【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学系统领域，尤其涉及一种共轴四反光学系统。
技术介绍
现有的三反射系统包括共轴三反射系统和离轴三反射系统。共轴三反射 光学系统在大视场的情况下，中心遮拦过大，影响了进入系统的能量，同时也降低了光学系统的成像质量；而离轴三反射光学系统相对于共轴系统增加 了自由度，每一镜片偏摆和旋转自由度都需要校正调节，光学基准与安装基 准无法高精度重合，给加工，装调，检测带来很大的困难。共轴三反射系统 和离轴三反射系统由于自身的特性对畸变校正不理想，因此，开发一种较为 理想的光学系统非常有必要。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述问题，克服现有技术中存在的不足，而提供了一种 大视场无遮拦、加工装调便利、畸变校正理想的共轴四反光学系统。本专利技术的技术解决方案是本专利技术为一种共轴四反光学系统，包括主镜 2、次镜3和第三镜4，其特殊之处在于共轴四反光学系统还包括第四镜5;主镜2和第三镜4位于同一侧，次镜3和第四镜5位于相对于主镜2和第三 镜4的另一侧，次镜3设置在主镜2的反射光路上，第三镜4设置在次镜3 的反射光路上，第四镜5设置在第三镜4的反射光路上。上述主镜2...
【技术保护点】
一种共轴四反光学系统，包括主镜（２）、次镜（３）和第三镜（４），其特征在于：所述共轴四反光学系统还包括第四镜（５）；所述主镜（２）和第三镜（４）位于同一侧，所述次镜（３）和第四镜（５）位于相对于主镜（２）和第三镜（４）的另一侧，所述次镜（３）设置在主镜（２）的反射光路上，所述第三镜（４）设置在次镜（３）的反射光路上，所述第四镜（５）设置在第三镜（４）的反射光路上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马臻，李英才，李旭阳，马洁，樊学武，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]
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