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低温等离子体工业废气处理装置制造方法及图纸

技术编号:3718713 阅读:194 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术属于环境保护技术领域,是低温等离子体工业废气处理装置,包括低温等离子体放电板、电源、外壳中框、上接口、下接口,上接口与下接口分别位于外壳中框的下上端,下接口接有进气管,上接口接有排气管,低温等离子体放电板至少设有一块,且位于外壳中框内,每块低温等离子体放电板由金属电极与介质板组成,金属电极至少设有一对,成对的对称的均匀分布在介质板的两面,并与电源相连。本实用新型专利技术可以在常压下处理废气,可以在废气流速达15米/秒的状态下工作,可以高速大流量处理废气。本实用新型专利技术处理废气范围广,不但适用于H↓[2]S、CS↓[2]等废气的处理,还可用于烃类、SO↓[2]、芳香烃类、多环芳香烃、氟里昂、哈龙等废气的处理。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于环境保护
,涉及一种工业废气处理装 置,具体的说是低温等离子体工业废气处理装置。技术背景随着社会工业化程度的不断提高,由工业废气造成的环境污染问 题也日益严重。寻求一种切实可行又经济实惠的方法来降解有机污物以及ftS、 CS2、 so2、碳氢化合物、氟里昂、哈龙等物质是一项很有意义的工作。在已有的方法中焚烧处理这类物质不太合适,因为氟里昂, 哈龙,多环芳烃等物质具有很高的耐热稳定性。使用焚烧法必须将整 个体系的温度加热到很高才能破坏它们,这样造成能源的浪费,又会 产生比较严重的二次污染,且有腐蚀问题,催化燃烧法对氟里昂,哈 龙是不合适的,虽对有机污染有效,但是对大流量,高流速废气的治 理,仍存在气阻大,效率低等问题,而且,硫,磷,卤素等易使催化 剂中毒,从而使催化剂寿命縮短性能降低。吸附一解吸方法也存在吸 附容量,气阻,普适性等问题。经研究表明,等离子体中存在大量活性粒子,这些粒子可以破坏 污染气体中的难降解物质。如何利用等离子体来处理环境中的有毒及 难解物质是近年来研究的热点,己经有人做了不少工作。例如,Clements J.S等人用脉冲电晕放电产生常压等离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
低温等离子体工业废气处理装置,包括低温等离子体放电板、电源、外壳中框、上接口、下接口,上接口与下接口分别位于外壳中框的下上端,下接口接有进气管,上接口接有排气管,低温等离子体放电板至少设有一块,且位于外壳中框内,其特征在于:所述每块低温等离子体放电板由金属电极与介质板组成,所述金属电极至少设有一对,成对的对称的均匀分布在介质板的两面,并与电源相连。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:万京林
申请(专利权)人:万京林万荣林
类型:实用新型
国别省市:84[]

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