位置伺服控制系统的校正方法、存储介质及电子设备技术方案

本发明专利技术公开了一种位置伺服控制系统的校正方法、存储介质及电子设备，具体包括：确定位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益并据此画出第一伯德图；判断第一伯德图的幅值裕量和相位裕量是否满足设定要求，若第一伯德图的幅值裕量满足设定幅值裕量要求且第一伯德图的相位裕量满足设定相位裕量要求则完成校正，否则进行下一步；根据设定幅值裕量要求和设定相位裕量要求画出预期得到的第二伯德图；确定校正函数，根据第一伯德图和第二伯德图确定校正函数的参数；完成校正。本发明专利技术实施例提供的方案中，基于几何图形处理，分析第一伯德图和第二伯德图的差异确定校正方案，减少了数据处理量，并且在没有计算机的情况下也能完成校正。校正。校正。

【技术实现步骤摘要】
位置伺服控制系统的校正方法、存储介质及电子设备


[0001]本专利技术涉及伺服控制
，特别涉及一种位置伺服控制系统的校正方法、存储介质及电子设备。

技术介绍

[0002]位置伺服控制系统在实际使用时，轧制力波动很大，以轧制力引起的轧机弹跳及各种复杂工况对出口轧件直径的影响都很大。对这种系统单纯调整开环放大系数无法满足系统的全部性能，这就需要对系统进行调节校正。
[0003]传统的传递函数校正方法一是根据控制理论基础进行计算，该方法计算量大，数据处理繁琐；另一种常用的方法是利用计算机Matlab软件的Simulink工具绘制伯德图，但没有计算机的情况下就无法实现校正。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题，本专利技术提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种位置伺服控制系统的校正方法、存储介质及电子设备，技术方案如下所述：
[0005]一种位置伺服控制系统的校正方法，包括：
[0006]S1：确定所述位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益；
[0007]S2：根据所述位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益画出对应的伯德图作为第一伯德图，确定所述第一伯德图的幅值裕量和相位裕量；
[0008]S3：判断所述第一伯德图的幅值裕量和相位裕量是否满足设定幅值裕量要求和设定相位裕量要求，若所述第一伯德图的幅值裕量满足设定幅值裕量要求且所述第一伯德图的相位裕量满足设定相位裕量要求则转到S6，否则转到S4；
[0009]S4：根据所述设定幅值裕量要求和设定相位裕量要求画出预期得到的校正后伯德图作为第二伯德图；
[0010]S5：确定校正函数，根据所述第一伯德图和所述第二伯德图确定所述校正函数的参数；
[0011]S6：完成校正。
[0012]上述的方法，可选的，所述步骤S5中，在确定校正函数，根据所述第一伯德图和所述第二伯德图确定所述校正函数的参数后，还包括确定与所述校正函数对应的校正装置实现形式和校正装置参数。
[0013]上述的方法，可选的，所述步骤S3中若判断得到所述第一伯德图的相位裕量满足设定相位裕量要求，所述第一伯德图的幅值裕量低于设定幅值裕量要求，则步骤S5确定的校正函数为滞后校正的传递函数。
[0014]上述的方法，可选的，所述步骤S3中若判断得到所述第一伯德图的幅值裕量满足设定幅值裕量要求，所述第一伯德图的相位裕量低于设定相位裕量要求，则步骤S5确定的校正函数为超前校正的传递函数。
[0015]上述的方法，可选的，所述步骤S1中确定的所述位置伺服控制系统的开环传递函数为进行简化后的开环传递函数。
[0016]上述的方法，可选的，所述步骤S1中根据所述位置伺服控制系统的稳态误差要求确定所述开环增益。
[0017]上述的方法，可选的，所述设定幅值裕要求为不小于6dB，所述设定相位裕量要求为不小于30
°
。
[0018]上述的方法，可选的，所述步骤S5：确定校正函数，根据所述第一伯德图和所述第二伯德图确定所述校正函数的参数，包括：
[0019]S51：确定滞后校正的传递函数作为所述校正函数，其中β为滞后比系数，ω2为滞后校正传递函数的转折频率；
[0020]S52：根据所述第一伯德图和第二伯德图确定β的取值以及所述第二伯德图对应的穿越频率，根据所述第二伯德图对应的穿越频率确定ω2的取值；
[0021]S53：根据所述步骤S52所确定的所述β的取值和所述ω2的取值计算所述第二伯德图对应的穿越频率处的相位，判断所述第二伯德图对应的穿越频率处的相位是否满足设定相位裕量要求，若是则以步骤S52所确定的所述β的取值和所述ω2的取值作为所述校正函数的参数，否则返回步骤S52调整β的取值。
[0022]一种存储介质，所述存储介质包括存储的指令，其中，在所述指令运行时控制所述存储介质所在的设备执行上述的位置伺服控制系统的校正方法。
[0023]一种电子设备，包括至少一个处理器、以及与处理器连接的至少一个存储器、总线；其中，处理器、存储器通过总线完成相互间的通信；处理器用于调用存储器中的程序指令，以执行上述的位置伺服控制系统的校正方法。
[0024]与现有技术相比，本专利技术具有以下优点：本专利技术实施例提供的方案中，基于几何图形处理，通过确定所述位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益来绘制第一伯德图，并画出预期得到的校正后伯德图作为第二伯德图，分析第一伯德图和第二伯德图的差异确定校正方案，减少了数据处理量，并且在没有计算机的情况下也能完成校正。
[0025]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术的具体实施方式。
附图说明
[0026]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
[0027]图1为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法的方法流程图；
[0028]图2为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法用于校正HAGC电
‑
液位置伺服控制系统时，HAGC电
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液位置伺服控制系统的完整传递函数框图；
[0029]图3为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法用于校正HAGC电
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液位置伺服控制系统时，HAGC电
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液位置伺服控制系统的传递函数第一次简化框图；
[0030]图4为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法用于校正HAGC电
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液位置伺服控制系统时，HAGC电
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液位置伺服控制系统的传递函数第二次简化框图；
[0031]图5为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法用于校正HAGC电
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液位置伺服控制系统时所绘制的伯德图；
[0032]图6为图5的部分放大图；
[0033]图7为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法的又一方法流程图；
[0034]图8为本专利技术实施例提供的一种位置伺服控制系统的校正方法用于校正HAGC电
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液位置伺服控制系统时，确定的校正装置的一种实现示意图；
[0035]图9为本专利技术实施例提供的一种电子设备的结构图。
具体实施方式
[0036]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0037]参考图1示出了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种位置伺服控制系统的校正方法，其特征在于，包括：S1：确定所述位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益；S2：根据所述位置伺服控制系统的开环传递函数和开环增益画出对应的伯德图作为第一伯德图，确定所述第一伯德图的幅值裕量和相位裕量；S3：判断所述第一伯德图的幅值裕量和相位裕量是否满足设定幅值裕量要求和设定相位裕量要求，若所述第一伯德图的幅值裕量满足设定幅值裕量要求且所述第一伯德图的相位裕量满足设定相位裕量要求则转到S6，否则转到S4；S4：根据所述设定幅值裕量要求和设定相位裕量要求画出预期得到的校正后伯德图作为第二伯德图；S5：确定校正函数，根据所述第一伯德图和所述第二伯德图确定所述校正函数的参数；S6：完成校正。2.根据权利要求1所述的位置伺服控制系统的校正方法，其特征在于，所述步骤S5中，在确定校正函数，根据所述第一伯德图和所述第二伯德图确定所述校正函数的参数后，还包括确定与所述校正函数对应的校正装置实现形式和校正装置参数。3.根据权利要求1所述的位置伺服控制系统的校正方法，其特征在于，所述步骤S3中若判断得到所述第一伯德图的相位裕量满足设定相位裕量要求，所述第一伯德图的幅值裕量低于设定幅值裕量要求，则步骤S5确定的校正函数为滞后校正的传递函数。4.根据权利要求1所述的位置伺服控制系统的校正方法，其特征在于，所述步骤S3中若判断得到所述第一伯德图的幅值裕量满足设定幅值裕量要求，所述第一伯德图的相位裕量低于设定相位裕量要求，则步骤S5确定的校正函数为超前校正的传递函数。5.根据权利要求1所述的位置伺服控制系统的校正方法，其特征在于，所述步骤S1中确定的所述位置伺服控制系统的开环传递函数为进行简化后的开环传递函数。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：张力，
申请(专利权)人：安徽中钢诺泰工程技术有限公司，
类型：发明
国别省市：