壳体元件、由压力平衡元件和壳体元件构成的组合及这种组合的制造方法技术

为了提供一种包括壳体壁和用于压力平衡元件的接收结构的壳体元件，其中，接收结构包括用于使气体通过的贯通开口，该壳体元件被构造成使得防止或至少避免液体积聚在装配在壳体元件上的压力平衡元件上，提出的是，接收结构具有至少一个相对于壳体壁的基础区域的外部面至少区段式隆起的压力平衡元件贴靠面。部面至少区段式隆起的压力平衡元件贴靠面。部面至少区段式隆起的压力平衡元件贴靠面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】壳体元件、由压力平衡元件和壳体元件构成的组合及这种组合的制造方法


[0001]本专利技术涉及壳体元件，壳体元件包括壳体壁和用于压力平衡元件的接收结构，其中，接收结构包括用于使气体通过的贯通开口。

技术介绍

[0002]这种壳体元件用于封闭壳体中的开口，除了壳体元件外，壳体还包括至少一个另外的壳体部分，例如壳体主体。
[0003]借助能置入到壳体元件中的压力平衡元件有可能的是，在被壳体包围的内部空间与壳体的外部空间之间建立压力平衡。
[0004]在上述类型的已知壳体元件中存在的问题是，液体会积聚在装配在壳体元件上的压力平衡元件上，并损害压力平衡元件的功能。

技术实现思路

[0005]本专利技术的任务是提供开头所述类型的壳体元件，其被构造成防止或至少减少装配在壳体元件上的压力平衡元件上的液体积聚。
[0006]根据本专利技术，在具有权利要求1的前序部分的特征的壳体元件中通过如下方式解决该任务，即，接收结构具有至少一个相对于壳体壁的基础区域的外部面至少区段式隆起的压力平衡元件贴靠面。
[0007]本专利技术是基于的概念是，通过如下方式减少或完全防止液体积聚在装配在壳体元件上的压力平衡元件上，即，压力平衡元件布置在压力平衡元件贴靠面上，该压力平衡元件贴靠面相对于壳体元件的壳体壁的基础区域的外部面升高地布置。
[0008]与将压力平衡元件以与基础区域的外部面处于同一水平或者甚至比基础区域的外部面水平更低的方式布置在压力平衡元件贴靠面上相比，由此减少或甚至是避免了液体在压力平衡元件上的积聚，并促进液体从压力平衡元件排到壳体元件的壳体壁的基础区域上。
[0009]压力平衡元件贴靠面的每个点都具有沿壳体壁的基础区域的厚度方向相对于壳体壁的基础区域的外部面的偏移量V。
[0010]该偏移量V从壳体壁的基础区域的外部面看是向外地、即朝向壳体元件的外部空间侧地指向。
[0011]在本专利技术的一个优选设计方案中设置的是，接收结构包括围绕压力平衡元件贴靠面延伸的隆起的接片。
[0012]这种隆起的接片优选设有至少一个排出开口。
[0013]特别有利的是，接片设有两个或更多个排出开口，尤其是设有三个或更多个排出开口，更优选的是设有四个或更多个排出开口。
[0014]每个排出开口例如可以被构造为凹部，凹部通到接片的上边缘为止。
[0015]接片的上边缘是接片的远离壳体元件的壳体壁的基础区域的外部面的边缘。
[0016]对液体从压力平衡元件中排出特别有利的是，压力平衡元件贴靠面至少区段式相对于壳体壁的基础区域的外部面倾斜。
[0017]优选地，压力平衡元件贴靠面作为整体相对于壳体壁的基础区域的外部面倾斜。
[0018]压力平衡元件贴靠面相对于壳体壁的基础区域的外部面所倾斜的角度α优选小于30
°
，尤其小于10
°
，特别优选小于5
°
。
[0019]此外优选设置的是，倾斜角度α大于1
°
，特别有效大于2
°
。
[0020]在本专利技术的一个特别的实施方式中设置的是，壳体元件的接收结构具有至少两个相对于壳体壁的基础区域的外部面倾斜的部分压力平衡元件贴靠面，这些部分压力平衡元件贴靠面具有相互不同的下倾方向。
[0021]彼此邻接的部分压力平衡元件贴靠面共同形成了接收结构的压力平衡元件贴靠面。
[0022]在此例如可以设置的是，接收结构的其中至少两个部分压力平衡元件贴靠面沿着脊线彼此邻接，并且从脊线沿相互不同的下倾方向下降。
[0023]脊线在此优选延伸穿过接收结构的贯通开口的纵向中心轴线。
[0024]例如，第一部分压力平衡元件贴靠面从该脊线沿第一下倾方向下降至压力平衡元件贴靠面的第一最低位置，而第二部分压力平衡元件贴靠面从脊线沿与第一下倾方向相反的第二下倾方向下降至压力平衡元件贴靠面的第二最低位置。
[0025]在该情况下，液体可以从装配在壳体元件上的压力平衡元件在两个相反的下倾方向上从压力平衡元件排出。
[0026]接收结构优选与壳体壁一体式构成，尤其是与壳体壁的基础区域一体式构成。
[0027]接收结构优选通过对壳体壁的一部分改形来形成。
[0028]使接收结构由壳体壁的一部分形成的改形过程尤其可以包括压印过程、弯曲过程或深拉过程。
[0029]压力平衡元件贴靠面的最深部分相对于壳体壁的基础区域的外部面在基础区域的厚度方向上向外偏移的最小偏移量V
最小
可以小于壳体壁的基础区域的壳体壁的材料厚度d。
[0030]在本专利技术的替选的设计方案中可以设置的是，压力平衡元件贴靠面的最深位置相对于壳体壁的基础区域的贴靠面在厚度方向上向外偏移的最小偏移量V
最小
大于壳体壁在基础区域中的材料厚度d。
[0031]此外可以设置的是，压力平衡元件贴靠面的最深位置相对于壳体壁的基础区域的外部面向外偏移的最小偏移量V
最小
与壳体壁在壳体壁的基础区域中的材料厚度d基本上大小相同。
[0032]根据本专利技术的壳体元件尤其适用于包括在压力平衡元件和根据本专利技术的壳体元件的组合中的应用，其中，压力平衡元件优选布置在壳体元件的接收结构上。
[0033]压力平衡元件优选包括布置在壳体元件的压力平衡元件贴靠面上的压力平衡元件膜。
[0034]压力平衡元件膜可以被构造为半透膜。
[0035]压力平衡元件膜可以被构造为薄膜。
[0036]压力平衡元件膜优选材料锁合地与压力平衡元件贴靠面连接。
[0037]尤其地可以设置的是，压力平衡元件膜与压力平衡元件贴靠面粘接。
[0038]在本专利技术的一个优选设计方案中设置的是，压力平衡元件包括覆盖压力平衡元件膜的保护帽。
[0039]保护帽优选是由金属材料制成，例如由钢材料或铝材料制成。
[0040]这样的保护帽可以具有至少一个通风通道。
[0041]优选设置的是，保护帽具有两个或更多个通风通道，尤其三个或更多个通风通道，更优选四个或更多个通风通道。
[0042]每个通风通道优选从压力平衡元件的外部空间侧的流体容纳空间延伸直至相关的通风通道的通入开口。
[0043]外部空间侧的流体容纳空间优选与壳体元件的接收结构的贯通开口相对置地布置在压力平衡元件膜上。
[0044]压力平衡元件的外部空间侧的流体容纳空间优选基本上居中地布置在压力平衡元件上。
[0045]至少一个通风通道优选从压力平衡元件的外部空间侧的流体容纳空间例如在径向方向上延伸直至压力平衡元件的外周。
[0046]保护帽的多个在纵向方向上彼此对齐的通风通道可以共同形成较长的直线型的通风通道。
[0047]在本专利技术的一个特别的设计方案中设置的是，保护帽具有两个交叉的通风通道。
[0048]通风通道可以尤其是在压力平衡元件的外部空间侧的流体容纳空间本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.壳体元件，所述壳体元件包括壳体壁(110)和用于压力平衡元件(104)的接收结构(118)，其中，所述接收结构(118)包括用于让气体通过的贯通开口(136)，其特征在于，所述接收结构(118)具有至少一个相对于所述壳体壁(110)的基础区域(122)的外部面(116)至少区段式隆起的压力平衡元件贴靠面(120)。2.根据权利要求1所述的壳体元件，其特征在于，所述接收结构(118)包括围绕所述压力平衡元件贴靠面(120)延伸的隆起的接片(130)。3.根据权利要求2所述的壳体元件，其特征在于，所述接片(130)设有至少一个排出开口(132)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的壳体元件，其特征在于，所述压力平衡元件的贴靠面(120)至少区段式相对于所述壳体壁(110)的基础区域(122)的外部面(116)倾斜。5.根据权利要求1至4中任一项所述的壳体元件，其特征在于，所述接收结构(118)具有至少两个相对于所述壳体壁(110)的基础区域(122)的外部面(116)倾斜的部分压力平衡元件贴靠面(161a、161b)，所述部分压力平衡元件贴靠面具有彼此不同的下倾方向(162a、162b)。6.根据权利要求5所述的壳体元件，其特征在于，所述接收结构(118)的其中至少两个部分压力平衡元件贴靠面(161a、161b)沿脊线(164)彼此邻接，并从所述脊线(164)沿彼此不同的下倾方向(162a、162b)下降。7.根据权利要求1至6中任一项所述的壳体元件，其特征在于，所述接收结构(118)与所述壳体壁(110)一体式构成。8.根据权利要求1至7中任一项所述的壳体元件，其特征在于，所述接收结构(118)通过对所述壳体壁(110)的一部分改形而形成。9.由压力平衡元件(104)和根据权利要求1至8中任一项所述的壳体元件(102)构成的组合，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：比约恩，
申请(专利权)人：爱尔铃克铃尔股份公司，
类型：发明
国别省市：