【技术实现步骤摘要】
一种喷淋摇摆机构及蚀刻设备
[0001]本技术涉及蚀刻设备
,尤其涉及一种喷淋摇摆机构及蚀刻设备。
技术介绍
[0002]蚀刻是将印制电路板的基板使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类,通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。喷淋是蚀刻作业中的一个重要步骤,其对蚀刻的均匀性能具有很大影响。
[0003]现有的喷淋机构通常都是对喷淋架上的喷嘴进行水平驱动调节的(如现有的技术专利:202023341275.1),从而实现将药水喷淋到电路板的基板的上表面,如此就很容易使得基板上表面产生积液,进而使得基板中间产生水池效应(水池效应指的是药水喷淋到基板上,而继续喷淋出的药水会被原有的药水积液所阻碍,不能直接与基板表面的待蚀刻层接触产生化学反应);这样就容易导致基板的表面喷淋不均匀,进而严重影响蚀刻质量。
技术实现思路
[0004]针对现有技术的不足,本技术提供一种喷淋 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种喷淋摇摆机构,用于安装在蚀刻箱内,其特征在于,该喷淋摇摆机构包括:导向座(2),所述导向座(2)固设于所述蚀刻箱内,所述导向座(2)上设有竖直导向部(21);喷淋架(3),所述喷淋架(3)滑动连接于所述竖直导向部(21)上,所述喷淋架(3)的一侧设有若干喷嘴(31);驱动组件(4),所述驱动组件(4)包括驱动轮(41)和驱动轴(42);所述驱动轮(41)转动连接于所述喷淋架(3)上;所述驱动轴(42)水平设置,所述驱动轴(42)与所述驱动轮(41)固定连接,所述驱动轴(42)的轴线与所述驱动轮(41)的轴线间隔、且平行设置;所述驱动轴(42)受驱转动,可使所述驱动轮(41)转动,以驱使所述喷淋架(3)上下往复滑动。2.根据权利要求1所述的喷淋摇摆机构,其特征在于,所述喷淋架(3)设有两件,两所述喷淋架(3)间隔、平行设置,两所述喷淋架(3)上的所述喷嘴(31)相对设置。3.根据权利要求2所述的喷淋摇摆机构,其特征在于,所述驱动组件(4)包括两所述驱动轮(41)和一所述驱动轴(42);两所述驱动轮(41)分别转动连接于两所述喷淋架(3)上,两所述驱动轮(41)均固定连接于所述驱动轴(42)上。4.根据权利要求3所述的喷淋摇摆机构,其特征在于,所述驱动组件(4)还包括驱动器(43),所述驱动器(43)的输出端与所述驱动轴(42)一端连接。...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡志浩,赵喜华,
申请(专利权)人:东莞市威力固电路板设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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