光学膜制造技术

本发明专利技术涉及一种光学膜，其玻璃化转变温度为165℃以上，350mm的光透射率为10％以下，面内相位差为30mm以下，并且厚度相位差为100nm以下。以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜


[0001]本专利技术涉及柔性显示装置的材料等中使用的光学膜、以及具备该光学膜的柔性显示装置。

技术介绍

[0002]光学膜被用于液晶、有机EL等显示装置、触控传感器、扬声器、半导体等各种用途。例如，作为触控传感器基板材料，已知有具有低相位差等的环状烯烃系膜(例如专利文献1)、具有尺寸稳定性等的芳香族聚酰亚胺系膜、脂肪族聚酰亚胺系膜等(例如专利文献2及3)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2004
‑
156048号公报
[0006]专利文献2：日本特开2005
‑
336243号公报
[0007]专利文献3：WO2019/156717号

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]但是，像专利文献1那样的环状烯烃系膜、像专利文献3那样的脂肪族聚酰亚胺系膜对耐热性和紫外线阻断性的兼顾不够充分，像专利文献2那样的芳香族聚酰亚胺系膜存在有相位差高的问题。如此所述，根据本专利技术人本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学膜，其玻璃化转变温度为165℃以上，350nm的光透射率为10％以下，面内相位差为30nm以下，并且厚度相位差为100nm以下。2.根据权利要求1所述的光学膜，其玻璃化转变温度大于180℃。3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其500nm的光透射率为90％以上。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其拉伸强度大于86MPa。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其膜厚为10μm～100μm。6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学膜，其溶剂含量相对于光学膜的质量为3.0质量％以下。7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学膜，其包含具有式(1)所示的结构单元的聚酰亚胺系树脂，式(1)中，X表示2价的有机基团，Y表示4价的有机基团，＊表示键合端。8.根据权利要求7所述的光学膜，其中，式(1)所示的结构单元包含2价的脂肪族基团作为X。9.根据权利要求7或8所述的光学膜，其中，式(1)所示的结构单元包含式(2)所示的结构作为Y，式(2)中，R2～R7彼此独立地表示氢原子、碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基或碳数6～12的芳基，R2～R7中含有的氢原子彼此独立地任选由卤素原子取代，V表示单键、
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【专利技术属性】
技术研发人员：樱井孝至，克里斯第安，
申请(专利权)人：齐默尔根公司，
类型：发明
国别省市：