本实用新型专利技术涉及一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，位于真空内部的靶座，靶座的内侧设置靶材，靶材的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构，真空内部设置有与挡板连接的传动结构；真空外部设置有与驱动结构连接的旋转结构，旋转结构的前端延伸至真空内部与传动结构相接；旋转结构包括前端平置的旋转导入器，旋转导入器由驱动结构驱动转动；所述的传动结构包括位于旋转导入器前方的主动锥齿轮，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋转导入器前端设置有旋转轴，旋转轴上设置从动锥齿轮，主动锥齿轮、从动锥齿轮啮合构成锥齿轮组，旋转轴上设置连接杆，挡板位于连接杆的前端，从动锥齿轮的转动带动连接杆前端的挡板的开合。端的挡板的开合。端的挡板的开合。
【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置
[0001]本技术涉及磁控溅射系统，具体涉及一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置。
技术介绍
[0002]磁控溅射是一种应用领域极广泛的真空镀膜技术，比如光学薄膜、微电子、新能源等。在磁控溅射系统中，多数使用多靶头(磁控)溅射系统，即在一个系统中同时安装多个靶材，这样可以实现一个腔体多种材料的制备或者共溅射，同时减少了更换靶材的时间成本，提高效率。但是，多靶材同时存在的设备腔体中，会存在相互干扰，会造成靶材相互污染，影响膜层质量。即便是单靶材系统中，(设备)腔体气氛控制不好，也会造成靶材中毒。为有效缓解此类情况，磁控溅射靶材前端一般都会安装可以开关的挡板，将靶材保护起来。但是现有的(平面)挡板由于结构问题档板和靶之间存在间隙，无法很好的遮蔽靶材。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，解决
技术介绍
中的问题，为了更高质量的膜层生长，采用本技术的结构可以更好的遮蔽靶材，实现在溅射系统中更全面的靶材保护。
[0004]为了实现以上目的，本技术采用的技术方案为：一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，包括：位于真空内部的靶座，靶座的内侧设置靶材，靶材的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构，真空内部设置有与挡板连接的传动结构；真空外部设置有与驱动结构连接的旋转结构，旋转结构的前端延伸至真空内部与传动结构相接；
[0005]所述的旋转结构包括前端平置的旋转导入器，所述的旋转导入器由驱动结构驱动转动；所述的传动结构包括位于旋转导入器前方的主动锥齿轮，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋转导入器前端设置有旋转轴，旋转轴上设置从动锥齿轮，主动锥齿轮、从动锥齿轮啮合构成锥齿轮组，旋转轴上设置连接杆，所述的挡板位于连接杆的前端，从动锥齿轮的转动带动连接杆前端的挡板的开合。
[0006]进一步的，所述的挡板为穹形挡板；所述的连接杆上沿靶座的长度方向设置水平槽口，所述的旋转轴沿水平槽口的槽长方向可移，所述的旋转轴紧锁于所述的水平槽口中。
[0007]再进一步的，固定座上位于连接杆一侧设置硬限位块。
[0008]进一步的，所述的传动结构与旋转结构之间设置可伸缩传动结构，所述的可伸缩传动结构包括与旋转导入器前端铰接的水平不动杆，水平不动杆中同轴插置有可伸缩传动杆，所述的可伸缩传动杆沿水平不动杆的杆长方向来回可移，所述的可伸缩传动杆上设置限位其转动的转动限制块，所述的主动锥齿轮设置于可伸缩传动结构的可伸缩传动杆的最前端。
[0009]再进一步的，所述的驱动结构的步进电机的转动带动旋转结构的旋转导入器转动。
[0010]再进一步的，步进电机上设置位置限位器，所述的位置限位器包括步进电机的转动轴上设置的触发块，触发块的两侧设置限位开关，触发块距离两侧的限位开关的行程与穹形挡板开合的行程对应。
[0011]本技术的技术效果在于：采用本技术的结构可以更好的遮蔽靶材，实现在溅射系统中更全面的靶材保护。
附图说明
[0012]图1为本技术的整体结构图；
[0013]图2为本技术的可伸缩传动结构的结构图；
[0014]图3为本技术的(真空)内部的结构图；
[0015]图4为本技术的传动结构的结构图；
[0016]图5为本技术的穹形挡板闭合状态的俯视结构图；
[0017]图6为本技术的穹形挡板打开状态的俯视结构图；
[0018]图7为本技术的(真空)外部的结构图。
具体实施方式
[0019]参照图1，图1左侧为真空内部，右侧为真空外部。
[0020]参照图2，图2从左至右是本技术可伸缩传动结构4从外往内的结构图。
[0021]一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，包括：位于真空内部的靶座b，靶座b的内侧设置靶材a，靶材a的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构2，真空内部设置有与挡板连接的传动结构5；真空外部设置有与驱动结构2连接的旋转结构3，旋转结构3的前端延伸至真空内部与传动结构5相接；
[0022]所述的旋转结构3包括前端平置的旋转导入器31，所述的旋转导入器31由驱动结构2驱动转动；所述的传动结构5包括位于旋转导入器31前方的主动锥齿轮51，以及位于靶座b上的固定座53，固定座53上垂直旋转导入器31前端设置有旋转轴54，旋转轴54上设置从动锥齿轮52，主动锥齿轮51、从动锥齿轮52啮合构成锥齿轮组，旋转轴54上设置连接杆55，所述的挡板位于连接杆55的前端，从动锥齿轮52的转动带动连接杆55前端的挡板的开合。
[0023]进一步的，所述的挡板为穹形挡板1；所述的连接杆55上沿靶座b的长度方向设置水平槽口55a，所述的旋转轴54沿水平槽口55a的槽长方向可移，所述的旋转轴54紧锁于所述的水平槽口55a中。
[0024]再进一步的，固定座53上位于连接杆55一侧设置硬限位块56。
[0025]进一步的，所述的传动结构5与旋转结构3之间设置可伸缩传动结构4，所述的可伸缩传动结构4包括与旋转导入器31前端铰接的水平不动杆42，水平不动杆42中同轴插置有可伸缩传动杆41，所述的可伸缩传动杆41沿水平不动杆42的杆长方向来回可移，所述的可伸缩传动杆41上设置限位其转动的转动限制块43，所述的主动锥齿轮51设置于可伸缩传动结构4的可伸缩传动杆41的最前端。
[0026]再进一步的，所述的驱动结构2的步进电机21的转动带动旋转结构3的旋转导入器31转动。
[0027]再进一步的，步进电机21上设置位置限位器22，所述的位置限位器22包括步进电
机21的转动轴上设置的触发块，触发块的两侧设置限位开关，触发块距离两侧的限位开关的行程与穹形挡板1开合的行程对应。
[0028]参照附图，真空内部的穹形挡板1由真空外部的驱动结构2的步进电机21驱动，(步进)电机21带动旋转结构3的旋转导入器31的旋转动作导入到真空内部。可伸缩传动结构4的可伸缩传动杆41带动真空内部传动结构5的动作带动靶材a前端的穹形挡板1旋转，实现挡板的关闭以及开启。
[0029]进一步的说明，传动结构5的主动锥齿轮51、从动锥齿轮52采用一比一啮合，这样可以让(穹形)挡板1旋转角度与(真空)外部驱动的(旋转结构3)旋转角度实现同步，方便(真空)外部的限位调整，更直观的体现(真空)内部挡板的位置。
[0030]在真空内部，整个传动结构5由固定座53安装在靶座b上。通过旋转导入器31带动锥齿轮组转动，从而使(穹形)挡板1实现绕着旋转轴54的转动。
[0031](穹形)挡板1的连接杆55上沿靶座b的长度方向设置水平槽口55a，连接杆55与旋转轴54之间采用水平槽口夹紧的方式连接，这样可以实现(穹形)挡板1位置的前后调整，使遮蔽效果大大提高。
[0032]硬限位块56用于限制(穹形)挡板1的打开、闭本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，包括：位于真空内部的靶座(b)，靶座(b)的内侧设置靶材(a)，靶材(a)的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构(2)，其特征在于：真空内部设置有与挡板连接的传动结构(5)；真空外部设置有与驱动结构(2)连接的旋转结构(3)，旋转结构(3)的前端延伸至真空内部与传动结构(5)相接；所述的旋转结构(3)包括前端平置的旋转导入器(31)，所述的旋转导入器(31)由驱动结构(2)驱动转动；所述的传动结构(5)包括位于旋转导入器(31)前方的主动锥齿轮(51)，以及位于靶座(b)上的固定座(53)，固定座(53)上垂直旋转导入器(31)前端设置有旋转轴(54)，旋转轴(54)上设置从动锥齿轮(52)，主动锥齿轮(51)、从动锥齿轮(52)啮合构成锥齿轮组，旋转轴(54)上设置连接杆(55)，所述的挡板位于连接杆(55)的前端，从动锥齿轮(52)的转动带动连接杆(55)前端的挡板的开合。2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：所述的挡板为穹形挡板(1)；所述的连接杆(55)上沿靶座(b)的长度方向设置水平槽口(55a)，所述的旋转轴(54)沿水平槽口(55a)的槽长方向可移，所述的旋转轴(54)紧锁于所述的水平槽...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨文超，韦尚潮，廖昭胜，
申请(专利权)人：安徽外延科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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