一种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台制造技术

技术编号:41550143 阅读:30 留言:0更新日期:2024-06-04 11:26
本技术公开了一种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,它包括多段圆弧支撑块,各圆弧支撑块排列设置于卧式烧结炉中,各圆弧支撑块间的间距可调,钼管靶待烧结坯放置于圆弧支撑块的弧面上。通过本技术,钼管靶压坯卧式烧结时,通过支撑台圆弧面的支撑,明显的提高了压坯沿圆周方向收缩变形的一致性,烧结产品圆度得到较大保证,大幅度降低了后续的产品加工量,提高了的成品最终实收率。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于管状靶材制造,具体为一种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台


技术介绍

1、近年来,随着太阳能行业和平面显示行业的快速发展,作为重要薄膜材料的钼溅射靶材的市场需求越来越大。同时,由于管靶利用率远大于平面靶材,因此,钼管靶的市场占比逐年上升。

2、目前,制造钼管靶材主要有变形法和粉末烧结法两种方法。

3、1、变形法:如公开号cn101259584a中所采用的方法:采用粉末烧结法制成钼管坯,经过锻造、挤压、热处理、机械加工等工序。该方法的优点是可生产出符合使用要求的钼管靶,密度达到10.0-10.2g/cm3。但该方法存在工艺流程长,生产成本高的缺点。

4、2、粉末烧结法:目前粉末烧结法有如下两种方法。

5、一种是如公开号cn101642813a的专利申请中所采用的方法:采用一定粒度的钼粉,加入水基结合剂,混合均匀后,离心成型、脱胶、预烧结、烧结,再经机械加工成成品。该方法工艺流程长,产品密度更低,烧结过程中椭圆度和平直度不易控制,由于加入了水基结合剂,气体(c、n、o)含量很高,纯度亦会降低。目前使用该方法生产钼管靶的实际应用很少。

6、另外一种方法的工艺流程为:原料钼粉--冷等静压成型管状--高温烧结—加工及热处理--机加工处理。该方法的优点是工艺流程短,易于控制;但存在产品密度低,孔隙率高的缺点。

7、在高温烧结环节,烧结炉炉膛高度降低了超长靶坯立式烧结的可能性。由此,卧式烧结成为超长靶坯烧结的不二选择。

8、目前在卧式烧结的过程中,管靶靶坯一般水平放置在炉膛内。因自身重力原因,在高温阶段时容易产生严重的收缩变形不均匀现象,烧结产品的椭圆度增加,导致后续加工量偏大,严重时还会引起产品报废,降低了产品实收率。


技术实现思路

1、本技术的主要目的在于提供一种靶坯卧式烧结时椭圆度不会增加的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台。

2、本技术提供的这种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,包括多段圆弧支撑块,各圆弧支撑块排列设置于卧式烧结炉中,各圆弧支撑块间的间距可调,钼管靶待烧结坯放置于圆弧支撑块的弧面上。

3、上述支撑台的一种实施方式中,所述圆弧支撑块为重质氧化锆材质,其圆弧面光滑。

4、上述支撑台的一种实施方式中,所述圆弧支撑块为半圆弧支撑块,其圆弧半径与所述钼管靶待烧结坯的半径相同。

5、上述支撑台的一种实施方式中,所述半圆弧支撑块共设置有6段,其以固定间距前后并列,其间距可调节。

6、上述支撑台的另一种实施方式中,所述圆弧支撑块为四分之一圆弧支撑块,两段四分之一圆弧支撑块并排可组合成一个半圆弧,两段四分之一圆弧支撑块间的间距可调节。

7、上述支撑台的另一种实施方式中,所述四分之一圆弧支撑块的圆弧半径与所述钼管靶待烧结坯的半径相同。

8、上述支撑台的另一种实施方式中,所述四分之一圆弧支撑块共设置有12段,其两两并排后再以固定间距前后并列,其间距可调节。

9、本技术的有益效果为:

10、1、钼管靶压坯卧式烧结时,通过支撑台圆弧面的支撑,明显的提高了压坯沿圆周方向收缩变形的一致性,烧结产品圆度得到较大保证,大幅度降低了后续的产品加工量,提高了的成品最终实收率。

11、2、通过调节长度方向上支撑块的间距,可以调节支撑台的支撑长度,扩大可烧结管靶靶坯的长度范围。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:它包括多段圆弧支撑块,各圆弧支撑块排列设置于卧式烧结炉中,各圆弧支撑块间的间距可调,钼管靶待烧结坯放置于圆弧支撑块的弧面上。

2.如权利要求1所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述圆弧支撑块为重质氧化锆材质,其圆弧面光滑。

3.如权利要求2所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述圆弧支撑块为半圆弧支撑块,其圆弧半径与所述钼管靶待烧结坯的半径相同。

4.如权利要求3所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述半圆弧支撑块共设置有6段,其以固定间距前后并列,其间距可调节。

5.如权利要求2所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述圆弧支撑块为四分之一圆弧支撑块,两段四分之一圆弧支撑块并排可组合成一个半圆弧,两段四分之一圆弧支撑块间的间距可调节。

6.如权利要求5所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述四分之一圆弧支撑块的圆弧半径与所述钼管靶待烧结坯的半径相同。

7.如权利要求6所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述四分之一圆弧支撑块共设置有12段,其两两并排后再以固定间距前后并列,其间距可调节。

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【技术特征摘要】

1.一种钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:它包括多段圆弧支撑块,各圆弧支撑块排列设置于卧式烧结炉中,各圆弧支撑块间的间距可调,钼管靶待烧结坯放置于圆弧支撑块的弧面上。

2.如权利要求1所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述圆弧支撑块为重质氧化锆材质,其圆弧面光滑。

3.如权利要求2所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述圆弧支撑块为半圆弧支撑块,其圆弧半径与所述钼管靶待烧结坯的半径相同。

4.如权利要求3所述的钼管靶卧式烧结用的弧形支撑台,其特征在于:所述半圆弧支撑块共设置...

【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏吴建国赵腾飞
申请(专利权)人:中钨稀有金属新材料湖南有限公司
类型:新型
国别省市:

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