一种真空磁控溅射镀镆实验装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空磁控溅射镀镆实验装置，包括镀膜机，所述镀膜机底部内侧安装有吸附机构，所述镀膜机内部安装有驱动机构，所述镀膜机上安装有防护机构，所述镀膜机上安装有收集机构，所述镀膜机上安装有卡合机构，所述镀膜机上安装有遮挡机构；通过驱动机构使吸附机构工作，有利于对镀膜机与台面吸附牢固，通过注气时防护机构被驱动，使防护机构对驱动机构闭锁限位，从而使吸附机构更加稳定，不会造成松动，通过收集机构和卡合机构的配合，有利于方便对电线和气管进行收纳存放，减少凌乱造成不必要的事故，通过遮挡机构的驱动，使触控组件进行遮挡防护，有利于防止镀膜机工作时无意触碰，影响实验的效果。影响实验的效果。影响实验的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种真空磁控溅射镀镆实验装置


[0001]本专利技术属于真空磁控溅射
，具体的说是一种真空磁控溅射镀镆实验装置。

技术介绍

[0002]真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱，使在E
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B的作用下电子紧贴阴极表面飘移，设置一个与靶面电场正交的磁场，溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜，这种技术是玻璃膜技术中的最尖端技术，是由航天工业、兵器工业、和核工业三个方面相结合的顶尖技术的民用化，民用主要是通过这种技术达到节能、环保等作用。
[0003]然而，传统真空磁控溅射镀镆实验装置，在实验室工作时，主要有以下几个方面的问题：(1)由于一般实验室人员比较多也比较杂，将实验设备直接放置在实验平台上，如果人比较杂时，不慎会踢到下面电线或外部数据线时会造成设备滑动，从而造成实验事故的发生；(2)实验设备上缺乏气管卷收存放组件，造成电线和气管裸露在外，凌乱不美观，并且稍有不慎拉扯造成气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于，包括镀膜机(1)，所述镀膜机(1)底部内侧安装有吸附机构(3)；所述吸附机构(3)包括活动槽(306)，所述镀膜机(1)底部四角分别设有活动槽(306)，四个所述活动槽(306)底部延伸至镀膜机(1)外侧，所述镀膜机(1)底部内侧安装有四个压杆(303)，四个所述压杆(303)通过复位弹簧(305)与镀膜机(1)内部滑动连接，所述压杆(303)底部延伸至活动槽(306)内部，所述活动槽(306)内部滑动连接有吸盘(302)，所述压杆(303)底部与吸盘(302)顶部固定连接，所述压杆(303)顶部固定连接有顶块(304)，所述顶块(304)顶部为半球形结构，所述顶块(304)与镀膜机(1)内部滑动连接。2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)内部安装有驱动机构(2)，所述驱动机构(2)包括转杆(206)，所述镀膜机(1)两端内部转动连接有转杆(206)，所述转杆(206)上设有两个驱动槽(207)，所述顶块(304)顶部与驱动槽(207)内部抵触，两个所述转杆(206)延伸至镀膜机(1)外侧。3.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述转杆(206)上固定连接有转扭(201)，所述转扭(201)内部安装有卡销(203)，所述卡销(203)通过压缩弹簧(202)与转扭(201)和转杆(206)内部滑动连接。4.根据权利要求3所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)内侧设有对称的卡槽(204)，所述卡销(203)一端顶部延伸至其中一个卡槽(204)内部，所述转扭(201)上滑动连接有压块(205)，所述压块(205)与卡销(203)垂直固定连接。5.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述镀膜机(1)上安装有防护机构(4)，所述防护机构(4)包括限位槽(406)，两个所述转杆(206)上设有限位槽(406)，所述镀膜机(1)两端内部安装有皮塞(403)，所述皮塞(403)通过挤压弹簧(405)与镀膜机(1)内部滑动连接。6.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀镆实验装置，其特征在于：所述皮塞(403)上垂直固定连接有限位杆(404)，所述限位杆(404)贯穿于挤压弹簧(405)延伸至转杆(206)底侧，所述镀膜机(1)内部设有导气槽(401)和导流槽(402...

【专利技术属性】
技术研发人员：万新军，万英南，
申请(专利权)人：米开罗那上海工业智能科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：