光学各向异性层制造技术

本发明专利技术提供一种光学各向异性层，其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域，并且在层内不易产生剥离。本发明专利技术的光学各向异性层为使用液晶化合物而形成的光学各向异性层，光学各向异性层包含流平剂，并且在一边从光学各向异性层的一个表面朝向另一个表面照射离子束一边利用飞行时间型二次离子质谱法分析光学各向异性层的深度方向的成分而获得的源自流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布中，满足规定的要件。满足规定的要件。满足规定的要件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学各向异性层


[0001]本专利技术涉及一种光学各向异性层。

技术介绍

[0002]具有折射率各向异性的相位差层(光学各向异性层)适用于显示装置的防反射膜及液晶显示装置的光学补偿膜等各种用途。
[0003]作为使用液晶化合物而形成的光学各向异性层，如专利文献1所述，公开有由多个层构成的层叠型光学各向异性层。
[0004]以往技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2018
‑
036657号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]以往，在制造如专利文献1所述的层叠型光学各向异性层时，通过对每一层进行涂布而形成层叠的光学各向异性层。因此，通过变更形成各层的条件，能够改变光学各向异性层中的厚度方向上的液晶化合物的取向状态。
[0009]另外，用于形成光学各向异性层的组合物包含流平剂的情况较多。
[0010]另一方面，本专利技术人等发现了如下：在通过涂布多次组合物而形成的以往的光学各向异性层中，在光学各向异性层内容易产生剥离，需要进行改良。例如，发现了如下：若对固定于基板上的以往的光学各向异性层实施交叉切割试验，则在光学各向异性层内容易产生剥离。
[0011]鉴于上述情况，本专利技术的课题在于提供一种光学各向异性层，其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域，并且在层内不易产生剥离。
[0012]用于解决技术课题的手段
[0013]本专利技术人等对现有技术的问题点进行深入研究的结果，发现通过以下结构能够解决上述课题。
[0014](1)一种光学各向异性层，其使用液晶化合物而形成，其中，
[0015]光学各向异性层包含流平剂，
[0016]一边从光学各向异性层的一个表面朝向另一个表面照射离子束，一边利用飞行时间型二次离子质谱法分析光学各向异性层的深度方向的成分而获得源自流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布，在光学各向异性层的一个表面上的源自流平剂的二次离子强度及光学各向异性层的另一个表面上的源自流平剂的二次离子强度中，将源自流平剂的二次离子强度大的设为第1强度且将成为第1强度的1/1000的二次离子强度设为第2强度，并且在将在分布中表示第2强度的最靠一个表面侧的深度位置设为第1位置且将在分布中表示第2强度的最靠另一个表面侧的深度位置设为第2位置时，在第1位置与第2位置之间的区
域中的任一深度处均未观测到第1强度的1/500以上的源自流平剂的二次离子强度，
[0017]光学各向异性层满足以下的要件1～3中的任一个。
[0018]要件1：光学各向异性层为将胆甾醇型液晶相固定而成的光学各向异性层，并且沿厚度方向具有胆甾醇型液晶相的螺旋节距不同的多个区域。
[0019]要件2：光学各向异性层为将液晶化合物的取向状态固定而成的光学各向异性层，并且沿厚度方向具有液晶化合物的取向方向相对于光学各向异性层表面的倾斜角度不同的多个区域。
[0020]要件3：光学各向异性层沿厚度方向具有将液晶化合物取向的取向状态固定而成的区域和将液晶化合物显示各向同性相的状态固定而成的区域。
[0021](2)根据(1)所述的光学各向异性层，其满足要件1。
[0022](3)根据(2)所述的光学各向异性层，其中，光学各向异性层具有胆甾醇型液晶相的螺旋节距不同的2个区域。
[0023](4)根据(1)所述的光学各向异性层，其满足要件2。
[0024](5)根据(4)所述的光学各向异性层，其中，光学各向异性层具有将平行取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域和将垂直取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域。
[0025](6)根据(1)所述的光学各向异性层，其满足要件3。
[0026](7)根据(6)所述的光学各向异性层，其中，光学各向异性层具有将平行取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域和将液晶化合物显示各向同性相的状态固定而成的区域。
[0027]专利技术效果
[0028]根据本专利技术，能够提供一种光学各向异性层，其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域，并且在层内不易产生剥离。
附图说明
[0029]图1是用于说明利用飞行时间型二次离子质谱法(TOF
‑
SIMS)分析光学各向异性层的深度方向的成分而检测到的源自流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布的概略图。
[0030]图2是表示图1的光学各向异性层的一例的概略图。
[0031]图3是表示满足要件1的光学各向异性层的一实施方式的剖视图。
[0032]图4是用于说明满足要件1的光学各向异性层的制造方法的工序3A的一例的组合物层的剖视图。
[0033]图5是用于说明满足要件1的光学各向异性层的制造方法的工序4A的一例的组合物层的剖视图。
[0034]图6是标绘了关于手性试剂A的螺旋扭转力(HTP：Helical Twisting Pow er)(μm
‑1)与光照射量(mJ/cm2)的关系的图表的示意图。
[0035]图7是表示满足要件2的光学各向异性层的一实施方式的剖视图。
[0036]图8是用于说明满足要件2的光学各向异性层的制造方法的工序3B的一例的组合物层的剖视图。
[0037]图9是用于说明满足要件2的光学各向异性层的制造方法的工序4B的一例的组合
物层的剖视图。
[0038]图10是表示满足要件3的光学各向异性层的一实施方式的剖视图。
[0039]图11是用于说明满足要件3的光学各向异性层的制造方法的工序3C的一例的组合物层的剖视图。
[0040]图12是用于说明满足要件3的光学各向异性层的制造方法的工序4C的一例的组合物层的剖视图。
[0041]图13是表示本专利技术的层叠体的一实施方式的剖视图。
[0042]图14是表示本专利技术的带偏振器的光学各向异性层的一实施方式的剖视图。
具体实施方式
[0043]以下，对本专利技术进行详细说明。另外，在本说明书中，用“～”表示的数值范围表示将“～”前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。首先，对本说明书中所使用的术语进行说明。
[0044]除非另有特别说明，则慢轴为在550nm下的定义。
[0045]在本专利技术中，Re(λ)及Rth(λ)分别表示波长λ下的面内的延迟及厚度方向上的延迟。除非另有特别记载，则波长λ设为550nm。
[0046]在本专利技术中，Re(λ)及Rth(λ)为利用AxoScan(Axometrics公司制)在波长λ下进行测量而获得的值。通过在AxoScan中输入平均折射率((nx+ny+nz)/3)和膜厚(d(μm))来计算
[0047]慢轴方向(
°
)
[0048]Re(λ)＝R0(λ)
[0049]Rth(λ)＝((nx+ny)/2
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学各向异性层，其使用液晶化合物而形成，其中，所述光学各向异性层包含流平剂，一边从所述光学各向异性层的一个表面朝向另一个表面照射离子束，一边利用飞行时间型二次离子质谱法分析所述光学各向异性层的深度方向的成分而获得源自所述流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布，在所述光学各向异性层的所述一个表面上的源自所述流平剂的二次离子强度及所述光学各向异性层的所述另一个表面上的源自所述流平剂的二次离子强度中，将源自所述流平剂的二次离子强度大的设为第1强度且将成为所述第1强度的1/1000的二次离子强度设为第2强度，并且在将在所述分布中表示所述第2强度的最靠所述一个表面侧的深度位置设为第1位置且将在所述分布中表示所述第2强度的最靠所述另一个表面侧的深度位置设为第2位置时，在所述第1位置与所述第2位置之间的区域中的任一深度处均未观测到所述第1强度的1/500以上的源自所述流平剂的二次离子强度，所述光学各向异性层满足以下的要件1～3中的任一个，要件1：所述光学各向异性层为将胆甾醇型液晶相固定而成的光学各向异性层，并且沿厚度方向具有所述胆甾醇型液晶相的螺旋节距不同...

【专利技术属性】
技术研发人员：福岛悠太，吉田慎平，高桥勇太，小玉启祐，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：