一种集成光电子器件制造的蚀刻机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种集成光电子器件制造的蚀刻机构，包括机体，所述机体的顶部固定安装有防护壳，所述防护壳的正面嵌设有活动门，所述机体的顶部固定安装有调节仓，所述调节仓的顶部铰接有蚀刻台面，所述调节仓的内部设置有调节机构，所述调节机构包括调节螺杆、从动蜗轮、调节管筒和限制块，所述调节仓的内底壁转动安装有数量为两个且一端贯穿并延伸到调节仓上方的调节螺杆。该集成光电子器件制造的蚀刻机构，通过蚀刻台面、驱动机构和调节机构的设置，使紧固机构和夹持机构固定在蚀刻台面上的集成光电子器件进行喷淋蚀刻，使蚀刻产生的碎屑被及时进行清理，避免其遮挡蚀刻部位，使蚀刻更加均匀，蚀刻效果更佳。蚀刻效果更佳。蚀刻效果更佳。

【技术实现步骤摘要】
一种集成光电子器件制造的蚀刻机构


[0001]本技术涉及蚀刻加工
，具体为一种集成光电子器件制造的蚀刻机构。

技术介绍

[0002]蚀刻，通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果；在集成光电子器件制造的过程中需要使用蚀刻机对其表面进行处理，从而能够从而形成人们想要的图案。
[0003]在实现本申请过程中，专利技术人发现该技术中至少存在如下问题，在现有蚀刻机中，蚀刻台面通常为平整台面，在蚀刻液体对集成光电子器件表面进行喷淋蚀刻过程不利于蚀刻产生的废料脱落，从而造成集成光电子器件表面容易被废料遮挡，不能够均匀进行喷淋蚀刻，且废料不易进行清理，故而需要进一步改进。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种集成光电子器件制造的蚀刻机构，具备均匀蚀刻等优点，解决了现有蚀刻机内部台面过于平整，使蚀刻过程中产生废料不便清理，造成蚀刻不均匀现象的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种集成光电子器件制造的蚀刻机构，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)的顶部固定安装有防护壳(2)，所述防护壳(2)的正面嵌设有活动门(3)，所述机体(1)的顶部固定安装有调节仓(4)，所述调节仓(4)的顶部铰接有蚀刻台面(5)，所述调节仓(4)的内部设置有调节机构，所述调节仓(4)的内部设置有驱动机构；所述调节机构包括调节螺杆(9)、从动蜗轮(10)、调节管筒(11)和限制块(12)，所述调节仓(4)的内底壁转动安装有数量为两个且一端贯穿并延伸到调节仓(4)上方的调节螺杆(9)，所述调节螺杆(9)的外部固定安装有从动蜗轮(10)，所述从动蜗轮(10)外部螺纹安装有一端贯穿并延伸到调节仓(4)上方的调节管筒(11)，所述调节管筒(11)相背的一侧均固定安装有限制块(12)，所述调节仓(4)的内壁底部且位于调节螺杆(9)整体的左右两侧均固定安装有稳固杆(21)，所述限制块(12)滑动套接在稳固杆(21)的外部。2.根据权利要求1所述的一种集成光电子器件制造的蚀刻机构，其特征在于：所述驱动机构包括无刷电机(7)和主动蜗杆(8)，所述调节仓(4)的内壁左侧固定安装有无刷电机(7)，所述无刷电机(7)的输出端固定安装有一端与从动蜗轮(10)相啮合的主动蜗杆(8)。3.根据权利要求1所述的一种集成光电子器件制造的蚀刻机构，其特征在于：所述蚀刻台面(5)的顶部设置有紧固机构，所述紧固机构的内部设置有夹持机构，所述蚀刻台面(5)的顶部开设有固定槽(6)。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：李崇辉，
申请(专利权)人：李崇辉，
类型：新型
国别省市：