【技术实现步骤摘要】
一种基于三维集成TSV转接板的微流道结构及制备方法
[0001]本专利技术属于集成电路封装领域,尤其涉及一种基于三维集成TSV转接板的微流道结构及其制备方法。
技术介绍
[0002]随着电子器件的性能及集成度的不断提高,电子器件的功耗也逐渐增加;同时随着芯片3D堆叠技术和2.5D三维集成技术等使芯片或者器件集成小型化和轻量化技术的发展,电子器件的集成功率密度进一步增加,从最初的10W/cm2已经发展到芯片级的100W/cm2,功率密度的增加将导致芯片、模组甚至系统集成过程中出现高温热区域,进而造成电子器件的工作性能下降,工作寿命逐渐降低,因此热管理将会成为制约微电子发展的关键问题。
[0003]在三维集成技术中高性能芯片采用硅基堆叠,单颗芯片的热量可达100W/cm2,若器件中存在多颗高性能芯片时,传统的被动式散热方式难以实现高密度热量的转移,热量的聚集将会大大降低芯片的性能;利用先进主动式热管理方式降低芯片热量传输链路热阻,将热量高效转移是未来发展的趋势,针对三维集成技术中的硅转接板直接引入嵌入式微流道,并且不影响 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述结构包括顶部TSV转接板和底部TSV转接板;所述顶部TSV转接板上刻蚀形成多个TSV阵列柱,TSV阵列柱之间的间隙形成微流道;所述底部TSV转接板与顶部TSV转接板通过金属键合,且底部TSV转接板上刻蚀形成微流道出入口以及与顶部TSV转接板上的TSV对应的TSV。2.根据权利要求1所述的基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述TSV阵列柱包括一个或者多个TSV。3.根据权利要求1所述的基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述TSV阵列柱底部及顶部TSV转接板四周均进行了金属图像化。4.根据权利要求1所述的基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述TSV阵列柱为圆柱、多面体或者椭圆柱。5.根据权利要求1所述的基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述底部TSV转接板顶部进行了金属图形化,且金属图像化区域与顶部TSV转接板的金属图像化一一对应。6.根据权利要求1所述的基于三维集成TSV转接板的微流道结构,其特征在于,所述顶部TSV转接板和底部TSV转接板材料均为...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹林炜,孙翔宇,安宁,王月兴,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院电子工程研究所,
类型:发明
国别省市:
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