板放出处理液，回收从基板落下的处理液并再次放出的装置。
[0004]图30中示出了日本专利第6403739号公报中记载的表面处理装置。在表面处理室200中，通过吊架202的夹具204夹持并保持基板206的上端部。在被吊架202保持的基板206的两侧设置有用于放出处理液的管208。在该管208以向斜上方放出处理液的方式设置有孔210。所放出的处理液在基板206的表面流动而到达下部，通过泵212循环而再次从管208放出。
[0005]此外，吊架202通过驱动机构214在表面处理室200内沿与纸面垂直的方向移动。
[0006]如图31所示，连续地设置有进行各种处理的表面处理室200，构成为被吊架202保持的基板206通过驱动机构214依次在表面处理室200中移动。
[0007]然而，在上述那样的现有技术中，存在如下问题。
[0008]在浸渍处理方式的装置中，在使处理对象(基板)移动时，从处理槽的上部的出入需要时间，存在不是高效的问题。
[0009]与此相对，在日本专利第6403739号公报的方式的装置中，与浸渍方式相比，具有如下优点：无需向表面处理室填充处理液，能够减少处理液的初始必要量(处理槽内的液量)；仅通过使处理对象沿水平方向移动，就能够进行必要的处理，是高效的。然而，由于使处理对象按照多个表面处理室的配置顺序移动，因此表面处理的顺序中没有灵活性，另外，由于表面处理室在其长度方向上连续，因此存在设备长度变长的问题。
[0010]本专利技术的目的在于解决上述问题中的任意问题，提供一种小型且高效的表面处理装置。

技术实现思路

[0011]以下列举本专利技术的能够独立应用的特征。
[0012](1)本专利技术所涉及的表面处理装置具备：多个表面处理室，它们具有用于导入排出处理对象的出入口，并对所述处理对象进行表面处理；保持部件，其用于保持所述处理对象；出入移动机构，其用于使被所述保持部件保持的处理对象经由所述表面处理室的出入口出入所述表面处理室；以及处理室间移动机构，其使被所述保持部件保持的处理对象在
通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室外的状态下沿所述表面处理室的配设方向移动。
[0013]因此，无需根据表面处理的顺序而固定表面处理室的配置，能够灵活地进行布局。
[0014](2)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，在处理室间移动机构上具有移动表面处理室，所述移动表面处理室具有用于导入排出所述处理对象的出入口，所述移动表面处理室对所述处理对象进行表面处理，所述处理室间移动机构使导入有所述处理对象的所述移动表面处理室移动。
[0015]因此，能够在使处理对象移动的同时进行表面处理。
[0016](3)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室和/或移动表面处理室具备处理液放出部，所述处理液放出部对未浸渍于处理液的状态的所述保持部件或所述处理对象放出处理液，使处理液流在被所述保持部件保持的处理对象的表面流动。
[0017]因此，也能够应用于浇流方式。
[0018](4)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，处理液放出部具备中空状部件，所述中空状部件具有隔着规定间隔设置的处理液放出口，所述表面处理装置还具备摆动机构，所述摆动机构使该中空状部件在所述处理液放出口的配设方向上以大于所述规定间隔的方式摆动。
[0019]因此，能够均匀地对处理对象放出处理液。
[0020](5)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室使所述处理对象浸渍于处理液来进行表面处理。
[0021]因此，也能够应用于浸渍方式。
[0022](6)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室具备液面变更处理部，所述液面变更处理部对所述处理对象浸渍于处理液的状态和所述处理对象未浸渍于处理液的状态进行切换。
[0023]因此，能够以未浸渍于处理液的状态从表面处理室的横向导入处理对象，效率高。
[0024](7)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室具备前室和蓄积室，所述蓄积室被构成为能够切换为与前室连通或独立，所述蓄积室被处理液填满，所述液面变更处理部切换所述前室的液面状态。
[0025]因此，能够迅速地进行处理液的填充。
[0026](8)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，所述表面处理装置具备捕集部，所述捕集部对附着于通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室的外部的状态的处理对象而落下的处理液进行捕集。
[0027]因此，能够防止落下的处理液所造成的污染。
[0028](9)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室和/或移动表面处理室具备开闭所述出入口的闸门。
[0029]因此，能够防止处理液的飞散。
[0030](10)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，所述表面处理装置还具备收纳箱体，所述收纳箱体覆盖通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室的外部的状态的处理对象，并通过处理室间移动机构移动。
[0031]因此，能够防止处理液的飞散。
[0032](11)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，收纳箱体具备闸门，该闸门用于使所述处理对象出入。
[0033]因此，能够防止处理液的飞散。
[0034](12)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，出入移动机构是致动器。
[0035]因此，通过使用不易产生粉尘的致动器，能够防止因粉尘产生不良。
[0036](13)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，出入移动机构设置有多个，各出入移动机构被构成为能够独立地沿所述表面处理室的配设方向移动。
[0037]因此，能够高效地使处理对象出入表面处理室。
[0038](14)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，隔着处理室间移动机构的移动方向而在两侧设置有表面处理室。
[0039]因此，能够高效地使处理对象出入表面处理室。
[0040](15)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，表面处理室排列配置成多列，所述出入移动机构使被所述保持部件保持的处理对象跨过所述多列表面处理室而移动。
[0041]因此，能够高效地在表面处理室中对处理对象进行处理。
[0042](16)本专利技术所涉及的表面处理装置的特征在于，在多个表面处理室中包括进行正式处理的多个表面处理室和进行该正式处理的预处理的多个表面处理室本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表面处理装置，其特征在于，具备：多个表面处理室，它们具有用于导入排出处理对象的出入口，并对所述处理对象进行表面处理；保持部件，其用于保持所述处理对象；出入移动机构，其用于使被所述保持部件保持的处理对象经由所述表面处理室的出入口出入所述表面处理室；以及处理室间移动机构，其使被所述保持部件保持的处理对象在通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室的外部的状态下沿所述表面处理室的配设方向移动。2.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，在所述处理室间移动机构上具有移动表面处理室，所述移动表面处理室具有用于导入排出所述处理对象的出入口，所述移动表面处理室对所述处理对象进行表面处理，所述处理室间移动机构使导入有所述处理对象的所述移动表面处理室移动。3.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室具备处理液放出部，所述处理液放出部对未浸渍于处理液的状态的所述保持部件或所述处理对象放出处理液，使处理液在被所述保持部件保持的处理对象的表面流动。4.根据权利要求2所述的表面处理装置，其特征在于，所述移动表面处理室具备处理液放出部，所述处理液放出部对未浸渍于处理液的状态的所述保持部件或所述处理对象放出处理液，使处理液在被所述保持部件保持的处理对象的表面流动。5.根据权利要求3或4所述的表面处理装置，其特征在于，所述处理液放出部具备中空状部件，所述中空状部件具有隔着规定间隔设置的处理液放出口，所述表面处理装置还具备摆动机构，所述摆动机构使该中空状部件在所述处理液放出口的配设方向上以大于所述规定间隔的方式摆动。6.根据权利要求1或2所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室使所述处理对象浸渍于处理液来进行表面处理。7.根据权利要求6所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室具备液面变更处理部，所述液面变更处理部对所述处理对象浸渍于处理液的状态和所述处理对象未浸渍于处理液的状态进行切换。8.根据权利要求7所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室具备前室和蓄积室，所述蓄积室被构成为能够切换为与前室连通或独立，所述蓄积室被处理液填满，所述液面变更处理部切换所述前室的液面状态。9.根据权利要求1至8中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理装置具备捕集部，所述捕集部对附着于通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室的外部的状态的处理对象而落下的处理液进行捕集。10.根据权利要求1至9中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，
所述表面处理室具备开闭所述出入口的闸门。11.根据权利要求2或4所述的表面处理装置，其特征在于，所述移动表面处理室具备开闭所述出入口的闸门。12.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理装置还具备收纳箱体，所述收纳箱体覆盖通过所述出入移动机构排出到所述表面处理室的外部的状态的处理对象，并通过处理室间移动机构移动。13.根据权利要求12所述的表面处理装置，其特征在于，所述收纳箱体具备闸门，该闸门用于使所述处理对象出入。14.根据权利要求1至13中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述出入移动机构是致动器。15.根据权利要求1至14中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述出入移动机构设置有多个，各出入移动机构被构成为能够独立地沿所述表面处理室的配设方向移动。16.根据权利要求1至15中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，隔着所述处理室间移动机构的移动方向而在两侧设置有表面处理室。17.根据权利要求1至16中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室排列配置成多列，所述出入移动机构使被所述保持部件保持的处理对象跨过多列所述表面处理室而移动。18.根据权利要求1至17中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，在所述多个表面处理室中包括进行正式处理的多个表面处理室和进行该正式处理的预处理的多个表面处理室，在所述多个表面处理室中包括进行不同的正式处理的表面处理室，所述表面处理装置还具备控制部，该控制部控制所述处理室间移动机构，所述控制部根据对所述处理对象要求的处理内容，选择所述多个表面处理室中的必要的多个表面处理室而使所述处理室间移动机构移动，而进行针对所述处理对象的处理。19.根据权利要求1至18中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，在所述多个表面处理室中包括进行相同处理的表面处理室，所述表面处理装置还具备控制部，该控制部控制所述处理室间移动机构，所述控制部根据各所述表面处理室中的处理时间，以在进行所述相同处理的表面处理室中对不同的所述处理对象并行处理的方式，使所述处理室间移动机构进行移动，而进行针对所述处理对象的处理。20.根据权利要求1至19中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理装置还具备温水循环机构，所述温水循环机构设置于所述表面处理室、第一表面处理室或第二表面处理室的周围。21.根据权利要求1至20中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室还具备加热器，该加热器与所述处理对象相对地设置。22.根据权利要求1至21中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理室被构成为：向上部供给比常温高的温度的空气，并从下部抽吸或排出
室内的空气。23.根据权利要求1至22中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，所述出入移动机构使所述保持部件沿水平方向移动。24.一种表面处理装置，其特征在于，具备：保持部件，其用于保持处理对象；第一表面处理室，其对被所述保持部件保持的处理对象进行表面处理；以及第一移动机构，其使所述第一表面处理室与所述处理对象一同移动。25.根据权利要求24所述的表面处理装置，其特征在于，所述表面处理装置还具备：第二表面处理室，在所述第一移动机构的移动方向上设置有多个第二表面处理室，该第二表面处理室具有用于导入排出处理对象的出入口，并对所述处理对象进行表面处理；以及第二移动机构，其用于使被所述保持部件保持的处理对象经由所述第二表面处理室的出入口出入所述第二表面处理室。26.根据权利要求25所述的表面处理装置，其特征在于，所述第一表面处理室或所述第二表面处理室具备处理液放出部，所述处理液放出部对未浸渍于处理液的状态的所述保持部件或所述处理对象放出处理液，使处理液在被所述保持部件保持的处理对象的表面流动。27.根据权利要求26所述的表面处理装置，其特征在于，所述处理液放出部具备中空状部件，所述中空状部件具有隔着规定间隔设置的处理液放出口，所述表面处理装置还具备...

【专利技术属性】
技术研发人员：西元一善，谷川正仁，奥田朋士，西中豊，内海雅之，
申请(专利权)人：上村工业株式会社，
类型：发明
国别省市：