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本实用新型涉及一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，位于真空内部的靶座，靶座的内侧设置靶材，靶材的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构，真空内部设置有与挡板连接的传动结构；真空外部设置有与驱动结构连接的旋转结构，旋转结构的前端延...
该专利属于安徽外延科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽外延科技有限公司授权不得商用。

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