一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法，该方法对基膜进行表面处理后采用双面磁控溅射镀氧化铝层及在其氧化铝层进一步真空蒸镀铝膜；该增强型双面真空镀铝膜包括从上到下依次设置有镀铝层、镀氧化铝层、基膜、镀氧化铝层和镀铝层；所述基膜厚度为4～6微米；所述镀氧化铝层厚度为5～7纳米；所述镀铝层厚度为50～60纳米；相较于普通蒸镀法，本发明专利技术对基膜进行表面处理后采用双面磁控溅射镀氧化铝层及在其氧化铝层进一步真空蒸镀铝膜的方法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好；双面同时溅射，不仅提高了镀膜效率；双面增强镀铝膜还显著提高其阻隔性。双面增强镀铝膜还显著提高其阻隔性。双面增强镀铝膜还显著提高其阻隔性。

【技术实现步骤摘要】
一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及包装材料
，具体涉及一种镀铝膜技术，尤其是一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]在柔性包装
，尤其是食品包装
，聚合物薄膜由于具有价廉、质轻、透光性好的等优点，越来越多的被人们用于替代玻璃或金属包装制品。而高阻隔性薄膜由于其阻隔性能优异，且成本较低、使用便捷、力学强度大、便于印刷等优点，在食品、化学药品等包装市场上被广泛使用，发展迅速。
[0003]初代阻隔膜材料主要以聚偏二氯乙烯、聚酯、聚乙烯等有机薄膜为代表，但上述材料自身特性导致其在阻隔气体和液体分子方面性能较差。此外，医疗、食品、电子等领域产品对于包装阻隔性的要求越来越高，因此多选用阻隔性较好的金属箔与塑料薄膜复合，但金属箔同样存在成本较高，折叠留痕等问题，针对上述问题，目前多采用真空镀铝膜作为阻隔膜。
[0004]而常见真空镀铝阻隔膜存在镀铝层与基膜(如PP薄膜、PET薄膜等)之间结合力较低，复合后剥离强度较低，受力较大时容易造成复合膜的两层膜之间分层，对包装袋的阻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种增强型双面真空镀铝膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：将基膜在双面磁控溅射装置中进行放卷；S2：在真空环境下对基膜的双面进行镀膜处理a、基膜表面处理：将基膜经过电晕处理后涂布聚乙烯醇/玉米醇溶蛋白/乙醇的混合液，干燥；b、磁控溅射镀氧化铝：将基膜膜卷置于磁控溅射设备真空室内，将靶材平均分布在两个磁控溅射的靶位处，基底温度为室温，设备运行时，两个磁控溅射靶位同时运行，对基膜的两个面进行磁控溅射，从而使氧化铝沉积在基膜上形成可以增强结合力的氧化铝层；c、蒸镀镀铝层：将双面镀有氧化铝层的膜卷放入蒸镀设备的真空室内，当真空度达到一定数值时，将蒸发舟升温，再将铝丝连续送至蒸发舟上，使铝蒸沉积在镀氧化铝层表面形成镀铝层；完成一面后将膜卷进行复卷后再对另一面进行蒸镀得到增强型双面真空镀铝膜；S3：冷却收卷。2.根据权利要求1所述的增强型双面真空镀铝膜的制备方法，其特征在于，所述表面处理还包括低温等离子体表面改性或者涂布粘合。3.根据权利要求1所述的增强型双面真空镀铝膜的制备方法，其特征在于，所述靶材为32～36个纯度为99.99％的氧化铝陶瓷。4.根据权利要求1所述的增强型双面真空镀铝膜的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的条件为：真空度为4.0<...

【专利技术属性】
技术研发人员：章澄，
申请(专利权)人：南京沪江复合材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：