由非晶体氟树脂制成的模及其制造方法技术

一种模，用于通过使用在由非晶体氟树脂制成的所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图。所述模使用其上具有面对所述图案的图案结构的一主模（１０４）通过压模技术制造。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于在基片上形成具有不同尺寸(范围从nm到cm)的布线图案的模；更具体的是涉及由非晶体氟树脂制成的模，其用于在制造集成电路、电子设备、光电设备、磁设备以及类似物的过程中在基片(硅基片、陶瓷基片、金属层、聚合体层以及类似物)上形成布线图案(超精细图案、微图案、图案以及类似物)，并且涉及这种模的制造方法。
技术介绍
如本领域众所周知的那样，为了制造半导体设备、电子设备、光电设备、磁设备、显示设备、微机电设备以及类似物，需要执行在基片上形成微布线图案的过程。作为在基片上形成微布线图案的代表性的技术，有一种通过使用光来形成微布线图案的光刻方法。根据光刻方法，具有光敏性的聚合材料(例如光致抗蚀剂及其类似物)被涂敷在该基片上，待布图的材料层压或沉积在基片上，然后聚合材料通过曝光工艺暴露在光线中，这个工艺使用了设计有一定的目标图案的标线片(reticle)。然后，暴露的聚合材料通过显影工艺被移除，使得具有目标图案的图案掩模或者蚀刻掩模可以在待布图的材料上形成。此后，通过利用图案掩模的蚀刻工艺，层压在基片上的材料可以被刻上预期的图案。同时，在上面描述的光刻方法中，电路线宽或者图案线宽依赖于在曝光工艺中使用的光线的带宽。因此，通过使用传统的光刻方法在基片上形成线宽小于或等于例如100nm的超精细图案是非常困难的。而且，因为这种传统光刻方法需要多个步骤(比如基片清洁过程，基片表面处理，感光聚合体涂敷过程，低温热处理过程，曝光，显影，清洁，高温热处理以及类似过程)，方法本身变得复杂且需要相当多的处理时间。此外，还需要高价的处理设备，因此增加了制造成本且降低了生产率。为了克服传统光刻方法的限制，已经提出了非传统的平板印方法。一种非传统的平板印方法是纳米压印方法，用于将硬模上的图案转印到基片的聚合体薄膜图案上，过程如下准备由硅(Si)制成的预期图案形成于其上的硬模以及表面涂敷有热塑性聚合体薄膜的基片，使硬模面对基片，通过使用压板在高温和高压下在硬模和基片上执行压制，并且将压制的模与基片分离。这种纳米压印方法的一个优势在于，容易形成超精细图案，因为使用了由硅及类似物制成的硬模。实际上，根据研究，已知的图案的最小尺寸是大约7nm。然而，传统的纳米压印方法的缺陷如下描述。首先，在高温和高压下压制结束以后很难将模从基片分离。而且，压制过程中的高压导致可能损坏模和基片。再者，由于布图是通过使用高温聚合材料流质来实现的，所以需要相当多的时间来完成上面描述的布图，尤其是在大尺寸布图的情况下，因此处理时间也增加。非传统的平板印方法的其他例子包括微接触印(μCP)，毛细管中的微模制(MIMIC)，微转印模制(μTM)，软模制，毛细作用平板印(CFL)以及类似方法。在这些方法中，一种聚二甲基硅氧烷(PDMS)的聚合弹性体被用作模是常见的。因为在传统的纳米压印方法中使用的PDMS模是弹性体，PDMS模与待布图的基片的表面共形接触是容易的。而且，由于PDMS模具有低的表面能，PDMS模附着到其他材料表面上的附着力很低，足以能够在布图终止以后使PDMS模容易地与基片表面分离。此外，由于三维网络结构而产生的高的气体渗透性导致溶剂容易吸收进去。同时，由于PDMS模是具有低机械强度的弹性体，PDMS模会容易变形，使得PDMS模不会被用于形成尺寸小于或等于例如大约500μm的微图案，并且高度依赖于待形成的图案的纵横比。此外，PDMS模被像甲苯和类似物那样的通常的有机溶剂而膨胀和变形，使得在布图中使用的聚合体和溶剂的选择会受到限制。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的是提供一种由非晶体氟树脂制成的模，其容易与图案将形成于其上的基片分离，并且具有高的气体渗透性，同时适当保持柔性和机械强度，以及还提供其制造方法。根据本专利技术的一个优选实施例，提供了一种模，用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，其中，所述模由非晶体氟树脂制成。根据本专利技术的另一个优选实施例，提供了一种模，用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，其中，所述模由非晶体氟树脂和聚合弹性体混合而成的组合物制成。根据本专利技术的再一个优选实施例，提供了一种用于制造模的方法，所述模用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，其中，所述模使用其上具有面对所述图案的图案结构的一主模通过压模技术制造，并且所述模由非晶体氟树脂制成。根据本专利技术的再一个优选实施例，提供了一种用于制造模的方法，所述模用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，其中，所述模使用其一侧具有面对布线图案的图案结构的一型箱(mold box)通过注模技术制造，并且所述模由非晶体氟树脂制成。根据本专利技术的再一个优选实施例，提供了一种用于制造模的方法，所述模用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，所述方法包括以下步骤将其上具有面对所述图案的图案结构的一主模布置在一容器中的某一位置，使所述图案结构面向上；给所述容器填充非晶体氟树脂溶液；将所述非晶体氟树脂溶液硬化，以产生硬化的非晶体氟树脂；以及将硬化的非晶体氟树脂与所述主模分离。根据本专利技术的再一个优选实施例，提供了一种用于制造模的方法，所述模用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，所述方法包括以下步骤将聚合弹性体低聚物与非晶体氟树脂溶液混合，以产生混合溶液； 蒸发溶剂，以产生溶剂蒸发的混合溶液；给所述溶剂蒸发的混合溶液添加硬化剂，以产生组合物；将所述组合物注入其内布置有一主模的一容器内，所述主模具有面对所述图案的图案结构；硬化所述组合物，以产生硬化组合物；以及将硬化组合物与所述主模分离。根据本专利技术的再一个优选实施例，提供了一种用于制造模的方法，所述模用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，所述方法包括步骤将聚合弹性体低聚物、非晶体氟树脂以及硬化剂混合，以产生组合物；将所述组合物注入其内布置有一主模的一容器内，所述主模具有面对所述图案的图案结构；硬化所述组合物，以产生硬化组合物；以及将硬化组合物与所述主模分离。附图说明本专利技术的上面的以及其他目的和特征将通过后面的对结合附图的优选实施例的描述而变得清楚，图中图1A和1B示出了根据本专利技术第一优选实施例的由非晶体氟树脂制成的模的制造过程；图2A和2B示出了根据本专利技术第二优选实施例的由非晶体氟树脂制成的模的制造过程；以及图3A和3B示出了根据本专利技术第三优选实施例的由非晶体氟树脂制成的模的制造过程。具体实施例方式本专利技术的上面的以及其他特征将通过后面参考附图的优选实施例的描述而变得清楚。此后，本专利技术的优选实施例将参考附图详细描述。在聚二甲基硅氧烷(PDMS)，也就是一种聚合弹性体，被用于制造用于在基片上形成图案的模的现有技术中具有的缺陷在于，由于其低的机械强度以及其被有机溶剂膨胀，PDMS容易变形。然而，与现有技术不同，本专利技术使用非晶体特氟纶(amorphous teflone)来制造用于在基片上形成图案(尺寸范围从nm到cm)的模，因为非晶体特氟纶作为氟树脂容易从模中分离，这是因为其低的表面能并且具有适当的机械强度，高的气体渗透性，抵抗有机溶剂的非膨胀特性，以及与基片表面的共形接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种模，用于通过使用在所述模的一侧上形成的图案来在一基片上形成目标布线图，　　　　其中，所述模由非晶体氟树脂制成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：李弘熙，姜逹荣，
申请(专利权)人：米纽塔技术株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]