排气装置及镀膜设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种排气装置及镀膜设备。排气装置包括排气仓、调节组件及抽气组件。排气仓具有排气腔以及连通排气腔的进气口和出气口。抽气组件包括气泵，气泵连通于出气口，气泵用于驱使气体沿进气口朝出气口运动。调节组件安装于排气仓，调节组件设置有位于排气腔内的过气口，过气口位于进气口与出气口之间，调节组件包括互相连接的驱动件和挡板，挡板用于调节过气口的大小，驱动件用于驱使挡板运动，以实现挡板对过气口的大小的调节。通过调节过气口的大小，能够调节气体流通至过气口的通导面积，从而根据反应腔内的气体和气压情况，调节排气速度，将反应腔内的气压和气体浓度维持在镀膜操作所需求的范围内，以确保镀膜设备的镀膜效果。设备的镀膜效果。设备的镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】
排气装置及镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜
，尤其是涉及一种排气装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]在镀膜工艺中，反应腔内需要通入反应气体进行镀膜操作。镀膜过程后，反应腔内会混合有用于隔离的惰性气体、未反应的反应气体和气体反应所产生的副产物，为了维持后续镀膜的效果，需要将惰性气体、未反应的反应气体和气体反应所产生的副产物及时排出。
[0003]为此，相关技术的镀膜设备中设置有排气装置对需要排出的气体进行排气，但是相关技术中的排气装置不具备排气速度的调节功能，在应对不同数量和不同型号的产品进行镀膜时，难以满足不同的排气需求和真空度控制需求，适用性较低，因此，有必要针对该问题进行改进。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种排气装置，能够调节排气装置的排气速度。
[0005]本技术还提出一种具有上述排气装置的镀膜设备。
[0006]根据本技术的排气装置，包括：
[0007]排气仓，具有排气腔以及连通所述排气腔的进气口和出气口；
[0008]调节组件，安装于所述排气仓，所述调节组件设置有位于所述排气腔内的过气口，所述过气口位于所述进气口与所述出气口之间，所述调节组件包括互相连接的驱动件和挡板，所述挡板用于调节所述过气口的大小，所述驱动件用于驱使所述挡板运动；
[0009]抽气组件，包括气泵，所述气泵连通于所述出气口，所述气泵用于驱使气体沿所述进气口朝所述出气口运动。
[0010]根据本技术实施例的排气装置，至少具有如下有益效果：通过驱动件驱使挡板运动进而调节过气口的大小，能够调节气体流通至过气口的通导面积，从而根据反应腔内的气体和气压情况，调节排气速度，将反应腔内的气压和气体浓度维持在镀膜操作所需求的范围内，以确保镀膜设备的镀膜效果。
[0011]根据本技术的一些实施例，所述调节组件包括多个所述挡板，所述挡板转动连接于所述排气仓，各所述挡板沿第一方向依次设置，相邻所述挡板之间限定出所述过气口，所述第一方向垂直于所述进气口朝向所述出气口的方向。
[0012]根据本技术的一些实施例，所述挡板设置有相对的第一端和第二端，所述第一端转动连接于所述排气仓，所述第一端与所述第二端之间的距离X1大于相邻所述挡板的所述第二端之间的距离X2。
[0013]根据本技术的一些实施例，所述挡板设置有相对的第一端和第二端，所述第一端转动连接于所述排气仓，所述调节组件还包括限位件，所述限位件固定于所述排气仓
的内表面，所述限位件用于与所述挡板抵持，以限制所述第二端的运动。
[0014]根据本技术的一些实施例，所述挡板设置有连接部以及相对的第一端和第二端，所述连接部位于所述第一端和所述第二端之间的中点上，所述连接部转动连接于所述排气仓。
[0015]根据本技术的一些实施例，所述调节组件包括过气板，所述过气板固定于所述排气仓，所述过气板设置有所述过气口，所述挡板滑动连接于所述排气仓，所述挡板能够沿第一方向运动，并在所述第一方向上至少覆盖所述过气口的一部分，所述第一方向垂直于所述进气口朝向所述出气口的方向。
[0016]根据本技术的一些实施例，沿所述进气口朝向所述出气口的方向，所述排气仓的侧壁在第一方向上逐渐靠近所述出气口，所述第一方向垂直于所述进气口朝向所述出气口的方向。
[0017]根据本技术的一些实施例，所述排气装置还包括分配板，所述分配板固定于所述排气仓的内表面，所述分配板位于所述进气口与所述出气口之间，所述分配板设置有多个分配孔，各所述分配孔沿第一方向排布，所述第一方向垂直于所述进气口朝向所述出气口的方向。
[0018]根据本技术的一些实施例，所述排气装置包括多个所述分配板，各所述分配板沿所述进气口朝向所述出气口的方向依次设置，在所述进气口朝向所述出气口的方向上，相邻所述分配板的至少部分所述分配孔错开设置，其中，错开设置的两所述分配孔部分错开或者完全错开设置。
[0019]根据本技术的一些实施例，所述排气装置还包括加热组件，所述加热组件至少覆盖所述排气仓的部分外表面。
[0020]根据本技术实施例的镀膜设备，包括上述实施例所述的排气装置。
[0021]根据本技术实施例的镀膜设备，至少具有如下有益效果：通过应用本申请实施例的排气装置，能够对排气速度进行调节，在应对不同数量和不同型号的产品进行镀膜时，通过排气速度的调节能够满足不同的排气需求和真空度控制需求，提高镀膜设备的适用性，确保镀膜效果。
[0022]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0023]下面结合附图和实施例对本技术做进一步的说明，其中：
[0024]图1为本技术的第一方面实施例的排气装置的示意图；
[0025]图2为本技术的第二方面实施例的排气装置的部分示意图；
[0026]图3为本技术的第三方面实施例的排气装置的部分示意图；
[0027]图4为图1中的分配板的细节示意图。
[0028]附图标记：
[0029]排气装置100；
[0030]排气仓200、排气腔210、进气口220、出气口230；
[0031]调节组件300、驱动件310、过气口320、挡板330、第一端331、第二端332、连接部
333、限位件340、过气板350；
[0032]抽气组件400、抽气泵410、控制阀420、真空反馈组件430；
[0033]分配板500、分配孔510；
[0034]加热组件600、温度检测组件610；
[0035]反应腔700。
具体实施方式
[0036]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0037]在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0038]在本技术的描述中，若干的含义是一个以上，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
[0039]本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.排气装置，用于镀膜设备，其特征在于，包括：排气仓，具有排气腔以及连通所述排气腔的进气口和出气口；调节组件，安装于所述排气仓，所述调节组件设置有位于所述排气腔内的过气口，所述过气口位于所述进气口与所述出气口之间，所述调节组件包括互相连接的驱动件和挡板，所述挡板用于调节所述过气口的大小，所述驱动件用于驱使所述挡板运动；抽气组件，包括气泵，所述气泵连通于所述出气口，所述气泵用于驱使气体沿所述进气口朝所述出气口运动。2.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述调节组件包括多个所述挡板，所述挡板转动连接于所述排气仓，各所述挡板沿第一方向依次设置，相邻所述挡板之间限定出所述过气口，所述第一方向垂直于所述进气口朝向所述出气口的方向。3.根据权利要求2所述的排气装置，其特征在于，所述挡板设置有相对的第一端和第二端，所述第一端转动连接于所述排气仓，所述第一端与所述第二端之间的距离X1大于相邻所述挡板的所述第二端之间的距离X2。4.根据权利要求2所述的排气装置，其特征在于，所述挡板设置有相对的第一端和第二端，所述第一端转动连接于所述排气仓，所述调节组件还包括限位件，所述限位件固定于所述排气仓的内表面，所述限位件用于与所述挡板抵持，以限制所述第二端的运动。5.根据权利要求2所述的排气装置，其特征在于，所述挡板设置有连接部以及相对的第一端和第二端，所述连接部位于所述第一端和所述第二端之...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：深圳市原速光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：