一种高抗弯折性的ITO透明导电膜制造技术

本发明专利技术提供一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，包括基材层，所述基材层上表面从内至外依次镀设有上加硬层和导电层，所述基材层下表面从内至外依次镀设有下加硬层和底部绝缘涂层，所述基材层四周还设置有黑色边框区，所述基材层位于黑色边框区内设置有金属加强筋，所述金属加强筋通过金属导丝与基材层上下表面电性连接，所述金属加强筋还与导出静电的静电导丝电性连接，本发明专利技术通过在基材层四周常见的黑色边框区内增设金属加强筋，利用金属加强筋进一步提高该导电膜基材在横向及纵向的抗弯折性能，且内设的金属加强筋具备良好的导电性，能够将基材层表面产生的静电快速导出，保证了显示模组的正常工作。示模组的正常工作。示模组的正常工作。

【技术实现步骤摘要】
一种高抗弯折性的ITO透明导电膜


[0001]本专利技术涉及抗折弯基层膜材
，具体为一种高抗弯折性的ITO透明导电膜。

技术介绍

[0002]现有技术中公开号为“CN111933330A”的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，包括基材层，所述基材层的一面由内向外依次涂布有第一底涂层、真空磁控溅射镀有氧化铟锡层，其中所述第一底涂层为丙烯酸树脂层、聚氨酯树脂层、或者有机硅树脂层，厚度为10～50nm，折射率为1.48～1.59；所述氧化铟锡层镀附于第一底涂层表面，厚度15～50nm，铟锡比90：10
‑
93：7，结晶后电阻25～170欧姆。本案通过在基材层涂布第一底涂层后，再溅射氧化铟锡层，这样能增加整体ITO导电膜的弹性和韧性，使ITO导电膜具有更好的抗弯折性，加工阶段经弯折后，表面也不会龟裂，从而确保ITO的面电阻稳定性，并且该装置在真空环境下进行镀膜制成,从而能够在氧化铟锡层与第一底涂层之间省去涂布加硬层，节约成本。
[0003]但是上述该高抗弯折性ITO透明导电膜在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：上述基材通过在上下表面镀设加硬层，从而起到提高基材抗折弯性能的作用，但是通过增设加硬层的方式具有一定的局限性，其镀设厚度薄所起到的抗折弯效果弱，而若要增设厚度较高的加硬层又将在一定程度上牺牲模组的显色透光效果，且其加硬层的设置功能较为单一。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，包括基材层，所述基材层上表面从内至外依次镀设有上加硬层和导电层，所述基材层下表面从内至外依次镀设有下加硬层和底部绝缘涂层，所述基材层四周还设置有黑色边框区，所述基材层位于黑色边框区内设置有金属加强筋，所述金属加强筋通过金属导丝与基材层上下表面电性连接，所述金属加强筋还与导出静电的静电导丝电性连接。
[0007]优选的，所述上加硬层和下加硬层采用石墨烯镀层或丙烯酸树脂涂层。
[0008]优选的，所述基材层包括但不限于PET层、PMMA层、玻璃层或聚酯塑料层。
[0009]优选的，所述基材层为经物理或化学钢化法制得的硬度达6H的玻璃层。
[0010]优选的，所述金属加强筋为钨钢材质，所述金属加强筋所在的基材层内还布设有金属丝加强网。
[0011]优选的，所述底部绝缘涂层采用SiN镀层或SiO2镀层。
[0012]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0013]本专利技术通过在基材层四周常见的黑色边框区内增设金属加强筋，利用金属加强筋进一步提高该导电膜基材在横向及纵向的抗弯折性能，且内设的金属加强筋具备良好的导
电性，能够将基材层表面产生的静电快速导出，保证了显示模组的正常工作。
附图说明
[0014]图1为本专利技术的整体堆叠结构立体示意图；
[0015]图2为本专利技术的基材层剖视结构示意图。
[0016]图中：1基材层、2上加硬层、3导电层、4下加硬层、5底部绝缘涂层、6黑色边框区、7金属加强筋、8金属导丝、9静电导丝、10金属丝加强网。
具体实施方式
[0017]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0018]请参阅图1
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2，本专利技术提供一种技术方案：
[0019]实施例一：
[0020]一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，包括基材层1，基材层1上表面从内至外依次镀设有上加硬层2和导电层3，基材层1下表面从内至外依次镀设有下加硬层4和底部绝缘涂层5，基材层1四周还设置有黑色边框区6，基材层1位于黑色边框区6内设置有金属加强筋7，金属加强筋7通过金属导丝8与基材层1上下表面电性连接，金属加强筋7还与导出静电的静电导丝9电性连接。
[0021]在该实施例中，基材层1作为各种镀层或涂层的承载机构，通过在基材层1上下设置有加硬层，从而提高该基材层1的抗折弯性能，除此之外，基材层1四周常见的黑色边框区6内还埋设有金属加强筋7，通过金属加强筋7提供的抗折弯性从而提高基材层1整体的抗折弯性能，该金属加强筋7选用硬度较高的钨钢材质，使其具备良好的抗折弯特性，同时钨钢还具有良好的导电性，通过金属加强筋7与金属导丝8电性连接，能够将基材层1表面的静电导出，并通过静电导丝9及时导出显示模组，保证显示模组的正常工作。
[0022]实施例二：
[0023]在该实施例中，上加硬层2和下加硬层4采用石墨烯镀层或丙烯酸树脂涂层，采用镀层或涂层取决于基材层1的材质，若基材层1为玻璃材质，则采用石墨烯镀层较好，而PET层、PMMA层或聚酯塑料层则采用丙烯酸树脂涂层效果更佳。
[0024]实施例三：
[0025]在该实施例中，基材层1为经物理或化学钢化法制得的硬度达6H的玻璃层，通过提高基材层1自身的硬度从而进一步提高该导电膜整体的抗弯折性能，通过镀设加硬层、钢化基材层1以及增设加强筋的方式协同提高该导电膜的抗弯折性能。
[0026]实施例四：
[0027]在该实施例中，金属加强筋7所在的基材层1内还布设有金属丝加强网10，通过金属丝加强网10的设置，能够提高基材层1边框位置的弯折强度，防止该基材层1从边缘位置发生断裂的风险。
[0028]实施例五：
[0029]在该实施例中，底部绝缘涂层5采用SiN镀层或SiO2镀层，通过镀设SiO2镀层，能够使得该基材层1与底部的显示功能层之间进行绝缘隔离，防止其二者之间产生电性影响，且为了提高该基材层1的消影效果，通过镀设SiN镀层能有效对蚀刻的电路进行遮挡消影，从而提高显示效果。
[0030]尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，包括基材层(1)，其特征在于：所述基材层(1)上表面从内至外依次镀设有上加硬层(2)和导电层(3)，所述基材层(1)下表面从内至外依次镀设有下加硬层(4)和底部绝缘涂层(5)，所述基材层(1)四周还设置有黑色边框区(6)，所述基材层(1)位于黑色边框区(6)内设置有金属加强筋(7)，所述金属加强筋(7)通过金属导丝(8)与基材层(1)上下表面电性连接，所述金属加强筋(7)还与导出静电的静电导丝(9)电性连接。2.根据权利要求1所述的一种高抗弯折性的ITO透明导电膜，其特征在于：所述上加硬层(2)和下加硬层(4)采用石墨烯镀层或丙烯酸树脂涂层...

【专利技术属性】
技术研发人员：许红灯，赵琰，张见平，
申请(专利权)人：凯盛信息显示材料黄山有限公司，
类型：发明
国别省市：