一种循环式真空CPU散热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种循环式真空ＣＰＵ散热装置，包括真空腔（１）和真空管（２），真空腔（１）内设有汽相液（３），真空管（２）两侧各设有一与之相连通的真空腔（１）；真空腔（１）内还设有活性炭（５）或活性炭纤维布，在真空管（２）间设有散热铝箔（４）；ＣＰＵ（６）设于真空腔（１）的一侧。本实用新型专利技术具有结构简单、散热效率高，工作稳定等特点。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种电脑中央处理器的散热装置，具体为一种循环式真空CPU散热装置。二
技术介绍
CPU是计算机的核心单元，如果其散热不好将会被烧毁。为提高其工作效率需保证其工作温度。现有的做法一般是加装一个散热风扇，但散热效果差； 也有水冷型，但水冷散热慢并且容易出'现漏水现象。三、
技术实现思路
本技术针对以上不足之处，提供一种结构简单、散热效率高，工作稳.定的循环式真空CPU散热装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是 一种循环式真空CPU 散热装置，包括真空腔和真空管，真空腔内设有汽相液，真空管两侧各设有一 与之相连通的真空腔；真空腔内还设有活性炭或活性炭纤维布，在真空管间设 有散热铝箔；CPU设于真空腔的一侧。 .上述的循环式真空CPU散热装置，散热铝箔上设有散热窗口。上述的循环式真空CPU散热装置，.汽相液液面位置高于最底端真空管。上述的循环式真空CPU散热装置，真空管为扁平状。本技术可有如下工作过程CPU的热量传递给真空腔，真空腔内活性 炭吸附的汽相液受热挥发，经过真空管进入对侧的真空腔内，然后由活性炭进' 行吸附，达到饱和后流到腔体的底部；在汽相液挥发经真空管时，真空管上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种循环式真空ＣＰＵ散热装置，包括真空腔（１）和真空管（２），真空腔（１）内设有汽相液（３），其特征在于：真空管（２）两侧各设有一与之相连通的真空腔（１）；真空腔（１）内还设有活性炭（５）／或活性炭纤维布，在真空管（２）间设有散热铝箔（４）；ＣＰＵ（６）设于真空腔（１）的一侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宋洪星，宋洪刚，
申请(专利权)人：宋洪星，
类型：实用新型
国别省市：37[中国|山东]