本发明专利技术公开了一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,涉及PCB线路制作领域,包括以下步骤:S1、数据采集分类、S2、实时监控安装监测、S3、循环分析提高稳定性、S4、线性回归统计分析;该基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,通过蚀刻机进行大数据分析采集时,直接启动大数据收集分析稳定机构,在工作的过程中,直接对外部的工作人员进行遮挡,增加在大数据采集分时的稳定性,并增加采集后数据的准确性,防止在进行大数据采集时,无意间受到外部的撞击后,使蚀刻机受到都振动偏移,并造成记录时的数据出现偏差,且后期再进行数据分析时出现误差,降低分析后数据的准确性。降低分析后数据的准确性。降低分析后数据的准确性。
【技术实现步骤摘要】
一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法
[0001]本专利技术涉及PCB线路制作技术,具体涉及一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法。
技术介绍
[0002]目前的提高蚀刻均匀性的方法主要来源于设备药水喷嘴的设计,有扇形、锥形等,排列也有并排式、错位式、斜排式等,但影响蚀刻均匀性的影响因子其实不单单是喷嘴设计,还受铜厚均匀性,喷嘴压力、曝光均匀性、线路补偿等影响,导致同一批产品最终蚀刻出来的产品均匀性各不相同,都会对蚀刻的均匀性造成影响,且在对大数据收集分析时,如果受到外部的撞击时,就会时实时监控的设备出现晃动和掉落,或者人工误操作造成误触发的情况,使收集的数据出现偏差,降低了分析时的准确性,且工作的电路出现意外情况时,就会停止数据的分析,影响后期数据分析判断的效率。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,以解决现有技术中的上述不足之处。
[0004]为了实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,包括以下步骤:S1、数据采集分类:首先对蚀刻机上端各加工端进行单独分析,各加工端工作过程中的变化对电路板表面蚀刻均匀性的影响为正向影响、负向影响或者无影响,各加工端工作过程中的变化,生成了相对应加工后电路板表面蚀刻均匀性变化的变量,将带有正向影响或者负向影响相对应的变量统称为x,电路板上端加工后蚀刻均匀性的结果统称y,将x与y之间变化的关系统计到数据中心的表格中;S2、实时监控安装监测:将监控机构安装到蚀刻机上端,并把监控后得到的x进行反馈和分类统计;S3、循环分析提高稳定性:通过对统计后的数据x进行分析计算,分析x为稳定或不稳定,再查询稳定中的x中的属于正向影响部分或者负向影响部分,经计算分析后对负向影响的部分进行剔除,并对合格的x进行记录搜集;S4、线性回归统计分析:再对各个加工端经过1
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2个月的调整以及数据搜集后,并对搜集后的数据传输到外部的数据进行分析,此时各x的统计结果的数值趋向于稳定,且处于无法再提高的状态,此时通过线性回归的方式寻找出y与各x的关系式。
[0005]进一步地,所述S1中每天把搜集到的y与各个x的值记录在表格内,以此观察x的稳定性及x变化时y随之带来的变化。
[0006]进一步地,所述S2中对于不稳定的x加工端进行调整,当x的稳定性或者能力值提高时,y不随之变化的,则考虑将x剔除,当x的稳定性或者能力值提高时,y随之变化的,将x的测量值转化为cpk;分析x与y的关系图时,将新发现的x放入表格中,以此循环,不断完善
直到把所有影响的因子x纳入表格,把所有与y无影响的x剔除,最终得x与y之间关系的表格。
[0007]进一步地,所述蚀刻机还包括大数据收集分析稳定机构、数据采集防意外机构和提醒警示机构。
[0008]进一步地,所述大数据收集分析稳定机构包括安装凹口、推动弹簧、活动安装杆、定位磁块、固定电磁块和活动阻挡气囊,所述蚀刻机外部四周中部上端均开设有安装凹口,所述安装凹口内部上端均安装有活动安装杆,所述活动安装杆上端均通过铰链与安装凹口内腔上端相连接,所述活动安装杆底端通过螺栓安装有活动阻挡气囊,所述活动安装杆在靠近安装凹口的一侧上端与安装凹口内部均通过螺栓安装有推动弹簧,所述安装凹口内腔一侧中下端通过螺栓安装有固定电磁块,所述固定电磁块的控制电路通过导线与蚀刻机内部的控制电路电性连接,所述活动安装杆在位于固定电磁块的相对位置均安装有定位磁块。
[0009]进一步地,所述活动安装杆和活动阻挡气囊侧视均呈倒T型结构,所述活动阻挡气囊截面均呈圆形结构,所述推动弹簧均采用弹簧钢材质制成,所述推动弹簧均呈压缩状态。
[0010]进一步地,所述安装凹口均呈倒T型结构,所述安装凹口内腔一侧在位于推动弹簧的相对位置均开设有安装口,所述蚀刻机底端四周均通过螺钉安装有固定支脚,所述蚀刻机上端固定安装有加工台板。
[0011]进一步地,所述提醒警示机构包括输送通孔和发声哨头,所述活动阻挡气囊在靠近安装凹口的一侧中部均开设有输送通孔,所述活动阻挡气囊在位于输送通孔的相对位置通过粘接安装有发声哨头。
[0012]进一步地,所述数据采集防意外机构包括连接总线、电压检测控制器、小型电动伸缩杆、储备电池、活动导块、常用导块、信号发送器、转换导块和触控开关,所述蚀刻机内腔底端左侧中部安装有储备电池,所述蚀刻机内腔左侧中部下端通过固定套安装有小型电动伸缩杆,所述小型电动伸缩杆右侧上端通过螺钉安装有电压检测控制器,所述储备电池上端左侧电性安装有连接总线,所述连接总线与蚀刻机内部的控制电路电性连接,所述电压检测控制器与连接总线通过导线电性连接,所述小型电动伸缩杆底端通过螺栓安装有活动导块,所述储备电池右侧中部通过导线安装有信号发送器,所述信号发送器与外部的控制中心通过无线连接,所述储备电池左侧中部下端通过导线安装有转换导块,所述蚀刻机内腔左侧在位于转换导块的相对位置安装有常用导块,所述活动导块与常用导块之间紧密贴合,所述常用导块和活动导块均通过导线与蚀刻机内部的控制电路电性连接,所述蚀刻机内腔底端左侧中部安装有触控开关,所述触控开关通过导线分别与信号发送器和储备电池电性连接。
[0013]进一步地,所述触控开关位于活动导块的正下方,所述蚀刻机前侧中部下端开设有操作通槽,所述操作通槽内部通过螺栓安装有机盖。
[0014]与现有技术相比,本专利技术提供的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法:首先对蚀刻机上端各个加工端进行单独监控分析后,把分析后的结果进行统计,建立好x和y之间变化的关系,当分析的能力值达到1.33后,对不稳定的x进行剔除,对稳定的x中寻找不达标的进行剔除,对达标的进行集中收集分析,收集1
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2个月时间的数据,把各x与y的数据进行线性回归,得到y与x的拟合方程式,把x分成不可控x以及可控x,实时监控
不可控x,并通过拟合方程式实时计算出满足理想状态y所需要的可控x,并实时调整控制此时的可控x,并调整到最佳的状态,从而通过大数据的采集和分析,达到提高蚀刻均匀性的方法;在通过蚀刻机进行大数据分析采集时,直接启动大数据收集分析稳定机构,在工作的过程中,直接对外部的工作人员进行遮挡,增加在大数据采集分时的稳定性,并增加采集后数据的准确性,防止在进行大数据采集时,无意间受到外部的撞击后,使蚀刻机受到都振动偏移,并造成记录时的数据出现偏差,且后期再进行数据分析时出现误差,降低分析后数据的准确性,当外部的工作人员无意间往蚀刻机一侧移动时,就会触发提醒警示机构,提醒外部的人,蚀刻机受到撞击不能在往前移动,不仅可以起到缓冲的作用,还可以起到提醒警示的作用,防止无意间受到撞击后,还继续的往蚀刻机一侧移动,对蚀刻机进行撞击,不仅影响正常的数据采集还会受到受损的情况;同时在蚀刻机进行工作时,如果蚀刻机的使用电路出现意外故障时,就会触发数据采集防意外机构,把控制电路出现问题的情况告诉外部的工作人员需要进行及时的处理,增加在进行数据采集时的保障性,以及增加本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,其包括以下步骤:S1、数据采集分类:首先对蚀刻机(1)上端各加工端进行单独分析,各加工端工作过程中的变化对电路板表面蚀刻均匀性的影响为正向影响、负向影响或者无影响,各加工端工作过程中的变化,生成了相对应加工后电路板表面蚀刻均匀性变化的变量,将带有正向影响或者负向影响相对应的变量统称为x,电路板上端加工后蚀刻均匀性的结果统称y,将x与y之间变化的关系统计到数据中心的表格中;S2、实时监控安装监测:将监控机构安装到蚀刻机(1)上端,并把监控后得到的x进行反馈和分类统计;S3、循环分析提高稳定性:通过对统计后的数据x进行分析计算,分析x为稳定或不稳定,再查询稳定中的x中的属于正向影响部分或者负向影响部分,经计算分析后对负向影响的部分进行剔除,并对合格的x进行记录搜集;S4、线性回归统计分析:再对各个加工端经过1
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2个月的调整以及数据搜集后,并对搜集后的数据传输到外部的数据进行分析,此时各x的统计结果的数值趋向于稳定,且处于无法再提高的状态,此时通过线性回归的方式寻找出y与各x的关系式。2.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述S1中每天把搜集到的y与各个x的值记录在表格内,以此观察x的稳定性及x变化时y随之带来的变化。3.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述S2中对于不稳定的x加工端进行调整,当x的稳定性或者能力值提高时,y不随之变化的,则考虑将x剔除,当x的稳定性或者能力值提高时,y随之变化的,将x的测量值转化为cpk;分析x与y的关系图时,将新发现的x放入表格中,以此循环,不断完善直到把所有影响的因子x纳入表格,把所有与y无影响的x剔除,最终得x与y之间关系的表格。4.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述蚀刻机(1)还包括大数据收集分析稳定机构(10)、数据采集防意外机构(21)和提醒警示机构(24)。5.根据权利要求4所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述大数据收集分析稳定机构(10)包括安装凹口(4)、推动弹簧(5)、活动安装杆(6)、定位磁块(7)、固定电磁块(8)和活动阻挡气囊(9),所述蚀刻机(1)外部四周中部上端均开设有安装凹口(4),所述安装凹口(4)内部上端均安装有活动安装杆(6),所述活动安装杆(6)上端均通过铰链与安装凹口(4)内腔上端相连接,所述活动安装杆(6)底端通过螺栓安装有活动阻挡气囊(9),所述活动安装杆(6)在靠近安装凹口(4)的一侧上端与安装凹口(4)内部均通过螺栓安装有推动弹簧(5),所述安装凹口(4)内腔一侧中下端通过螺栓安装有固定电磁块(8),所述固定电磁块(8)的控制电路通过导线与蚀刻机(1)内部的控制电路电性连接...
【专利技术属性】
技术研发人员:章恒,
申请(专利权)人:圆周率半导体南通有限公司,
类型:发明
国别省市:
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