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一种集成光电子器件制造的蚀刻机构制造技术
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文档序号:37339967
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本实用新型涉及一种集成光电子器件制造的蚀刻机构,包括机体,所述机体的顶部固定安装有防护壳,所述防护壳的正面嵌设有活动门,所述机体的顶部固定安装有调节仓,所述调节仓的顶部铰接有蚀刻台面,所述调节仓的内部设置有调节机构,所述调节机构包括调节螺杆...
该专利属于李崇辉所有,仅供学习研究参考,未经过李崇辉授权不得商用。
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