【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及元件检验系统的领域。更具体来讲，本专利技术涉及利用干涉测量法、如白光干涉测量法来测量元件的三维特征的元件检验系统和方法。
技术介绍
采用图像数据的检验系统是本领域已知的。这类检验系统通常采用来自被相干或非相干光源照射的元件的图像数据，然后对图像数据执行图像分析过程，从而确定该元件是否符合预定标准。例如，图像数据分析用来确定元件是否已经被适当标记，具有处于正确位置的特征，或者具有其它指定的标准。在这一点上，“特征”可包括想要的特征、如接触件，或者不想要的特征，如从接触件表面伸出或伸入其表面的接触件上的损伤。这类元件检验系统存在的一个问题是元件的三维特征必须从图像数据来推断。因此，在许多情况下，难以确定图像数据中的指示来自高于还是低于参考平面的特征。同样，由于这种图像数据分析采用亮度的相对变化来推断特征的位置以及确定这些特征是否处于预定的允许标准之内，因此往往出现特征在单一照明源下不可区分的情况。虽然采用多个照明源、如来自两个不同角度的照明源是已知的，但是这些照明源可能仍然得到没有清楚识别不满足指定标准的元件特征、以便允许准确地确定特征尺寸的图像数据。...
【技术保护点】
一种用于检验元件的系统，包括：产生图像数据的图像数据系统；以及连接到所述图像数据系统的干涉测量检验系统，所述干涉测量检验系统接收所述图像数据，并根据采用干涉测量法产生的表面坐标数据来产生检验合格／不合格数据。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：S马图尔，CY常，
申请(专利权)人：半导体技术及器械公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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