【技术实现步骤摘要】
一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置
[0001]本技术涉及含氟废水处理
,尤其涉及一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置。
技术介绍
[0002]随着半导体行业的发展,半导体生产量的提升,半导体生产过程中硅片刻蚀,清洗等过程会产生大量的含酸废水和含氟废水。含氟废水在处理过程中,需要使用混凝沉淀装置;
[0003]目前含氟废水混凝沉淀装置大多采用斜管沉淀池进行沉淀,为了提高含氟废水的处理效率,通常会辅助增加混凝池和絮凝池,但是这种独立设置方法不仅占用面积大,同时增加废水处理成本,缩减经济效益。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置。
[0005]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置,包括池体,所述池体的外表面一侧固定连接有两个筒体,且两个筒体上下错位设置,两个所述筒体的顶部均固定连接有料筒,两个所述料筒的内壁均安装有均匀落料组件,顶部所述筒体的外表面两侧分别固定互通有进水管和连接管,且 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置,包括池体(1),其特征在于:所述池体(1)的外表面一侧固定连接有两个筒体(10),且两个筒体(10)上下错位设置,两个所述筒体(10)的顶部均固定连接有料筒(4),两个所述料筒(4)的内壁均安装有均匀落料组件,顶部所述筒体(10)的外表面两侧分别固定互通有进水管(3)和连接管(12),且进水管(3)与连接管(12)上下错位设置,所述进水管(3)与底部筒体(10)固定互通,两个所述筒体(10)的内部均安装有搅拌组件,两个所述搅拌组件共同安装有驱动组件,底部所述筒体(10)的外表面一侧底部固定连接有固定管(14),且固定管(14)贯穿池体(1)的外表面延伸至内部,所述固定管(14)的出口处固定连接有挡帽(17)。2.根据权利要求1所述的一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置,其特征在于:两个所述均匀落料组件均包括料斗(11),且料斗(11)与料筒(4)之间固定连接,所述料斗(11)的底部中心处固定连接有孔板(19),所述料斗(11)的外表面固定安装有防水振动电机(18)。3.根据权利要求1所述的一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置,其特征在于:两个所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴秀丽,蔡诚,柯永文,于浩,刘海龙,吴秀美,吴伟杰,梁志群,
申请(专利权)人:天津美天水环境科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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