电子束控制装置及方法制造方法及图纸

本申请公开了一种电子束控制装置及方法。其中，所述电子束控制装置包括：第一生成组件和第二生成组件；所述第一生成组件，用于生成第一强度和/或第一方向的第一磁场，以调整穿过所述第一生成组件的所述扫描电子显微镜的发射组件发射的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第一聚焦组件的磁轴重合；所述第二生成组件，用于生成第二强度和/或第二方向的第二磁场，以调整穿过所述第二生成组件的来自所述第一生成组件的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第二聚焦组件的磁轴重合。组件的磁轴重合。组件的磁轴重合。

【技术实现步骤摘要】
电子束控制装置及方法


[0001]本申请涉及电子显微镜领域，尤其涉及一种电子束控制装置及方法。

技术介绍

[0002]扫描电子显微镜是一种广泛应用于生物、半导体、材料等领域的电子成像设备，能够检测物体的微观结构和组成成分。
[0003]但是，在使用扫描电子显微镜得到物体成像的过程中，可能会产生像差(可以理解为实际成像与预测成像的偏差)，从而影响物体的成像质量。

技术实现思路

[0004]为解决相关技术问题，本申请实施例提供一种电子束控制装置及方法。
[0005]本申请实施例的技术方案是这样实现的：
[0006]本申请实施例提供一种电子束控制装置，应用于扫描电子显微镜，包括：第一生成组件和第二生成组件；其中，
[0007]所述第一生成组件，用于生成第一强度和/或第一方向的第一磁场，以调整穿过所述第一生成组件的所述扫描电子显微镜的发射组件发射的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第一聚焦组件的磁轴重合；
[0008]所述第二生成组件，用于生成第二强度和/或第二方向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子束控制装置，其特征在于，应用于扫描电子显微镜，包括：第一生成组件和第二生成组件；其中，所述第一生成组件，用于生成第一强度和/或第一方向的第一磁场，以调整穿过所述第一生成组件的所述扫描电子显微镜的发射组件发射的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第一聚焦组件的磁轴重合；所述第二生成组件，用于生成第二强度和/或第二方向的第二磁场，以调整穿过所述第二生成组件的来自所述第一生成组件的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第二聚焦组件的磁轴重合。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一生成组件，包括：第一生成子组件和第二生成子组件；其中，所述第一生成子组件，用于生成第三强度和/或第三方向的第三磁场，以调整穿过所述第一生成子组件的所述发射组件发射的电子束的偏转角度；所述第二生成子组件，用于生成第四强度和/或第四方向的第四磁场，以调整穿过所述第二生成子组件的来自所述第一生成子组件的电子束的位移。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二生成子组件，包括：第三生成子组件和第四生成子组件；其中，所述第三生成子组件，用于生成第五强度和/或第五方向的第五磁场，以调整穿过所述第三生成子组件的来自所述第一生成子组件的电子束的偏转角度；所述第四生成子组件，用于生成第六强度和/或第六方向的第六磁场，以调整穿过所述第四生成子组件的来自所述第三生成子组件的电子束的偏转角度；其中，所述第五磁场与所述第六磁场的强度相同，且方向相反。4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一聚焦组件具有中空结构，所述第一生成子组件设置在所述第一聚焦组件的中空结构内。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二生成组件，包括：第五生成子组件和第六生成子组件；其中，所述第五生成子组件，用于生成第七强度和/或第七方向的第七磁场，以调整穿过所述第五生成子组件的来自所述第一生成组件的电子束的位移；所述第六生成子组件，用于生成第八强度和/或第八方向的第八磁场，以调整穿过所述第六生成子组件的来自所述第五生成子组件的电子束的偏转角度。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第五生成子组件...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔锦，李帅，
申请(专利权)人：聚束科技北京有限公司，
类型：发明
国别省市：