【技术实现步骤摘要】
一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法
[0001]本专利技术涉及PCB线路制作技术，具体涉及一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法。
技术介绍
[0002]目前的提高蚀刻均匀性的方法主要来源于设备药水喷嘴的设计，有扇形、锥形等，排列也有并排式、错位式、斜排式等，但影响蚀刻均匀性的影响因子其实不单单是喷嘴设计，还受铜厚均匀性，喷嘴压力、曝光均匀性、线路补偿等影响，导致同一批产品最终蚀刻出来的产品均匀性各不相同，都会对蚀刻的均匀性造成影响，且在对大数据收集分析时，如果受到外部的撞击时，就会时实时监控的设备出现晃动和掉落，或者人工误操作造成误触发的情况，使收集的数据出现偏差，降低了分析时的准确性，且工作的电路出现意外情况时，就会停止数据的分析，影响后期数据分析判断的效率。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，以解决现有技术中的上述不足之处。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，包括以下步骤：S...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，其特征在于，其包括以下步骤：S1、数据采集分类：首先对蚀刻机（1）上端各加工端进行单独分析，各加工端工作过程中的变化对电路板表面蚀刻均匀性的影响为正向影响、负向影响或者无影响，各加工端工作过程中的变化，生成了相对应加工后电路板表面蚀刻均匀性变化的变量，将带有正向影响或者负向影响相对应的变量统称为x，电路板上端加工后蚀刻均匀性的结果统称y，将x与y之间变化的关系统计到数据中心的表格中；S2、实时监控安装监测：将监控机构安装到蚀刻机（1）上端，并把监控后得到的x进行反馈和分类统计；S3、循环分析提高稳定性：通过对统计后的数据x进行分析计算，分析x为稳定或不稳定，再查询稳定中的x中的属于正向影响部分或者负向影响部分，经计算分析后对负向影响的部分进行剔除，并对合格的x进行记录搜集；S4、线性回归统计分析：再对各个加工端经过1
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2个月的调整以及数据搜集后，并对搜集后的数据传输到外部的数据进行分析，此时各x的统计结果的数值趋向于稳定，且处于无法再提高的状态，此时通过线性回归的方式寻找出y与各x的关系式。2.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，其特征在于，所述S1中每天把搜集到的y与各个x的值记录在表格内，以此观察x的稳定性及x变化时y随之带来的变化。3.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，其特征在于，所述S2中对于不稳定的x加工端进行调整，当x的稳定性或者能力值提高时，y不随之变化的，则考虑将x剔除，当x的稳定性或者能力值提高时，y随之变化的，将x的测量值转化为cpk；分析x与y的关系图时，将新发现的x放入表格中，以此循环，不断完善直到把所有影响的因子x纳入表格，把所有与y无影响的x剔除，最终得x与y之间关系的表格。4.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，其特征在于，所述蚀刻机（1）还包括大数据收集分析稳定机构（10）、数据采集防意外机构（21）和提醒警示机构（24）。5.根据权利要求4所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法，其特征在于，所述大数据收集分析稳定机构（10）包括安装凹口（4）、推动弹簧（5）、活动安装杆（6）、定位磁块（7）、固定电磁块（8）和活动阻挡气囊（9），所述蚀刻机（1）外部四周中部上端均开设有安装凹口（4），所述安装凹口（4）内部上端均安装有活动安装杆（6），所述活动安装杆（6）上端均通过铰链与安装凹口（4）内腔上端相连接，所述活动安装杆（6）底端通过螺栓安装有活动阻挡气囊（9），所述活动安装杆（6）在靠近安装凹口（4）的一侧上端与安装凹口（4）内部均通过螺栓安装有推动弹簧（5），所述安装凹口（4）内腔一侧中下端通过螺栓安装有固定电磁块（8），所述固定电磁块（8）的控制电路通过导线与蚀刻机（1）内部的控制电路电性连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：章恒，
申请(专利权)人：圆周率半导体南通有限公司，
类型：发明
国别省市：
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