System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 镀膜件及其制备方法技术_技高网

镀膜件及其制备方法技术

技术编号:40141225 阅读:5 留言:0更新日期:2024-01-23 23:39
本申请提供一种镀膜件,包括依次层叠的基底、打底层、过渡层、防腐装饰层和防静电层。防腐装饰层和防静电层采用原子层沉积技术形成。防腐装饰层的材料为氧化物、碳化物以及氮化物中的至少一种。防静电层的材料为导电氧化物、导电碳化物和导电氮化物中的至少一种。本申请还提供镀膜件的制备方法。本申请的镀膜件,通过在打底层和多功能层之间设置一层过渡层,有效增强打底层与多功能层之间的结合力。同时防腐装饰层膜层致密,具有较佳的防腐蚀能力;此外,防腐装饰层的多层膜系结构可通过调节膜层的材料种类以及膜层的厚度以呈现不同颜色的效果,极大地提升镀膜件的装饰效果。最外层的防静电层能够有效地减少电荷的积累,起到防静电的作用。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及一种具有装饰效果的镀膜件及其制备方法


技术介绍

1、现有技术中,为了使外观件(如手机外壳、珠宝首饰、眼镜架等)获取具有光泽或者无光泽的金属外观,同时实现丰富多彩的颜色和视觉冲击,通常采用物理气相沉积(physical vapor deposition,pvd)的方法在外观件的表面沉积一层铬金属层或者碳氮化铬/碳氮化钛陶瓷层。然而,由于pvd工艺本身的局限性,pvd膜层通常不够致密且保型性(与外观件的表面的形状保持一致)较差。此外,外观件表面的pvd膜层在人工汗液以及盐雾测试过程中容易被腐蚀导致脱膜。


技术实现思路

1、鉴于此,本申请提供一种镀膜件,包括:

2、基底;

3、打底层,设置在所述基底的表面;

4、过渡层,设置在所述打底层背离所述基底的表面;

5、防腐装饰层,设置在所述过渡层背离所述基底的表面,所述防腐装饰层采用原子层沉积技术形成,所述防腐装饰层的材料为氧化物、碳化物以及氮化物中的至少一种;以及

6、防静电层,设置在所述防腐装饰层背离所述基底的表面,所述防静电层采用原子层沉积技术形成,所述防静电层的材料为导电氧化物、导电碳化物和导电氮化物中的至少一种。

7、本申请还提供一种镀膜件的制备方法,包括如下步骤:

8、提供基底,采用物理气相沉积方法在所述基底的表面形成打底层;

9、采用物理气相沉积方法,在所述打底层背离所述基底的表面形成过渡层;

10、采用原子层沉积技术,在所述过渡层背离所述基底的表面形成防腐装饰层,所述防腐装饰层的材料为氧化物、碳化物以及氮化物中的至少一种;

11、采用原子层沉积技术,在所述防腐装饰层背离所述基底的表面形成防静电层,所述防静电层的材料为导电氧化物、导电碳化物或者导电氮化物种的至少一种。

12、本申请的镀膜件,通过在打底层和防腐装饰层之间设置一层过渡层,有效增强打底层与防腐装饰层之间的结合力,防止防腐装饰层脱落。同时防腐装饰层和防静电层膜层致密,均具有较佳的防腐蚀能力;此外,防腐装饰层的多层膜系结构可通过调节膜层的材料种类以及膜层的厚度以呈现不同颜色的效果,极大地提升镀膜件的装饰效果。最外层的导电的防静电层能够有效地减少电荷的积累,起到防静电的作用,有效地防止空气中灰尘和杂质的吸附,提升抗电磁干扰的能力以及降低静电放电造成的损坏。

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【技术保护点】

1.一种镀膜件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述氧化物选自Al2O3、SiO2、TiO2、Nb2O5、Ta2O5、HfO2、ZrO2中的至少一种;所述碳化物选自TiC、ZrC、HfC、VC、NbC、TaC、Cr3C2、Mo2C、WC中的至少一种;所述氮化物选自TiN、ZrN、HfN、VN、NbN、TaN、CrN、AlN、Si3N4中的至少一种;

3.根据权利要求1或2所述的镀膜件,其特征在于,所述防腐装饰层为至少两种材料层层叠的结构、至少两种材料层交替层叠排布的多层结构、或者多种材料层无规律层叠排布的多层结构。

4.根据权利要求3所述的镀膜件,其特征在于,所述防腐装饰层包括不同的氧化物层的叠层、不同的碳化物层的叠层、不同的氮化物层的叠层、氧化物层和碳化物层的叠层、氧化物层和氮化物层的叠层、碳化物层和氮化物层的叠层、或者氧化物层、碳化物层和氮化物层的叠层。

5.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述过渡层为单质、氧化物、氮化物、碳化物中的一种;

6.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述打底层为金属铬层、碳氮化铬陶瓷层或者碳氮化钛陶瓷层。

7.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述镀膜件为手机中框、电脑框架、手表壳、手表带、首饰、眼镜架、灯饰、或箱包五金。

8.一种镀膜件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

9.根据权利要求8所述的镀膜件的制备方法,其特征在于,所述氧化物选自Al2O3、SiO2、TiO2、Nb2O5、Ta2O5、HfO2、ZrO2,中的至少一种;所述碳化物选自TiC、ZrC、HfC、VC、NbC、TaC、Cr3C2、Mo2C、WC中的至少一种;所述氮化物选自TiN、ZrN、HfN、VN、NbN、TaN、CrN、AlN、Si3N4中的至少一种;

10.根据权利要求8或9所述的镀膜件的制备方法,其特征在于,形成所述防腐装饰层和所述防静电层的步骤中采用的前驱体为金属有机化合物或者金属无机化合物,采用的反应物为含氧、含氮、含碳的反应物中的至少一种。

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【技术特征摘要】

1.一种镀膜件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述氧化物选自al2o3、sio2、tio2、nb2o5、ta2o5、hfo2、zro2中的至少一种;所述碳化物选自tic、zrc、hfc、vc、nbc、tac、cr3c2、mo2c、wc中的至少一种;所述氮化物选自tin、zrn、hfn、vn、nbn、tan、crn、aln、si3n4中的至少一种;

3.根据权利要求1或2所述的镀膜件,其特征在于,所述防腐装饰层为至少两种材料层层叠的结构、至少两种材料层交替层叠排布的多层结构、或者多种材料层无规律层叠排布的多层结构。

4.根据权利要求3所述的镀膜件,其特征在于,所述防腐装饰层包括不同的氧化物层的叠层、不同的碳化物层的叠层、不同的氮化物层的叠层、氧化物层和碳化物层的叠层、氧化物层和氮化物层的叠层、碳化物层和氮化物层的叠层、或者氧化物层、碳化物层和氮化物层的叠层。

5.根据权利要求1所述的镀膜件,其特征在于,所述过渡层为单质、氧化物、氮化...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名
申请(专利权)人:深圳市原速光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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