曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置，以通过有效地除去光掩模（Ｍ）和台板（５）上的粘附性灰尘而实现成品率高的曝光。第一清洁头（１）安装在输入手（３）的曝光部（２０）侧，在输入手（３）进行输入动作时，刮刀（１１）在预定位置伸出并接触台板（５）的上表面，随着输入手（３）的移动而在台板（５）上移动的同时除去灰尘。第二清洁头（２）安装在输出手（４）的曝光部（２０）侧，在输出手（４）向曝光部（２０）进行移动和／或输出动作期间进行光掩模（Ｍ）的除尘。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及曝光装置(exposing device)。 技术背景光蚀刻法(photolithographic method)在涂抹光致抗蚀剂等感光材料 的基板表面上通过曝光装置感光烧上预定的图案，而后通过蚀刻工序在 基板上形成图案，这种光蚀刻法在各种领域广泛应用，且印刷配线基板 等近年来也使用曝光装置来制造。在印刷配线基板(print circuit board)的曝光装置中，如果在光掩模 (photomask)和基板之间存在灰尘，则存在该部分未曝光而成为不合格 产品的问题。在该灰尘中，有例如铜箔那样其自身没有粘附性的灰尘和干膜光致 抗蚀剂(dry film photo resist)及抗焊剂(solder resist)那样其自身具有 粘附性的灰尘，为除去此类灰尘而在曝光装置中设置除尘装置的方案在 日本第3533380号专利，第2847808号专利等中已经提出。专利文献l:日本专利第3533380号专利文献2:日本专利第2847808号但现状是，上述现有技术均为使用清洁辊的构造，对抗蚀剂那样具 有粘附性的灰尘几乎没有效果。此外，在曝光装置中，由于存在真空贴 紧和曝光工序，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，该曝光装置具备：装载待曝光印刷配线基板的台板；进行将该印刷配线基板装载于台板上的基板输入的基板输入装置；将该印刷配线基板从台板输出的基板输出装置；以及描绘待曝光图案的光掩模，其特征在于，该曝光装置具备：　　　　第一刮刀装置，其与上述基板输入装置联动地移动，对上述台板进行除尘，和　　　　第二刮刀装置，其与上述基板输出装置联动地移动，对上述光掩模进行除尘。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：渡辺义光，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：JP[日本]