密封补偿机构及主驱动密封装置制造方法及图纸

技术编号:37471157 阅读:14 留言:0更新日期:2023-05-06 09:51
本发明专利技术公开了一种密封补偿机构及主驱动密封装置,包括:状态监测结构,用于在密封件与配合件之间的密封状态异常时生成密封补偿指令;密封补偿结构,可移动地设置在所述配合件上;驱动结构,用于根据所述密封补偿指令驱动所述密封补偿结构移动至所述密封件与所述配合件之间。本发明专利技术通过驱动结构根据密封补偿指令驱动密封补偿结构移动至密封件与密封滑道之间进行密封补偿,从而能在密封件与配合件之间密封状态异常时通过自动密封补偿将密封状态调节为较佳的状态。本发明专利技术通过在密封跑道上安装密封补偿机构,利用密封补偿机构在密封跑道与密封件之间密封状态异常时进行密封补偿,从而满足密封跑道与密封件之间的密封需求,保证主驱动装置的安全运行。证主驱动装置的安全运行。证主驱动装置的安全运行。

【技术实现步骤摘要】
密封补偿机构及主驱动密封装置


[0001]本专利技术涉及掘进设备
,特别地,有关于一种密封补偿机构及主驱动密封装置。

技术介绍

[0002]掘进设备在地下工程建设中发挥着重要作用,其中密封结构作为掘进设备的免疫系统,在阻挡外部介质方面具有重要作用,是保障设备安全运行的关键因素。
[0003]而在掘进设备的掘进过程中,由于密封件与跑道发生长期的摩擦磨损,特别是当有外界杂质突破迷宫腔进入密封件的前端时,这种磨损现象会急剧增加,一旦密封件或密封跑道磨损严重,导致密封件失去密封作用,严重时甚至危及整个主驱动系统的安全。目前通常采取更换密封或对密封跑道进行焊接来解决密封件的磨损问题,还有通过调节密封跑道,错开密封件与密封跑道的对磨位置来代替跑道的更换,但未考虑密封件磨损后的高度变化,单纯更换密封跑道已不能满足实际的密封需求,且每次调整对象为整个密封跑道,由于密封件的前端空间有限,密封跑道的整体移动距离有限,导致密封跑道已经发生磨损的位置对调整之后的位置产生干扰,可能进一步加剧密封件的磨损,另外,整体移动密封跑道不能根据每道密封件的磨损状态自动调整,无法做到精准调整。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种密封补偿机构及主驱动密封装置,以解决目前密封件或密封跑道磨损严重而导致密封件失去密封作用,通过更换密封跑道无法满足实际的密封需求的技术问题。
[0005]本专利技术的上述目的可采用下列技术方案来实现:
[0006]本专利技术提供一种密封补偿机构,包括:状态监测结构,用于在密封件与配合件之间的密封状态异常时生成密封补偿指令;密封补偿结构,可移动地设置在所述配合件上;驱动结构,用于根据所述密封补偿指令驱动所述密封补偿结构移动至所述密封件与所述配合件之间。
[0007]本专利技术的实施方式中,所述密封补偿结构沿所述配合件的轴向可移动地设置在所述配合件上,且所述密封补偿结构在所述配合件的轴向上位于所述密封件与所述驱动结构之间。
[0008]本专利技术的实施方式中,所述状态监测结构包括距离监测模块,所述距离监测模块在所述配合件的轴向上与所述密封件间隔设置,所述距离监测模块用于监测所述距离监测模块与所述密封件之间的距离。
[0009]本专利技术的实施方式中,所述状态监测结构还包括控制模块,所述控制模块分别与所述驱动结构和所述距离监测模块与信号连接,所述控制模块用于在所述距离监测模块与所述密封件之间的距离低于设定距离,且两者之间的距离差值低于安全值时生成所述密封补偿指令。
[0010]本专利技术的实施方式中,所述距离监测模块通过信号线与所述控制模块信号连接,所述配合件上设有用于穿设所述信号线的穿线孔。
[0011]本专利技术的实施方式中,所述距离监测模块通过固定结构安装在所述配合件上,所述密封补偿结构在所述配合件的径向上位于所述固定结构与所述配合件之间。
[0012]本专利技术的实施方式中,所述密封补偿结构靠近所述密封件的一端设有导向斜面,所述导向斜面由其远离所述密封件的一端向其靠近所述密封件的一端朝所述配合件的一侧倾斜延伸设置。
[0013]本专利技术的实施方式中,所述导向斜面的数量为多个,所述密封补偿结构靠近所述密封件的一端设有多个密封补偿台阶面,多个所述密封补偿台阶面沿所述密封补偿结构的移动方向延伸设置并呈阶梯状排布,多个所述导向斜面分别与多个所述密封补偿台阶面的靠近所述密封件的一端相连接。
[0014]本专利技术的实施方式中,所述密封补偿结构包括滑动密封环,所述滑动密封环沿所述配合件的轴向与所述配合件滑动配合,并能在所述驱动结构的驱动下滑动至所述密封件与所述配合件之间。
[0015]本专利技术的实施方式中,所述密封补偿结构还包括滑动限位件,所述滑动限位件与所述滑动密封环相连接,所述配合件上开设有限位滑槽,所述滑动限位件能在所述限位滑槽内沿所述配合件的轴向滑动。
[0016]本专利技术的实施方式中,所述限位滑槽内设有弹性限位件,所述滑动限位件被限位于所述驱动结构与弹性限位件之间;和/或所述限位滑槽的槽底设有第一限位斜面,所述第一限位斜面自其远离所述密封件的一端向其靠近所述密封件的一端朝其靠近所述滑动限位件的一侧倾斜延伸设置,所述滑动限位件设有第二限位斜面,所述第二限位斜面能与所述第一限位斜面相贴抵。
[0017]本专利技术的实施方式中,所述驱动结构包括驱动气囊,所述驱动气囊能在充压膨胀的作用下推动所述密封补偿结构朝所述密封件滑动。
[0018]本专利技术的实施方式中,所述配合件上开设有穿管孔,所述驱动结构还包括通气管,所述通气管穿设于所述穿管孔中并与所述驱动气囊相连通。
[0019]本专利技术的实施方式中,所述密封件为唇形密封件,所述密封件具有与其安装唇部相背设置的密封背面,所述密封补偿结构能在所述驱动结构的驱动下滑动至所述密封背面与所述配合件之间。
[0020]本专利技术还提供一种主驱动密封装置,包括上述密封补偿机构,所述密封补偿机构安装在所述主驱动密封装置的密封跑道上。
[0021]本专利技术的特点及优点是:
[0022]本专利技术的密封补偿机构,通过在配合件上设置能沿配合件的轴向移动的密封补偿结构,并通过状态监测结构根据密封件与配合件之间的密封状态生成密封补偿指令,使得驱动结构能根据密封补偿指令驱动密封补偿结构移动至密封件与密封滑道之间进行密封补偿,从而能在密封件与配合件之间密封状态异常时通过自动密封补偿将密封状态调节为较佳的状态。
[0023]本专利技术的主驱动密封装置,通过密封跑道上安装密封补偿机构,利用密封补偿机构在密封跑道与密封件之间密封状态异常时进行密封补偿,从而满足密封跑道与密封件之
间的密封需求,保证主驱动装置的安全运行。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本专利技术一实施例中密封补偿机构的结构示意图。
[0026]图2为本专利技术一实施例中距离监测模块的安装示意图。
[0027]图3为本专利技术一实施例中密封件在不同密封状态下的结构示意图。
[0028]图4为本专利技术一实施例中密封件在密封补偿前后的结构示意图。
[0029]图5为本专利技术中控制模块的控制流程图。
[0030]图6为本专利技术另一实施例中密封补偿机构的结构示意图。
[0031]图7为本专利技术另一实施例中距离监测模块的安装示意图。
[0032]图8为本专利技术一实施例中主驱动密封结构的结构示意图。
[0033]图9为本专利技术另一实施例中主驱动密封结构的结构示意图。
[0034]图中:
[0035]100、密封补偿机构;100

、密封补偿机构;1、状态监测结构;101、距离监测模块;102、固定结构;103、固定跑道环;104、固定本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封补偿机构,其特征在于,包括:状态监测结构(1),用于在密封件(5)与配合件(4)之间的密封状态异常时生成密封补偿指令;密封补偿结构(2),可移动地设置在所述配合件(4)上;驱动结构(3),用于根据所述密封补偿指令驱动所述密封补偿结构(2)移动至所述密封件(5)与所述配合件(4)之间。2.根据权利要求1所述的密封补偿机构,其特征在于,所述密封补偿结构(2)沿所述配合件(4)的轴向(z)可移动地设置在所述配合件(4)上,且所述密封补偿结构(2)在所述配合件(4)的轴向(z)上位于所述密封件(5)与所述驱动结构(3)之间。3.根据权利要求2所述的密封补偿机构,其特征在于,所述状态监测结构(1)包括距离监测模块(101),所述距离监测模块(101)在所述配合件(4)的轴向(z)上与所述密封件(5)间隔设置,所述距离监测模块(101)用于监测所述距离监测模块(101)与所述密封件(5)之间的距离。4.根据权利要求3所述的密封补偿机构,其特征在于,所述状态监测结构(1)还包括控制模块,所述控制模块分别与所述驱动结构(3)和所述距离监测模块(101)与信号连接,所述控制模块用于在所述距离监测模块(101)与所述密封件(5)之间的距离低于设定距离,且两者之间的距离差值低于安全值时生成所述密封补偿指令。5.根据权利要求4所述的密封补偿机构,其特征在于,所述距离监测模块(101)通过信号线(106)与所述控制模块信号连接,所述配合件(4)上设有用于穿设所述信号线(106)的穿线孔(402)。6.根据权利要求3所述的密封补偿机构,其特征在于,所述距离监测模块(101)通过固定结构(102)安装在所述配合件(4)上,所述密封补偿结构(2)在所述配合件(4)的径向(x)上位于所述固定结构(102)与所述配合件(4)之间。7.根据权利要求1所述的密封补偿机构,其特征在于,所述密封补偿结构(2)靠近所述密封件(5)的一端设有至少一导向斜面(203),所述导向斜面(203)由其远离所述密封件(5)的一端向其靠近所述密封件(5)的一端朝所述配合件(4)的一侧倾斜延伸设置。8.根据权利要求7所述的密封补偿机构,其特征在于,所述密封补偿结构(2)靠近所述密封件(5)的一端设有多个密封补偿台阶面(207),多个所述密封补偿台阶面(207)沿所述密封补偿结构(2)的移动方向延伸设置并呈阶梯状排布,所述导向斜面(203)的数量为多个,多个所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:余桧鑫王文坤焦湘和程永龙孙志洪赵梦媛张新异李佳衡王明波赵明恩彭占杰
申请(专利权)人:中铁工程装备集团有限公司
类型:发明
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