进气管支架制造技术

本申请提供一种进气管支架，包括进气管主体件及进气管固定脚，进气管主体件包括自上而下贯穿进气管主体件的第一贯通孔，进气管固定脚包括2个以上，且至少1个进气管固定脚与进气管主体件活动连接，进气管固定脚远离进气管主体件的一端具有凸出部，通过凸出部将进气管主体件与半导体刻蚀机台中的石英部件的内嵌槽进行固定，且进气管固定脚的内壁所围成的图形与第一贯通孔及石英部件的通孔相连通。本申请通过设置与进气管主体件活动连接的进气管固定脚，可在拆卸时，避免进气管固定脚对石英部件造成的损伤，以及可避免多次拆卸对进气管支架造成的形变，从而可降低对物资的浪费。从而可降低对物资的浪费。从而可降低对物资的浪费。

【技术实现步骤摘要】
进气管支架


[0001]本申请属于半导体设备领域，涉及一种进气管支架。

技术介绍

[0002]刻蚀，是半导体制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过腐蚀处理掉所需除去的部分。
[0003]刻蚀工艺包括干法刻蚀和湿法刻蚀，其中，湿法刻蚀的优点是：选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低，缺点是：钻刻严重、对图形的控制性较差、不能用于小的特征尺寸、会产生大量的化学废液；干法刻蚀的优点是：各向异性好、选择比高、可控性灵活性及重复性好、适用于较小的特征尺寸，缺点是：成本高、设备复杂。
[0004]干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术，当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。因此，干法刻蚀是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果。
[0005]半导体刻蚀机台中具有用以输送刻蚀气体的进气管，根据制程需求，该进气管在与刻蚀机台进行连接时，通常需要进气管支架用以支撑及固定进气管，且进气管支架通常是与刻蚀机台中的石英部件进行连接的。然而，目前该进气管支架由于是一体成型的，且是通过按压进气管支架的固定脚以将固定脚与具有内嵌槽的石英部件进行卡固，因此，该进气管支架在拆卸时一方面容易对刻蚀机台的石英部件造成损伤，另一方面多次拆卸也会对进气管支架造成形变，从而会造成石英部件及进气管支架的报废，造成物资的浪费。
[0006]因此，提供一种进气管支架，实属必要。

技术实现思路

[0007]鉴于以上所述现有技术的缺点，本申请的目的在于提供一种进气管支架，用于解决现有技术中进气管支架的结构在应用时所遇到的上述一系列物资浪费的问题。
[0008]为实现上述目的及其他相关目的，本申请提供一种进气管支架，所述进气管支架包括：
[0009]进气管主体件，所述进气管主体件包括自上而下贯穿所述进气管主体件的第一贯通孔；
[0010]进气管固定脚，所述进气管固定脚包括2个以上，且至少1个所述进气管固定脚与所述进气管主体件活动连接，所述进气管固定脚远离所述进气管主体件的一端具有凸出部，通过所述凸出部将所述进气管主体件与所述半导体刻蚀机台中的石英部件的内嵌槽进行固定，且所述进气管固定脚的内壁所围成的图形与所述第一贯通孔及所述石英部件的通
孔相连通。
[0011]可选地，所述进气管固定脚包括与所述进气管主体件固定连接的第一进气管固定脚及与所述进气管主体件活动连接的第二进气管固定脚。
[0012]可选地，所述第一进气管固定脚与所述第二进气管固定脚的有效面积比为4:1～2:1。
[0013]可选地，所述进气管固定脚均与所述进气管主体件活动连接。
[0014]可选地，所述进气管固定脚包括2
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5个。
[0015]可选地，所述进气管固定脚与所述进气管主体件活动连接的方式包括螺纹连接。
[0016]可选地，所述进气管固定脚通过螺丝与所述进气管主体件的侧壁相连，且所述螺丝包括陶瓷螺丝。
[0017]可选地，所述进气管固定脚为弹性件，且通过按压所述进气管固定脚，将所述凸出部插入所述石英部件的内嵌槽以进行固定。
[0018]可选地，所述进气管主体件的侧壁还具有与所述第一贯通孔相连通的第二贯通孔。
[0019]可选地，所述进气管固定脚的内壁所围成的图形、所述第一贯通孔及所述石英部件的通孔为圆心位于同一垂线的圆形。
[0020]如上所述，本申请的进气管支架，包括进气管主体件及进气管固定脚，所述进气管主体件包括自上而下贯穿所述进气管主体件的第一贯通孔，所述进气管固定脚包括2个以上，且至少1个所述进气管固定脚与所述进气管主体件活动连接，所述进气管固定脚远离所述进气管主体件的一端具有凸出部，通过所述凸出部将所述进气管主体件与所述半导体刻蚀机台中的石英部件的内嵌槽进行固定，且所述进气管固定脚的内壁所围成的图形与所述第一贯通孔及所述石英部件的通孔相连通。本申请通过设置与所述进气管主体件活动连接的所述进气管固定脚，可在拆卸时，避免所述进气管固定脚对所述石英部件造成的损伤，以及可避免多次拆卸对所述进气管支架造成的形变，从而可降低对物资的浪费。
附图说明
[0021]图1显示为本申请实施例中进气管支架的爆炸透视图。
[0022]图2显示为本申请实施例中进气管支架与石英部件的装配图。
[0023]图3显示为图2中沿C
‑
C
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截面的局部放大图。
[0024]元件标号说明
[0025]100
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进气管支架
[0026]110
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进气管主体件
[0027]101
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第一贯通孔
[0028]121
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第一进气管固定脚
[0029]122
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第二进气管固定脚
[0030]123
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凸出部
[0031]200
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石英部件
[0032]201
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内嵌槽
[0033]202
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石英部件的通孔
具体实施方式
[0034]以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。
[0035]请参阅图1
‑
图3。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，遂图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0036]本实施例提供一种进气管支架，所述进气管支架包括进气管主体件及进气管固定脚，所述进气管主体件包括自上而下贯穿所述进气管主体件的第一贯通孔，所述进气管固定脚包括2个以上，且至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种进气管支架(100)，其特征在于，所述进气管支架(100)包括：进气管主体件(110)，所述进气管主体件(110)包括自上而下贯穿所述进气管主体件(110)的第一贯通孔(101)；进气管固定脚，所述进气管固定脚包括2个以上，且至少1个所述进气管固定脚与所述进气管主体件(110)活动连接，所述进气管固定脚远离所述进气管主体件(110)的一端具有凸出部(123)，通过所述凸出部(123)将所述进气管主体件(110)与半导体刻蚀机台中的石英部件(200)的内嵌槽(201)进行固定，且所述进气管固定脚的内壁所围成的图形与所述第一贯通孔(101)及所述石英部件(200)的通孔(202)相连通。2.根据权利要求1所述的进气管支架(100)，其特征在于：所述进气管固定脚包括与所述进气管主体件(110)固定连接的第一进气管固定脚(121)及与所述进气管主体件(110)活动连接的第二进气管固定脚(122)。3.根据权利要求2所述的进气管支架(100)，其特征在于：所述第一进气管固定脚(121)与所述第二进气管固定脚(122)的有效面积比为4:1～2:1。4.根据权利要求1所述的进气管支架(100)，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨兴昭，陈泳，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：