单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片及制造方法技术

技术编号:37208031 阅读:23 留言:0更新日期:2023-04-20 22:59
本发明专利技术提出了一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片及制造方法。其芯片包含基底、贯穿基底的流孔、绝缘层、第一阳极、第一阴极、第二阳极、第二阴极。其中,绝缘层均匀分布在基底表面和流孔内壁上。第一阳极和第一阴极间隔分布在上表面绝缘层,后者还分布在上内壁绝缘层上。第二阳极和第二阴极间隔分布在下表面绝缘层上,后者还分布在下内壁绝缘层上。在流孔内壁的第一阴极和第二阴极由中间的绝缘区隔开。本发明专利技术提出的芯片同时集成制造四种电极,相当于两片集成两电极的芯片的组合,可以减少芯片的消耗,降低生产成本。此外,芯片加工误差取决于设备对准误差,流孔和电极图形对准精度高。电极检测灵敏度高,性能一致性好。性能一致性好。性能一致性好。

【技术实现步骤摘要】
单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片及制造方法


[0001]本专利技术涉及MEMS传感器和低频振动信号检测领域,尤其涉及MEMS工艺制作领域,具体涉及一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片及制造方法。

技术介绍

[0002]电化学式地震检波器是以液体为惯性质量块的振动传感器,具有灵敏度高、噪声低和低频信号检测性能好等特点。与传统的电容或电磁式的地震检波器相比,电化学式地震检波器的工作倾角较大。一般能达到10
°
~15
°
以上。
[0003]电化学振动传感器的核心单元由敏感电极、电解液等组成。敏感电极主要采用阳极阴极阴极阳极的排列方式。电解液由含有KI和I2的水溶液组成,其中的I

在阳极失去电子生成I3‑
,而I3‑
在阴极得到电子生成I

。当外界振动时,电解液相对于电极位置发生相对运动,导致两阴阳电极间I3‑
浓度发生变化形成浓度差,反映在两对阴极输出电流的差分信号增强。通过检测差分电流就可以得到振动的振幅和频率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于:包含硅基底、贯通硅基底的流孔、绝缘层、第一阳极、第一阴极、第二阳极、第二阴极;所述硅基底厚度均匀,表面洁净;所述流孔贯通硅基底的上下表面;所述绝缘层形成于硅基底上下表面,分为上表面绝缘层和下表面绝缘层;所述绝缘层还形成于流孔内壁,可以分为上内壁绝缘层和下内壁绝缘层;所述第一阳极形成于所述的上表面绝缘层;第一阳极包括多个第一阳极引线和第一阳极焊盘;所有的第一阳极引线等间隔排列,末端都汇聚于第一阳极焊盘;所述第一阴极形成于所述的上表面绝缘层和上内壁绝缘层;第一阴极包括第一阴极引线、第一侧壁阴极和第一阴极焊盘;所述第一侧壁阴极通过第一阴极引线引出与第一阴极焊盘连接;所述第二阳极形成于所述的下表面绝缘层,第二阳极包括多个第二阳极引线和第二阳极焊盘;所有的第二阳极引线等间隔排列,末端都汇聚于第二阳极焊盘;第二阴极形成于所述的下表面绝缘层和下内壁绝缘层,所述第二阴极包括第二阴极引线、第二侧壁阴极和第二阴极焊盘;所述第二侧壁阴极通过第二阴极引线引出与第二阴极焊盘连接;通过调整溅射过程中金属靶材和圆片的相对角度,在流孔侧壁上的第一阴极和第二阴极之间的制作绝缘区域,实现电极绝缘。2.根据权利要求1所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,硅基底的材料是硅片,选择晶向为<100>的N型硅或者P型硅,厚度在400um

500um范围内。3.根据权利要求1所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,所述流孔采用BOSCH工艺在硅基底的硅片上进行双面刻蚀,流孔分布是圆形或者六边形。4.根据权利要求1所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,所述绝缘层的材料采用氧化硅或者氮化硅。5.根据权利要求1所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,所述四种电极的材料为金属铂。6.根据权利要求1所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,流孔以单元的形式存在,一单元包括一个或多个流孔;每一个单元被第一阴极或者第二阴极完全覆盖,单元与单元间通过阴极引线串联。7.根据权利要求6所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片,其特征在于,相邻的第一阳极引线、第二阳极引线均包裹一组单元和它们之间起串联作用的阴极引线。8.一种如权利要求1

7任一项所述的一种单硅片上集成制造四种电化学敏感电极的MEMS芯片的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(1):选择并清洗硅基底;步骤(2):使用正性光刻胶在硅基底上表面进行匀胶、前烘、曝光、显影,暴露通孔位置,形成流孔刻蚀光刻胶掩膜;步骤(3):利用深硅刻蚀设备进行通孔的刻蚀,刻蚀深度略超过硅基底的一半厚度;刻蚀过后去除光刻胶掩膜,清洗硅基底;
步骤(4):使用正性光刻胶在硅基底下表面进行匀胶,、前烘、曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员:王军波孙振宇齐文杰陈德勇
申请(专利权)人:中国科学院空天信息创新研究院
类型:发明
国别省市:

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