磁盘及其制造方法技术

本发明专利技术提供磁盘及其制造方法，该磁盘是在基板上至少具有磁性层、保护层和润滑层，其特征在于，所述润滑层是用含有全氟聚醚、分子量分散度在１．３以下的磁盘用润滑剂在保护层上成膜而成。该方法通过使所述的润滑剂在直到在基板上形成碳系保护层的磁盘的保护层上成膜；形成润滑层，得到磁盘。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于形成装在硬盘驱动器等磁盘装置上的磁盘的润滑 层的润滑剂及其制造方法以及。
技术介绍
在硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置中，在停止时，在磁盘面的内周 区域上设置的接触滑动用区域(CSS区域)中接触磁头，在起动时， 使磁头在CSS区域中与盘面接触滑动，同时浮起后，在CSS区域外侧 设置的记录再生用的盘区域面上进行记录再生，可以采用CSS (Contact StartandStop)方式。在结束动作时，使磁头从记录再生 区域到CSS区域避开后，在CSS区域中与盘面接触滑动，同时使其着 地、停止。在CSS方式中，把发生接触滑动的起动动作及结束动作称 为CSS动作。在这样的css方式用磁盘中必须在盘面上设置css区域和记录再 生区域两者。另外，必须在磁盘面上设置具有一定表面粗糙度的凹凸 形状，以使在磁头和磁盘接触时两者不互相吸附。为了通过在css动作时发生的磁头和磁盘的接触滑动来緩和损 伤，例如，根据特开昭62-66417号公报(专利文献l)等可以了解涂 布了具有H0CH2-CF20- (C2F40) 「 ( CF20 ) q-CH20H结构的全氟烷基聚醚 润滑剂的磁记录介质等。另外，同样作为CSS耐久性高的磁记录介质，特开平9-28"42 号公报(专利文献2 )和特开平10-143838号公报(专利文献3 )被人 们所熟悉。进而，作为使用由超临界萃取法精制而成的润滑剂、具有 良好的滑动性及CSS耐久性的磁记录介质，特开2001-164279号公报 (专利文献4 )被人们所熟悉。专利文献l:特开昭62-66417号公报 专利文献2:特开平9-282642号公报 专利文献3:特开平10-143838号公报 专利文献4:特开2001-164279号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题最近正在取代CSS方式引入LUL ( Load Unload :加载卸栽)方 式的磁盘装置。LUL方式是在停止时使磁头退避到位于磁盘外的被称 为坡道的倾斜台，在起动时，在磁盘开始运转后，使磁头从坡道向磁 盘上滑动，之后进行再记录。该一连串的动作被称为LUL动作。LUL 方式与CSS方式相比，由于可以广泛确保》兹盘面上的记录再生用区域， 故对高信息容量化优选。另外，由于不必在磁盘面上设置CSS用的凹 凸形状，可以使磁盘面非常平滑，因此，由于可以使磁头的上浮量进 一步下降，可以适于记录信号的高S/N比化。由于随着LUL方式的导入，使磁头的上浮量进一步下降，即使在 10認以下的极低的上浮量中也可以谋求磁盘稳定动作。然而，若以这 样的极低的上浮量使磁头在磁盘面上浮起飞行，会产生飞毛静磨擦故 障(fly-stiction trouble)和头腐蚀故障频发的问题。所谓飞毛静磨擦故障是在磁头浮起飞行时导致浮起姿势或上浮量 改变的故障，其伴随着不规则的再生输出改变。有时根据场合在浮起 飞行中磁盘和磁头接触发生磁头压扁故障，破坏》兹盘。所谓腐蚀故障是磁头的元件部腐蚀、导致妨害记录再生的故障， 根据场合有时不能记录再生或腐蚀元件膨胀，在浮起飞行中给磁盘表 面造成损伤。另外，最近为了使》兹盘装置的应答速度加快，正在提高磁盘的转 动速度。适合可携带用途的小径2.5英寸型磁盘装置的转数现在是 4200rpm左右，但最近通过以5400rpm以上的高速转动进行应答特性提尚《4若以这样的高速使磁盘转动，随着转动由于离心力使润滑层移动 (迁移)，可以使磁盘面内润滑层膜厚形成不均匀的现象明显化。若在盘外周侧润滑层膜厚肥厚，在LUL动作时，磁头从盘外周侧 进入时，容易发生飞毛静磨擦故障或头压扁的故障，而若在内周侧润 滑层膜厚减少，由于润滑性能下降，容易发生头压扁的故障。现在使用的专利文献1、专利文献2、专利文献3和专利文献4 等记载的润滑技术是主要以改善CSS动作为主要着眼点开发出的技 术，若在LUL方式用磁盘中使用，所述故障发生频率高，很难满足最 早、最近要求磁盘的可靠性。因此成为妨害LUL方式用磁盘的高容量 化、高S/N化及高应答性的主要原因。在这种情况下，本专利技术的目的是提供一种润滑剂，其即使在例如 lOnm以下的极低的浮起量中也可以防止飞毛磨擦故障和腐蚀故障等， 即使在例如以5400rpm以上的高速转动中也能用于形成可以抑制迁移 的、附着性高的润滑层；以及使用该润滑剂形成润滑层的磁盘，特别 是用于形成适合LUL (加载卸载)方式用的润滑层的润滑剂及磁盘。解决课题的方法
本专利技术人为了达到所述目的，在最近的磁盘中对可以显著化的所 述故障进行研究后可以发现以下的机理大概发生的结果。若磁头的上浮量为10nm以下的极低的上浮量，发现磁头在浮起飞 行中介助空气分子，成为在磁盘面上的润滑层上反复作用隔热压缩及 隔热膨胀，润滑层容易反复受到加热冷却。因此发现容易促进构成润 滑层的润滑剂的低分子化。只要润滑剂低分子化，流动性就会提高，与保护层的附着下降。 考察流动性高的润滑剂向与极窄的位置有关的磁头移动堆积，浮起姿 势变得不稳定，发生飞毛静磨擦故障。特另'J是最近导入的装有NPAB ( negative pressure air bearing surface)滑触头，即负压滑触头的》兹头，由于通过在》兹头下面发生的 强负压容易吸引润滑剂，可以认为促进了移动堆积现象。移动的润滑剂有时会生成氟酸等酸，有时使磁头的元件部腐蚀。特别是装有磁抵抗效果型元件的磁头容易腐蚀。本专利技术人发现了 LUL方式促进这些故障的发生。LUL方式的情况 与CSS方式的情况不同，由于磁头没有在磁盘面上接触滑动，判断在 磁头上移动堆积的润滑剂很难一次向磁盘侧转写除去。考察认为，在 现有的CSS方式的情况，由于向磁头移动的润滑剂通过与磁盘的CSS 区域接触滑动，容易进行清洗，这些故障没有明显化。本专利技术人根据这些研究成果，对照所述的目的进行进一步研究， 继续详细进行有关润滑剂的研究的结果，用下述结构达到完成本专利技术。即本专利技术人发现根据以下专利技术可以解决上述课题，完成了本专利技术。本专利技术具有以下结构。(结构1)磁盘用润滑剂的制造方法，该方法是用于形成设在磁 盘表面的润滑层的润滑剂的，其特征在于，将至少含有全氟聚醚的润 滑剂进行脱气处理后进行精制处理。(结构2)磁盘用润滑剂的制造方法，该方法是用于形成设在磁 盘表面的润滑层的润滑剂的，其特征在于，通过将至少含有全氟聚醚 的液态的润滑剂气化、使气化后的全氟聚醚分子在其平均自由行程以 内的距离液化，精制处理所述润滑剂。(结构3)如结构1或结构2所述的磁盘用润滑剂的制造方法， 其特征在于在减压环境中进行所述精制处理。(结构4)如结构1至3中任一个所述的磁盘用润滑剂的制造方 法，其特征在于，所述润滑剂至少含有用化学式表示的化合物。H0-CH2-CH-CH2.OCH4-CFa(-0-C2F4p-(0-CFj^"0-*(5h *-CF2-C -pi-CHf2.oh式中的P、 q为自然数。(结构5)磁盘用润滑剂，该润滑剂是用如结构1至4中任一个 所述的制造方法得到的，其特征在于，重均分子量为4000 ~ 8000，分 子量分散度为1 ~ 1. 3。(结构6)如结构5所述的磁盘用润滑剂，其特征在于，在用核磁共振法测定的所述润滑剂中，作为主要成分含有的全氟聚醚的含有率高于本文档来自技高网...

【技术保护点】
磁盘，该磁盘是在基板上至少具有磁性层、保护层和润滑层，其特征在于，所述润滑层是用含有全氟聚醚、分子量分散度在１．３以下的磁盘用润滑剂在保护层上成膜而成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：下川贡一，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]