一种Mo-Ti-Ta合金薄膜及其制备方法技术

技术编号:37807180 阅读:27 留言:0更新日期:2023-06-09 09:37
本发明专利技术属于薄膜晶体管液晶显示器技术领域,本发明专利技术提供了一种Mo

【技术实现步骤摘要】
一种Mo

Ti

Ta合金薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及薄膜晶体管液晶显示器
,尤其涉及一种Mo

Ti

Ta合金薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管是薄膜晶体管液晶显示器中的关键器件,其性能好坏对最终的液晶显示器产品性能具有决定性作用。在薄膜晶体管液晶显示器中有很多电极和布线,以往技术中常用Au/Cu/Cr/Al为主,但他们都有各自的缺点,难以满足更高层次的需求。现有研究表明,Mo具有低电阻,成为优良的导电材料用于薄膜晶体管液晶显示器中,此外,Mo薄膜在玻璃上具有良好的粘附性,与硅、氧化铟锡具有低接触电阻,常被用作薄膜晶体管液晶显示器加工中作为底部和覆盖层。
[0003]由于退火处理用于薄膜晶体管液晶显示器加工过程中,这些薄膜需承受热暴露而不会变质,而Mo薄膜在空气中表现出较差的抗氧化性。研究表明合金化可以提高薄膜的抗氧化性,而钛在氧化环境中表现出较强的耐腐蚀性,但钛不能溶解于刻蚀液中,这是薄膜晶体管液晶显示器中的一个关键问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Mo

Ti

Ta合金薄膜的制备方法,其特征在于,在玻璃衬底上磁控溅射双靶或单靶,得到Mo1‑
x

y
Ti
x
Ta
y
合金薄膜;其中,0.1<x<0.5,0.05<y<0.2;所述双靶为Mo

Ti靶和Ta靶;所述单靶为Mo

Ti

Ta靶。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述Mo

Ti靶的溅射功率为560~640W,Ta靶的溅射功率为45~55W;所述Mo

Ti

Ta靶的溅射功率密度为30~85W/Inch2。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述双靶为Mo
0.8
Ti
0.2
靶和Ta靶,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖敏唐洁曾斌建魏修宇吴建国易小明李志翔
申请(专利权)人:中钨稀有金属新材料湖南有限公司
类型:发明
国别省市:

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