一种芯片内多列DIE堆叠结构制造技术

技术编号:37687740 阅读:26 留言:0更新日期:2023-05-28 09:43
本实用新型专利技术涉及芯片堆叠技术领域,尤其涉及一种芯片内多列DIE堆叠结构,包括基板、DIE晶粒、FOW层和金属引线,所述基板上的第一堆叠区和第二堆叠区上从下至上依次堆叠有若干DIE晶粒,相邻的DIE晶粒之间填充有FOW层,第一堆叠区和第二堆叠区的两侧设有单排触点列和双排触点组,双排触点组包括交错排列设置的外触点列和内触点列,DIE晶粒两侧通过金属引线与基板连接。本实用新型专利技术中,通过指定方式进行堆叠内存方式,实现高位宽存储颗粒及其他高位宽芯片,同时还可保证芯片内等长控制需求,将高速信号的等长控制在基板上优化,实现芯片满载运行,解决高位宽芯片平铺状态下基板面积的占用问题,也兼顾高度及芯片性能,排除芯片内部DIE颗粒的不平整性。DIE颗粒的不平整性。DIE颗粒的不平整性。

【技术实现步骤摘要】
一种芯片内多列DIE堆叠结构


[0001]本技术涉及芯片堆叠
,尤其涉及一种芯片内多列DIE堆叠结构。

技术介绍

[0002]芯片堆叠多用于节省芯片面积及减小芯片功耗的方向,此种形式的使用,可以减少PCB上器件占用面积,减小芯片功耗,是目前降低功耗及产品轻薄化、小型化的主流方向,片内堆叠当前场景下多为单列堆叠,实际应用中常常由于结构限制,对芯片高度又一定限制,常采用多颗芯片同时使用的情况;结构受限的情况下,为达到多位宽的效果,常用做法是在PCB板上添加多颗芯片,这种做法会在PCB布局和走线过程中增大占用面积,以及拉长信号及电源线,增加单板功耗,目前芯片内单列堆叠存在一定问题和风险,使得多位宽芯片常规状态下高度过高、功耗较高、发热严重,有鉴于此,有必要对目前的芯片堆叠予以改进,以解决上述问题;
[0003]本
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于理解本专利技术构思的
技术介绍
,并且因此,它可以包含不构成现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种芯片内多列DIE堆叠结构,以解决上述背景技术中提出的问题。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种芯片内多列DIE堆叠结构,包括基板(1)、DIE晶粒(5)、FOW层(6)和金属引线(7),其特征在于,所述基板(1)的一侧设置有第一堆叠区(21),基板(1)的另一侧设置有第二堆叠区(22),并且第一堆叠区(21)和第二堆叠区(22)上从下至上依次堆叠设置有若干DIE晶粒(5),其中相邻的DIE晶粒(5)之间填充有FOW层(6),所述第一堆叠区(21)的两侧和第二堆叠区(22)的两侧设置有单排触点列(3),所述第一堆叠区(21)的两侧和第二堆叠区(22)的两侧还对称设置有双排触点组(4),双排触点组(4)包括外触点列(41)和内触点列(42),并且外触点列(41)和内触点列(42)之间为交错排列设置,所述DIE晶粒(5)两侧分别连接有金属引线(7),金属引线(7)的另一端与基板(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵婉冯瑞
申请(专利权)人:西安哲威电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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