本发明专利技术提供一种真空磁控溅射镀镆实验装置，包括镀膜机，所述镀膜机底部内侧安装有吸附机构，所述镀膜机内部安装有驱动机构，所述镀膜机上安装有防护机构，所述镀膜机上安装有收集机构，所述镀膜机上安装有卡合机构，所述镀膜机上安装有遮挡机构；通过驱动机构使吸附机构工作，有利于对镀膜机与台面吸附牢固，通过注气时防护机构被驱动，使防护机构对驱动机构闭锁限位，从而使吸附机构更加稳定，不会造成松动，通过收集机构和卡合机构的配合，有利于方便对电线和气管进行收纳存放，减少凌乱造成不必要的事故，通过遮挡机构的驱动，使触控组件进行遮挡防护，有利于防止镀膜机工作时无意触碰，影响实验的效果。影响实验的效果。影响实验的效果。
【技术实现步骤摘要】
一种真空磁控溅射镀镆实验装置
[0001]本专利技术属于真空磁控溅射
，具体的说是一种真空磁控溅射镀镆实验装置。
技术介绍
[0002]真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱，使在E
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B的作用下电子紧贴阴极表面飘移，设置一个与靶面电场正交的磁场，溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜，这种技术是玻璃膜技术中的最尖端技术，是由航天工业、兵器工业、和核工业三个方面相结合的顶尖技术的民用化，民用主要是通过这种技术达到节能、环保等作用。
[0003]然而，传统真空磁控溅射镀镆实验装置，在实验室工作时，主要有以下几个方面的问题：(1)由于一般实验室人员比较多也比较杂，将实验设备直接放置在实验平台上，如果人比较杂时，不慎会踢到下面电线或外部数据线时会造成设备滑动，从而造成实验事故的发生；(2)实验设备上缺乏气管卷收存放组件，造成电线和气管裸露在外，凌乱不美观，并且稍有不慎拉扯造成气管和电线松脱，存在安全隐患；(3)实验设备操控板缺乏遮挡防护组件，在实验中，有人不慎触碰后使设备无法正常工作。
技术实现思路
[0004]针对现有技术中的问题，本专利技术提供了一种真空磁控溅射镀镆实验装置。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案为：
[0005]一种真空磁控溅射镀镆实验装置，包括镀膜机，所述镀膜机底部内侧安装有吸附机构，所述吸附机构包括活动槽，所述镀膜机底部四角分别设有活动槽，四个所述活动槽底部延伸至镀膜机外侧，所述镀膜机底部内侧安装有四个压杆，四个所述压杆通过复位弹簧与镀膜机内部滑动连接，所述压杆底部延伸至活动槽内部，所述活动槽内部滑动连接有吸盘，所述压杆底部与吸盘顶部固定连接，所述压杆顶部固定连接有顶块，所述顶块顶部为半球形结构，所述顶块与镀膜机内部滑动连接。
[0006]作为本实施例的优选，所述驱动机构包括转杆，所述镀膜机两端内部转动连接有转杆，所述转杆上设有两个驱动槽，所述顶块顶部与驱动槽内部抵触，两个所述转杆延伸至镀膜机外侧。
[0007]作为本实施例的优选，所述转杆上固定连接有转扭，所述转扭内部安装有卡销，所述卡销通过压缩弹簧与转扭和转杆内部滑动连接，所述卡销为“L”形结构，所述镀膜机内侧设有对称的卡槽，所述卡销一端顶部延伸至其中一个卡槽内部，所述转扭上滑动连接有压块，所述压块与卡销垂直固定连接。
[0008]作为本实施例的优选，所述防护机构包括限位槽，两个所述转杆上设有限位槽，所述镀膜机两端内部安装有皮塞，所述皮塞通过挤压弹簧与镀膜机内部滑动连接。
[0009]作为本实施例的优选，所述皮塞上垂直固定连接有限位杆，所述限位杆贯穿于挤压弹簧延伸至转杆底侧，所述镀膜机内部设有导气槽和导流槽，所述导气槽一端延伸至皮塞底部，所述导气槽另一端延伸至镀膜机外侧，所述导流槽一端延伸至皮塞外侧，所述导流槽另一端延伸至镀膜机外侧。
[0010]作为本实施例的优选，所述收集机构包括收集槽，所述镀膜机顶部一端设有收集槽，所述镀膜机顶部一端转动连接有盖板，所述盖板上安装有第二磁块，所述镀膜机上安装有第一磁块。
[0011]作为本实施例的优选，所述卡合机构包括通槽，所述镀膜机顶部一端设有两组对称的通槽，所述通槽为“U”形结构，所述通槽延伸至镀膜机顶部外侧。
[0012]作为本实施例的优选，所述通槽与收集槽连通，所述通槽内部安装有防护垫，所述防护垫为“U”形结构，所述防护垫侧壁与镀膜机内部固定连接。
[0013]作为本实施例的优选，所述镀膜机内部安装有多组对称的橡胶块，所述橡胶块为梯形结构，所述橡胶块一端通过多个抵触弹簧与镀膜机内部滑动连接，所述橡胶块另一端延伸至通槽内部。
[0014]作为本实施例的优选，所述遮挡机构包括挡板，所述镀膜机顶部一端安装有挡板，所述挡板上设有两个滑槽，所述镀膜机内部安装有两个固定杆，所述固定杆与滑槽内部滑动连接，所述挡板通过滑槽和固定杆与镀膜机内部滑动连接。
[0015]作为本实施例的优选，所述挡板一端安装有凸起，所述凸起顶部为半球形结构，所述凸起底部通过活动弹簧与挡板内部滑动连接，所述凸起顶部延伸至挡板外侧。
[0016]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0017](1)本专利技术所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，通过活动槽的作用下有利于对吸盘收纳存放，通过压杆的作用下使吸盘安装在镀膜机内部，通过复位弹簧的作用下使压杆复位，有利于吸盘收纳存放，通过对顶块的驱动，顶块驱动压杆摆脱复位弹簧的作用下下滑，使吸盘滑出活动槽内部，有利于吸盘与桌面抵触吸附，从而使镀膜机与桌面放置稳定不易滑动，方便更好的实验工作，通过橡胶垫的作用下有利于对镀膜机放置稳定，起到防滑的作用，同时减少镀膜机与桌面的磨损，通过压缩弹簧的作用下使卡销与卡槽内部卡合，有利于对转杆和转扭限位无法转动，使吸盘不会随意被驱动，通过按压压块，压块驱动卡销摆脱压缩弹簧的作用下与卡槽分离，从而方便对转扭转动，转扭驱动转杆转杆上的驱动槽对顶块驱动，顶块驱动压杆使吸盘滑出，方便吸盘与桌面吸附固定，同时撤去外力，卡销与另一个卡槽卡合，从而对转杆限位，吸盘吸附稳定牢固。
[0018](2)本专利技术所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，通过导气槽的作用下方便与外部气管连接，使气体进入工作，通过气体对皮塞的抵触，皮塞摆脱挤压弹簧的作用下滑动，从而使气体能够进入导流槽内部方便进行实验工作，同时通过皮塞的滑动，使限位杆延伸至限位槽内部，有利于对转杆限位，当不工作时，无气体进入，从而使皮塞在挤压弹簧的作用下复位，并且皮塞带动限位杆与限位槽分离，方便装能够转动对吸盘复位工作。
[0019](3)本专利技术所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，通过收集槽的作用下有利于对电线和气管进行缠绕后卷收存放，并且通过盖板的转动，有利于对收集槽遮挡防护，使气管电线隐藏放置，同时有利于对气管防护，并且使工作台更加整洁，减少无意拉扯造成气管或电线松动，影响实验，在第一磁块和第二磁块的吸附下，使盖板闭合严密不易开合，通过通槽
的作用下有利于方便气管和电线进出，有利于电线和气管很好的放置在收集槽内部，防止盖板对气管电线的挤压，通过防护垫的作用下有利于对电线和气管侧壁防护，减少滑动时造成的磨损，同时起到了增大摩擦的作用，使气管和电线不易松滑，通过抵触弹簧的作用下有利于橡胶块具有伸缩性，从而使电线和气管能够自由的卡合在通槽内部，并且使电线气管不易滑出，起到了很好的限位防护作用。
[0020](4)本专利技术所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，通过固定杆和滑槽的作用下有利于方便挡板在镀膜机上滑动顺畅稳定，同时固定杆起到对挡板滑动位置控制的作用，防止挡板与镀膜机滑脱，通过挡板的滑动，有利于对镀膜机上的控制组件进行遮挡，从而防止工作时无意操控造成实验无法执行，影响实验的效果，通过活动弹簧的作用下使凸起具有伸缩性，有利于挡板滑入镀膜机内部后，凸起被镀膜机抵触收缩，从本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于，包括镀膜机(1)，所述镀膜机(1)底部内侧安装有吸附机构(3)；所述吸附机构(3)包括活动槽(306)，所述镀膜机(1)底部四角分别设有活动槽(306)，四个所述活动槽(306)底部延伸至镀膜机(1)外侧，所述镀膜机(1)底部内侧安装有四个压杆(303)，四个所述压杆(303)通过复位弹簧(305)与镀膜机(1)内部滑动连接，所述压杆(303)底部延伸至活动槽(306)内部，所述活动槽(306)内部滑动连接有吸盘(302)，所述压杆(303)底部与吸盘(302)顶部固定连接，所述压杆(303)顶部固定连接有顶块(304)，所述顶块(304)顶部为半球形结构，所述顶块(304)与镀膜机(1)内部滑动连接。2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)内部安装有驱动机构(2)，所述驱动机构(2)包括转杆(206)，所述镀膜机(1)两端内部转动连接有转杆(206)，所述转杆(206)上设有两个驱动槽(207)，所述顶块(304)顶部与驱动槽(207)内部抵触，两个所述转杆(206)延伸至镀膜机(1)外侧。3.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述转杆(206)上固定连接有转扭(201)，所述转扭(201)内部安装有卡销(203)，所述卡销(203)通过压缩弹簧(202)与转扭(201)和转杆(206)内部滑动连接。4.根据权利要求3所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)内侧设有对称的卡槽(204)，所述卡销(203)一端顶部延伸至其中一个卡槽(204)内部，所述转扭(201)上滑动连接有压块(205)，所述压块(205)与卡销(203)垂直固定连接。5.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)上安装有防护机构(4)，所述防护机构(4)包括限位槽(406)，两个所述转杆(206)上设有限位槽(406)，所述镀膜机(1)两端内部安装有皮塞(403)，所述皮塞(403)通过挤压弹簧(405)与镀膜机(1)内部滑动连接。6.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述皮塞(403)上垂直固定连接有限位杆(404)，所述限位杆(404)贯穿于挤压弹簧(405)延伸至转杆(206)底侧，所述镀膜机(1)内部设有导气槽(401)和导流槽(402...
【专利技术属性】
技术研发人员：万新军，万英南，
申请(专利权)人：米开罗那上海工业智能科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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