曝光机曝光基台的回位机构制造技术

本实用新型专利技术是有关于一种曝光机曝光基台的回位机构，利用设置于曝光平台的上导引块的斜导引面、与组设于动力源的下导引块的另一斜导引面的互相对应嵌合，即可轻易地完成自动回位功能，如此可缩短曝光作业的时间与并提高产能。此外，借由缓冲件的设计，可缓冲曝光平台回落的冲击力，亦即曝光平台不会因震动而产生位移误差，且可以避免曝光平台因震动而发生损害的问题。再者，利用上述的回位机构，亦可降低成本，相对可增加产品的竞争力。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种回位机构，特别是涉及一种适用于曝光机曝光基 台的回《立才几构。
技术介绍
请参阅图1，其为现有曝光机的立体图，于图式中显示有一传统的曝光机9，此曝光机9包括一曝光基台91，且此曝光基台91包括一曝光平台911 及一曝光上盖912,于使用时，使欲进行曝光的电路板(图未示)放置于曝光 平台911上，并将吸附有底片(图未示)的曝光上盖912对应向下盖合于曝 光平台911,并使曝光平台911吸附于曝光上盖912,之后，再使整个曝光 基台91进入内部的曝光室(图未示)并进行曝光作业，借以将底片上的图案 (例如线路)借由曝光程序复制到电路板上。于上述的曝光作业过程中，曝光基台91不断来回并更换不同的电路板， 以将底片上的图案借由曝光程序复制到多个电路板上。然而，于进行每一 次的曝光作业时，皆需有所谓的回位装置以使曝光基台91上的底片与电路 板可位于相对正确位置，如此于重复进行曝光作业时，才不会因位置的误 差而使底片上的图案无法正确复制到电路板上，但是每次回位都需要再次 校正与调整，因为曝光的片数增加，同样的会拉长生产的时间，造成产能 的下滑，造成生产上极大的困扰。请同时参阅图1、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机曝光基台的回位机构，其特征在于：搭配一曝光机使用，该曝光机包括一曝光基台及一动力源，该动力源位于该曝光基台下方并包括一承载部，该曝光基台包括一曝光平台及一曝光上盖，该曝光上盖对应向下盖合于该曝光平台，且该曝光平台包括一下表面；其中，该回位机构包括两个以上的回位装置，且每一回位装置包括：　一上导引块，设置于该曝光平台的该下表面，且该上导引块向下形成有一斜导引面，该上导引块并上下贯设有一贯孔，该贯孔并对应连通该下表面；　一下导引块，组设于该动力源的该承载部，且该下导引块向上形成有另一斜导引面，该另一斜导引面并对应嵌合于该上导引块的该斜导引面；以及　一缓冲件，包括一基座、一杆体、一顶抵块及...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张鸿明，
申请(专利权)人：川宝科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]