高耐化学性硼硅玻璃及用途制造技术

本发明专利技术公开了一种高耐化学性硼硅玻璃，组成按重量％基于氧化物计为：ＳｉＯ２、７１～７５，ＡＬ２Ｏ３、３～６，Ｂ２Ｏ３、８～１０，Ｎａ２Ｏ、４～１０，Ｋ２Ｏ、０～２．５其中Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、７～１０，ＣａＯ、０～１．２，ＭｇＯ、０～１，其中ＣａＯ＋ＭｇＯ、０～１．２，ＢａＯ、１～３和ＣｅＯ２、０～０．３。本发明专利技术的有益效果：１．组成成分中不使用Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３和ＢａＳＯ４等有害成分，能作为药物包装材料；２．实验测得用上述成分的物质采用现有的生产设备生产得到的高耐化学性硼硅玻璃的热膨胀系数为５．０×１０－６～６．０×１０－６Ｋ－１，转换温度Ｔｇ为５２０～５７２℃，软化点为７６５～７８２℃，工作温度为９２０－１２００℃，密度２．３２～２．５ｇ／ｃｍ３符合药物包装要求，且降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高耐化学性硼硅玻璃，其特征在于：其组成按重量％基于氧化物计为：　　ＳｉＯ↓［２］　７１～７５　　ＡＬ↓［２］Ｏ↓［３］　３～６　　Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］　８～１０　　Ｎａ↓［２］Ｏ　４～１０　　Ｋ↓［２］Ｏ　０～２．５　　其中Ｎａ↓［２］Ｏ＋Ｋ↓［２］Ｏ　７～１０　　ＣａＯ　０～１．２　　ＭｇＯ　０～１　　其中ＣａＯ＋ＭｇＯ　０～１．２　　ＢａＯ　１～３和　　ＣｅＯ↓［２］　０～０．３。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑树祥，史生宏，孙翔，
申请(专利权)人：武汉力诺太阳能集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：88[中国|济南]