【技术实现步骤摘要】
本技术属于仪器仪表制造真空镀膜设备，涉及仪器仪表制造真空镀膜设备产品，尤其涉及一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台。
技术介绍
1、真空镀膜设备中，需要在靶台的靶托上放置靶材，靶材会根据生长需求跟随靶托进行旋转运动，在旋转时，现有的老式靶台的公转和自转都是通过真空旋转导入配合真空中的机械齿轮传动实现公转与自转等真空中的转动。
2、齿轮啮合间隙还会让齿轮旋转时不平滑，有时还会出现卡顿的现象，也容易出现噪音。靶的控制精度不高，会影响薄膜工艺控制精度，这是基础问题。在此基础上，由于一般齿轮啮合都有一定的间隙，导致回程差的出现。齿轮往回转时，其位置会因齿轮间隙导致的回程差出现一个一定角度的滞后，导致控制不准。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台。大大增加了静止力矩，使其能快速平滑的运动。
2、为了实现以上目的，本技术采用的技术方案为：一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，包括真空法兰；真空法兰两侧分别为真空腔体外和真空腔体内，真空腔体外设置第一真空旋转导入器，真空腔体内设置靶台的公转盘，所述的第一真空旋转导入器驱动公转盘公转，所述的公转盘上环置有多个靶托，真空腔体外位于第一真空旋转导入器避让位置设置第二真空旋转导入器，所述的第二真空旋转导入器驱动靶托自转；真空腔体内的第一真空旋转导入器上设置减速机，减速机上连接中心杆，所述的中心杆带动公转盘公转。
3、进一步的，第一真
4、进一步的，第二真空旋转导入器上设置传动电机，真空法兰处设置联轴器，第二真空旋转导入器与联轴器相接。
5、再进一步的，第二真空旋转导入器的内伸端设置第三靶材自旋齿轮，公转盘靠近减速机一侧设置第一靶材自旋齿轮，所述的第一靶材自旋齿轮与公转盘同轴布置，第一靶材自旋齿轮与公转盘之间设置多个环置的小齿轮，每个小齿轮与每个靶托同轴布置，第三靶材自旋齿轮与第一靶材自旋齿轮啮合，所述的第三靶材自旋齿轮驱动第一靶材自旋齿轮带动小齿轮转动形成靶托自转。
6、再进一步的，第一靶材自旋齿轮的轴心处设置第一自转轴承基座，第一自转轴承基座内侧设置第二靶材自旋齿轮，所述的第二靶材自旋齿轮与每个小齿轮啮合。
7、再进一步的，每个小齿轮与每个靶托之间设置小齿轮基座，小齿轮基座套在小轴承上。
8、再进一步的，所述的第一自转轴承基座上设置轴承，所述的第一靶材自旋齿轮、第二靶材自旋齿轮套置在所述的轴承上。
9、再进一步的，每个靶托内侧设置第二防污染档板，第二防污染档板内侧设置第一防污染档板。
10、进一步的，位于第一真空旋转导入器、第二真空旋转导入器的侧方设置第三真空旋转导入器，第三真空旋转导入器上设置传动电机，第三真空旋转导入器的内端设置挡板。
11、进一步的，靶台的旁侧设置位置指示部。
12、本技术的技术效果在于：本技术的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台。针对
技术介绍
中的问题，大大增加了静止力矩，使其能快速平滑的运动。
13、进一步的，本技术也是提出了一种新的传动结构有效减小了回程差，一方面减少回程差，一方面提高控制精度。
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1.一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，包括真空法兰(5)；真空法兰(5)两侧分别为真空腔体外和真空腔体内，真空腔体外设置第一真空旋转导入器(1)，真空腔体内设置靶台的公转盘(10)，所述的第一真空旋转导入器(1)驱动公转盘(10)公转，其特征在于：所述的公转盘(10)上环置有多个靶托(7)，真空腔体外位于第一真空旋转导入器(1)避让位置设置第二真空旋转导入器(2)，所述的第二真空旋转导入器(2)驱动靶托(7)自转；真空腔体内的第一真空旋转导入器(1)上设置减速机(6)，减速机(6)上连接中心杆，所述的中心杆带动公转盘(10)公转。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第一真空旋转导入器(1)上设置传动电机，真空法兰(5)处设置联轴器(4)，第一真空旋转导入器(1)与联轴器(4)相接。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第二真空旋转导入器(2)上设置传动电机，真空法兰(5)处设置联轴器(4)，第二真空旋转导入器(2)与联轴器(4)
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第二真空旋转导入器(2)的内伸端设置第三靶材自旋齿轮(14)，公转盘(10)靠近减速机(6)一侧设置第一靶材自旋齿轮(12)，所述的第一靶材自旋齿轮(12)与公转盘(10)同轴布置，第一靶材自旋齿轮(12)与公转盘(10)之间设置多个环置的小齿轮，每个小齿轮与每个靶托(7)同轴布置，第三靶材自旋齿轮(14)与第一靶材自旋齿轮(12)啮合，所述的第三靶材自旋齿轮(14)驱动第一靶材自旋齿轮(12)带动小齿轮转动形成靶托(7)自转。
5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第一靶材自旋齿轮(12)的轴心处设置第一自转轴承基座(17)，第一自转轴承基座(17)内侧设置第二靶材自旋齿轮(13)，所述的第二靶材自旋齿轮(13)与每个小齿轮啮合。
6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：每个小齿轮与每个靶托(7)之间设置小齿轮基座，小齿轮基座套在小轴承(11a)上。
7.根据权利要求5所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：所述的第一自转轴承基座(17)上设置轴承(11)，所述的第一靶材自旋齿轮(12)、第二靶材自旋齿轮(13)套置在所述的轴承(11)上。
8.根据权利要求5所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：每个靶托(7)内侧设置第二防污染档板(16)，第二防污染档板(16)内侧设置第一防污染档板(15)。
9.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：位于第一真空旋转导入器(1)、第二真空旋转导入器(2)的侧方设置第三真空旋转导入器(3)，第三真空旋转导入器(3)上设置传动电机，第三真空旋转导入器(3)的内端设置挡板(8)。
10.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：靶台的旁侧设置位置指示部(9)。
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，包括真空法兰(5)；真空法兰(5)两侧分别为真空腔体外和真空腔体内，真空腔体外设置第一真空旋转导入器(1)，真空腔体内设置靶台的公转盘(10)，所述的第一真空旋转导入器(1)驱动公转盘(10)公转，其特征在于：所述的公转盘(10)上环置有多个靶托(7)，真空腔体外位于第一真空旋转导入器(1)避让位置设置第二真空旋转导入器(2)，所述的第二真空旋转导入器(2)驱动靶托(7)自转；真空腔体内的第一真空旋转导入器(1)上设置减速机(6)，减速机(6)上连接中心杆，所述的中心杆带动公转盘(10)公转。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第一真空旋转导入器(1)上设置传动电机，真空法兰(5)处设置联轴器(4)，第一真空旋转导入器(1)与联轴器(4)相接。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第二真空旋转导入器(2)上设置传动电机，真空法兰(5)处设置联轴器(4)，第二真空旋转导入器(2)与联轴器(4)相接。
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台，其特征在于：第二真空旋转导入器(2)的内伸端设置第三靶材自旋齿轮(14)，公转盘(10)靠近减速机(6)一侧设置第一靶材自旋齿轮(12)，所述的第一靶材自旋齿轮(12)与公转盘(10)同轴布置，第一靶材自旋齿轮(12)与公转盘(10)之间设置多个环置的小齿轮，每个小齿轮与每个靶托(7)同轴布置，第三靶材自旋齿轮(14)与第一靶材自旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：李琳，韦尚潮，廖昭胜，
申请(专利权)人：安徽外延科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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