用于检测电弧的方法和设备技术

本发明专利技术设计用于在等离子工艺中检测电弧的一种方法和电弧检测装置（１），包括至少一个比较器（ＡＤＣ），为所述比较器提供ＡＣ发生器的输出信号或者与所述输出信号有关的内部信号作为评估信号，还为所述比较器提供参考值（Ｒ１到Ｒ４），其中，比较器（３到６）连接到逻辑器件（１６），所述逻辑器件（１６）生成用于电弧抑制设备（２３）的信号。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在由AC发生器供给的等离子工艺中检测电弧的一种方法，其中AC发生器的一个输出信号用于供电。
技术介绍
在等离子工艺中，采用传统的反应的方式通过溅射/阴极溅射对物质(例如玻璃表面)的涂敷，在建筑玻璃涂敷中是已知的。为了该目的，电流源或电压源生成等离子，所述等离子从目标上移除沉积到衬底(例如玻璃面板)上的物质。在沉积之前，根据所期望的涂敷，可以在反应过程中将原子约束为气体原子或者气体分子。经常使用通常工作在10到500kHz频率的MF发生器，尤其是对于反应过程。通常将MF发生器的输出电压提供给等离子工艺室的两个电极，这两个电极交替地作为阴极和阳极工作，并且每一个连接一个目标。存在所谓的自由振荡MF发生器，或者固定频率的MF发生器。尤其是，在反应过程中，MF发生器还频繁地产生火花，称为微电弧，其通常在下一个电压翻转过程中或者至少在几个周期之后熄灭。然而，可能发生具有较高能量和较长持续时间的电弧。经常通过检查输出电压的电压降或者通过检查输出电压的电流增大，来检测电弧。可选择地，电弧可以通过通到各个电极的电流之间的差值来识别。在传统设备中，用户可以调节电弧检测限定值。测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
在由ＡＣ发生器供给的等离子工艺中的电弧检测方法，其中所述ＡＣ发生器的输出信号用于供电，所述方法包括以下方法步骤：ａ．确定时刻（ｔ１到ｔ５），在该时刻，作为评估信号的所述输出信号或者与所述输出信号有关的信号在所述评估信号的正半波（３０）中超过了参考值（Ｒ１到Ｒ４），或者在所述评估信号的负半波中下降到低于所述参考值，和／或者ｂ．确定随后的时刻（ｔ６到ｔ１０），在该时刻，所述评估信号在所述评估信号的正半波（３０）中的相同半波（３０）中下降到低于所述参考值（Ｒ１到Ｒ４），或者在所述评估信号的负半波中超过所述参考值，ｃ．使用所述时刻（ｔ１到ｔ１０）中的至少一个，确定至少一个时间间隔（１１到１５），ｄ．对...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯文阿克森贝克，马库斯班瓦尔特，梅尔廷施托伊贝尔，彼得维德姆特，洛塔尔沃尔夫，
申请(专利权)人：许廷格电子有限及两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]