由非晶体氟树脂制成的模及其制造方法技术

一种模，用于通过使用在由非晶体氟树脂制成的所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图。所述模使用其上具有面对所述图案的图案结构的一主模（１０４）通过压模技术制造。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于在基片上形成具有不同尺寸(范围从nm到cm)的布线图案的模；更具体的是涉及由非晶体氟树脂制成的模，其用于在制造集成电路、电子设备、光电设备、磁设备以及类似物的过程中在基片(硅基片、陶瓷基片、金属层、聚合体层以及类似物)上形成布线图案(超精细图案、微图案、图案以及类似物)，并且涉及这种模的制造方法。
技术介绍
如本领域众所周知的那样，为了制造半导体设备、电子设备、光电设备、磁设备、显示设备、微机电设备以及类似物，需要执行在基片上形成微布线图案的过程。作为在基片上形成微布线图案的代表性的技术，有一种通过使用光来形成微布线图案的光刻方法。根据光刻方法，具有光敏性的聚合材料(例如光致抗蚀剂及其类似物)被涂敷在该基片上，待布图的材料层压或沉积在基片上，然后聚合材料通过曝光工艺暴露在光线中，这个工艺使用了设计有一定的目标图案的标线片(reticle)。然后，暴露的聚合材料通过显影工艺被移除，使得具有目标图案的图案掩模或者蚀刻掩模可以在待布图的材料上形成。此后，通过利用图案掩模的蚀刻工艺，层压在基片上的材料可以被刻上预期的图案。同时，在上面描述的光刻方法中，电路线宽或者图案线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种模，用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，　　　　其中，所述模由非晶体氟树脂制成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：李弘熙，姜逹荣，
申请(专利权)人：米纽塔技术株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]