本发明专利技术公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括镀膜机构，其固定设置在支架上部；调节辊，其对称设置在镀膜机构下部；清洁块，其与容置槽相配合，且活动设置在容置槽内，并可沿容置槽轴向方向往复运动；侧刮板和正刮板，其活动设置在清洁块上，且分别与容置槽的侧面和底面紧密贴合。本发明专利技术通过镀膜机构阴极发射口对称设置调节辊，通过调节调节辊之间距离来实现对镀膜间隙宽度的调节，同时在调节辊上环形阵列多组凸块，并且凸块之间形成容置槽，超出镀膜间隙的溅射无落入到容置槽内，由于容置槽内设置了能够进行往复运动的清洁块，清洁块在往复运动的过程实现对沉积物的去除，在镀膜过程中就能实现清洁。在镀膜过程中就能实现清洁。在镀膜过程中就能实现清洁。
【技术实现步骤摘要】
可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置
[0001]本专利技术涉及玻璃镀膜设备
，具体为一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置。
技术介绍
[0002]磁控溅射镀膜是指在真空条件下，将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。近年来，建筑对节能、风格等方面越来越多样化，镀膜玻璃在建筑领域中的使用越来越普遍。目前，磁控溅射成膜已经成为一种新型的物理气相成膜方式，磁控溅射镀膜机在玻璃镀膜的生产中应用也越来越广泛。但是，在实际生产过程中，由于溅射通道间隙无法进行调节，仅仅只能生产单一透光率的玻璃。
[0003]中国专利公开号：CN104944793B，公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，通过在溅射通道下方设置能够进行距离调节的挡板，来调整溅射靶材下部的溅射缝隙宽度，使得单一生产线能满足多种规格镀膜玻璃生产，提高了效率。
[0004]但是，上述装置在实际使用过程中存在较为明显的缺陷：设备在进行玻璃镀膜的过程中，溅射物容易堆积在两侧的挡板上，将溅射通道堵塞，导致部分阴极辉光被挡不能溅射于产品之上，造成无法达到设定厚度的沉积层；同时使得镀膜厚度无法实现精确控制；传统做法是对设备通入大气，将设备拆开，把挡板取出进行清理，整个清理过程需要1～3天，镀膜机属于贵重高投入设备，停机清理所导致的时间成本较高，因此，必须尽可能减少回气次数，缩短清理时间。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0007]一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括
[0008]镀膜机构，其固定设置在支架上部；
[0009]调节辊，其对称设置在镀膜机构下部，所述调节辊同轴设置在第一转轴上，所述第一转轴两端可转动连接滑套，所述滑套滑动套接在与支架固定连接的水平导轨上，所述第一转轴贯穿至滑套外部的一端上设置有用于驱动第一转轴转动的第一电机，所述调节辊外壁环形阵列有多组凸块，且相邻凸块之间形成容置槽；
[0010]清洁块，其与容置槽相配合，且活动设置在容置槽内，并可沿容置槽轴向方向往复运动，所述清洁块与第一丝杠传动连接，所述第一丝杠两端分别连接设置在滑套上的支板，所述第一丝杠延伸至支板外部的一端上传动连接第二电机；
[0011]侧刮板和正刮板，其活动设置在清洁块上，且分别与容置槽的侧面和底面紧密贴合，所述侧刮板和正刮板连接清洁块内部的连杆，所述连杆上套接有弹簧，所述连杆另一端
设置有导向轮，所述导向轮与贯穿清洁块的清洁导轨相抵接，所述清洁导轨两端分别连接支板；
[0012]第二丝杆，其两端分别与设置在滑套上的固定块传动连接，所述第二丝杆一端传动连接第三电机，所述第三电机通过电机座固定连接水平导轨；
[0013]清洁辊，其与第二主轴同轴设置，且与凸块外壁贴合，所述第二主轴两端可转动连接滑套，所述第二主轴上设置有第一驱动轮，所述第一转轴上设置有用于驱动第一驱动轮转动的第三驱动轮；以及
[0014]驱动辊，其水平阵列在支架下部，用于传送需要进行镀膜的玻璃。
[0015]优选的，所述侧刮板和正刮板至少设置有两组，平行且间隔设置。
[0016]优选的，所述清洁辊上环形阵列有多组与凸块外壁接触的刮板。
[0017]优选的，所述第一驱动轮和第三驱动轮之间设置有分别与其啮合的第二驱动轮，所述第三驱动轮通过第二驱动轮驱动第一驱动轮转动。
[0018]优选的，所述清洁导轨上设置有多组与导向轮接触的凸起结构。
[0019]优选的，所述调节辊下部对应设置有集尘装置。
[0020]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0021]本专利技术通过镀膜机构阴极发射口对称设置调节辊，通过调节调节辊之间距离来实现对镀膜间隙宽度的调节，同时在调节辊上环形阵列多组凸块，并且凸块之间形成容置槽，超出镀膜间隙的溅射无落入到容置槽内，由于容置槽内设置了能够进行往复运动的清洁块，清洁块在往复运动的过程实现对沉积物的去除，同时，通过设置清洁辊，通过清洁辊的不断转动，实现对凸块外壁的清洁，有效避免了沉积物的累积对溅射间隙和镀膜层的影响，同时在镀膜过程中就能实现清洁，无需停机，降低了对生产效率的影响。
附图说明
[0022]图1为本专利技术的结构示意图；
[0023]图2为本专利技术的调节辊结构示意图；
[0024]图3为本专利技术的调节辊俯视图；
[0025]图4为图3中B区结构放大示意图；
[0026]图5为本专利技术的清洁块内部结构示意图；
[0027]图6为图5中A区结构放大示意图；
[0028]图7为本专利技术的清洁辊结构示意图。
[0029]图中：1镀膜机构、2支架、3调节辊、4第一转轴、5水平导轨、6滑套、7第一电机、8凸块、9容置槽、10清洁块、101侧刮板、102正刮板、103连杆、104弹簧、105导向轮、11第一丝杠、12支板、13第二电机、14清洁导轨、15第二丝杆、16固定块、17第三电机、18清洁辊、181刮板、19第二主轴、20第一驱动轮、21第二驱动轮、22第三驱动轮、23驱动辊。
具体实施方式
[0030]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他
实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0031]请参阅图1
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7，本专利技术提供一种技术方案：
[0032]一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括
[0033]镀膜机构1，其固定设置在支架2上部，镀膜机构1的阴极发射口朝向下部，溅射物从阴极发射口喷射到下方不断传送的玻璃上，实现对下部的玻璃进行镀膜作业；
[0034]调节辊3，其对称设置在镀膜机构1下部，在本实施例的技术方案中，调节辊3共设置有两组，且关于阴极发射口对称设置，调节辊3之间的间隙构成溅射通道，因此可以通过调节调节辊3之间的距离实现对溅射通的宽度的调节，以便实现生产不同类型的产品，提高整个装置的适应性；调节辊3同轴设置在第一转轴4上，通过第一转轴4的转动联动调节辊3转动，第一转轴4两端可转动连接滑套6，滑套6滑动套接在与支架2固定连接的水平导轨5上，通过驱动两侧滑套6的同步靠近或远离，来实现对调节辊3之间距离的调节；第一转轴4贯穿至滑套6外部的一端上设置有用于驱动第一转轴4转动的第一电机7，调节辊3外壁环形阵列有多组凸块8，且相邻凸块8之间形成容置槽9；凸块8之间的距离即构成溅射通道的宽度，从阴极发射口喷出的并超出镀膜通道宽度的溅射物，会溅落沉积在容置槽9内，容置槽9能够有效实现对溅射物的收集，在本实施例的技术方案中，第一电机7为步进电机，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：包括镀膜机构(1)，其固定设置在支架(2)上部；调节辊(3)，其对称设置在镀膜机构(1)下部，所述调节辊(3)同轴设置在第一转轴(4)上，所述第一转轴(4)两端可转动连接滑套(6)，所述滑套(6)滑动套接在与支架(2)固定连接的水平导轨(5)上，所述第一转轴(4)贯穿至滑套(6)外部的一端上设置有用于驱动第一转轴(4)转动的第一电机(7)，所述调节辊(3)外壁环形阵列有多组凸块(8)，且相邻凸块(8)之间形成容置槽(9)；清洁块(10)，其与容置槽(9)相配合，且活动设置在容置槽(9)内，并可沿容置槽(9)轴向方向往复运动，所述清洁块(10)与第一丝杠(11)传动连接，所述第一丝杠(11)两端分别连接设置在滑套(6)上的支板(12)，所述第一丝杠(11)延伸至支板(12)外部的一端上传动连接第二电机(13)；侧刮板(101)和正刮板(102)，其活动设置在清洁块(10)上，且分别与容置槽(9)的侧面和底面紧密贴合，所述侧刮板(101)和正刮板(102)连接清洁块(10)内部的连杆(103)，所述连杆(103)上套接有弹簧(104)，所述连杆(103)另一端设置有导向轮(105)，所述导向轮(105)与贯穿清洁块(10)的清洁导轨(14)相抵接，所述清洁导轨(14)两端分别连接支板(12)；第二丝杆(15)，其两端分别与设置在滑套(6)上的固定块(16)传...
【专利技术属性】
技术研发人员：倪值森，陈诚，赵琰，张见平，吴俊保，
申请(专利权)人：凯盛信息显示材料黄山有限公司，
类型：发明
国别省市：
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